公开(公告)号：CN1312529C

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：CN02131645.7

申请日：2002-09-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申仁均 ,  孙正玟 ,  尹熙璇 ,  崔成云

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70125 ,  G03F1/34 ,  G03F1/50

Abstract: 提供了一种能够实现轴外照射(OAI)的光掩模和制造该光掩模的方法。此光掩模包含透明衬底；形成在透明衬底前表面上的多个不透明图形，用于限定形成图形散光照明部分；形成在透明衬底背面上的多个相位光栅，允许超过曝光装置的OAI极限的入射光源的轴外照射(OAI)，允许用在孔的最外区，允许修正的照射具有适于不透明图形的布局的形状。

公开(公告)号：CN1437069A

公开(公告)日：2003-08-20

申请号：CN02131645.7

申请日：2002-09-12

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申仁均 ,  孙正玟 ,  尹熙璇 ,  崔成云

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70125 ,  G03F1/34 ,  G03F1/50

Abstract: 提供了一种能够实现轴外照射(OAI)的光掩模和制造该光掩模的方法。此光掩模包含透明衬底；形成在透明衬底前表面上的多个不透明图形，用于限定形成图形散光照明部分；形成在透明衬底背面上的多个相位光栅，允许超过曝光装置的OAI极限的入射光源的轴外照射(OAI)，允许用在孔的最外区，允许修正的照射具有适于不透明图形的布局的形状。