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公开(公告)号：CN106941068A
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：CN201611103022.6
申请日：2016-12-05
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/324
Abstract: 提供了一种挡板、一种使用挡板的等离子体处理设备、一种基板处理设备和一种处理基板的方法。所述等离子体处理设备包括基座、容纳基座并且包围反应空间的室外壳以及环形地围绕基座的环形挡板。挡板包括具有导电材料的第一层和具有非导电材料的第二层，并且第二层比第一层接近于反应空间。
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