公开(公告)号：CN118259544A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311455544.2

申请日：2023-11-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 高行德 ,  姜哲 ,  郭允铉 ,  金旻相 ,  李善英 ,  李昶宪 ,  林圭铉 ,  蔡贞厦 ,  韩盛现

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 提供抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法，所述抗蚀剂组合物包括由下式1表示的有机金属化合物、和包括由下式2表示的重复单元的聚合物，其中，在式1和2中，M11、R11、R12、n、A21、L21‑L23、a21‑a23、R21‑R24、b22、p、和X21如说明书中所描述的。式1M11(R11)n(OR12)(4‑n)式2#imgabs0#

公开(公告)号：CN119823306A

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN202411412848.5

申请日：2024-10-11

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李在俊 ,  姜哲 ,  金荷娜 ,  都星安 ,  文勇勋

IPC: C08F212/14 ,  C08F220/30 ,  C08F212/12 ,  C08F220/22 ,  G03F7/004

Abstract: 提供聚合物、包括其的抗蚀剂组合物及使用其形成图案的方法，所述聚合物包括由下面的式1表示的第一重复单元和由下面的式2表示的第二重复单元的。在式1和2中，L11至L13、L21至L24、a11至a13、a21至a24、A11、A21、X11、R11、R12、R21至R23、b12、b22、b23、p11、和p21如说明书中所描述的。#imgabs0#