公开(公告)号：CN109656093B

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN201811060653.3

申请日：2018-09-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑镛席 ,  朴成训 ,  金钟洙 ,  裵硕钟

IPC: G03F1/36

Abstract: 一种设计光掩模的布局的方法和制造光掩模的方法，该设计光掩模的布局的方法包括：获得掩模图案的设计布局；对设计布局执行光学邻近校正以获得设计数据；获得在根据设计数据曝光光掩模期间出现的图案的位置误差数据；基于位置误差数据来校正图案的位置数据以校正设计数据；以及将经校正的位置数据提供给曝光设备以根据经校正的设计数据用曝光光束来曝光衬底。

公开(公告)号：CN118466107A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202410174800.9

申请日：2024-02-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金孝娟 ,  裵硕钟 ,  朴强浩 ,  金俞利

IPC: G03F1/36

Abstract: 在制造光掩模的方法中，可以设计要在光掩模中形成的目标图案的布局。可以执行目标图案的位移误差的建模，并且可以基于目标图案的位移误差的建模来生成目标图案的位移误差校正图。可以在反映目标图案的位移误差校正图的空白掩模上执行曝光工艺。可以在空白掩模上执行显影工艺和蚀刻工艺以形成光掩模。

公开(公告)号：CN118011739A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202311481913.5

申请日：2023-11-08

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 裵硕钟 ,  朴强浩 ,  申文圭 ,  李明秀 ,  李昊骏

IPC: G03F7/20

Abstract: 公开了掩模曝光系统、掩模曝光方法和电子束校正方法。该掩模曝光系统包括：腔室；配置为接收掩模的载物台；一个或更多个掩模温度传感器；配置为将电子束照射在掩模上的束源；偏转器，配置为在腔室中通过基于施加到偏转器的电压电平使电子束偏转来调节电子束照射在掩模上的位置；配置为测量腔室的内部温度的腔室温度传感器；以及控制器，配置为控制电子束的偏转方向和偏转程度。控制器配置为基于掩模的温度和腔室的内部温度之间的差异来校正施加到偏转器的电压电平。

公开(公告)号：CN115704774A

公开(公告)日：2023-02-17

申请号：CN202210725868.2

申请日：2022-06-23

Applicant: 三星电子株式会社 ,  天主教鲁汶大学

Inventor： 裵硕钟 ,  约翰·霍夫肯斯 ,  袁海峰 ,  弗利普·德永

IPC: G01N21/64 ,  G01N21/01 ,  G03F7/20

Abstract: 根据示例实施例，提供了光刻胶检查设备、光刻胶检查方法以及电子束曝光设备。所述光刻胶检查方法包括：在衬底上提供光刻胶；用电子束和激发束照射所述光刻胶；检测由所述光刻胶响应于所述激发束而生成的荧光；以及基于所述荧光评价所述光刻胶。

公开(公告)号：CN109656093A

公开(公告)日：2019-04-19

申请号：CN201811060653.3

申请日：2018-09-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑镛席 ,  朴成训 ,  金钟洙 ,  裵硕钟

IPC: G03F1/36

Abstract: 一种设计光掩模的布局的方法和制造光掩模的方法，该设计光掩模的布局的方法包括：获得掩模图案的设计布局；对设计布局执行光学邻近校正以获得设计数据；获得在根据设计数据曝光光掩模期间出现的图案的位置误差数据；基于位置误差数据来校正图案的位置数据以校正设计数据；以及将经校正的位置数据提供给曝光设备以根据经校正的设计数据用曝光光束来曝光衬底。