Invention Publication
- Patent Title: 一种场发射器件及其制备方法
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Application No.: CN202411520259.9Application Date: 2024-10-29
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Publication No.: CN119542091APublication Date: 2025-02-28
- Inventor: 张锦文 , 王旸
- Applicant: 北京大学
- Applicant Address: 北京市海淀区颐和园路5号北京大学
- Assignee: 北京大学
- Current Assignee: 北京大学
- Current Assignee Address: 北京市海淀区颐和园路5号北京大学
- Agency: 北京君尚知识产权代理有限公司
- Agent 李文涛
- Main IPC: H01J3/02
- IPC: H01J3/02 ; H01J9/00 ; H01J9/18 ; H01J9/02

Abstract:
本发明公开了一种场发射器件及其制备方法,属于真空微纳电子器件领域。本发明制备的场发射器件包括栅‑阳极一体结构和阴极结构;栅‑阳极一体结构包括位于高导电阳极背面的金属电极,位于高导电阳极正面的阳极‑栅极绝缘层,位于阳极‑栅极绝缘层上的图形化栅极层,位于栅极层上的栅极‑阴极绝缘层,以及位于栅极‑阴极绝缘层上的栅极金属引线电极;其中栅极金属引线电极临近栅极工作区域,连接于栅极层;阴极结构包括衬底,位于衬底正面的阴极,以及位于阴极背面的金属电极;阴极结构的阴极一侧固定在栅‑阳极一体结构的栅极工作区域的栅极‑阴极绝缘层上。本发明能够增强器件的性能优化与调控能力,降低制备成本和难度。
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