Invention Publication
- Patent Title: 全耗尽SOI衬底上MOSFET的电容模型提取方法
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Application No.: CN202210818863.4Application Date: 2022-07-13
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Publication No.: CN115270667APublication Date: 2022-11-01
- Inventor: 陈静 , 任志鹏 , 葛浩 , 胡一波 , 尹伊哲
- Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Applicant Address: 上海市长宁区长宁路865号
- Assignee: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Current Assignee: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Current Assignee Address: 上海市长宁区长宁路865号
- Agency: 上海盈盛知识产权代理事务所
- Agent 孙佳胤
- Main IPC: G06F30/30
- IPC: G06F30/30

Abstract:
本发明提供了一种全耗尽SOI衬底上MOSFET的电容模型提取方法,包括如下步骤:将MOSFET源极、漏极短接并提供交流电压小信号,在背栅提供直流偏置,直流偏置使沟道区处在积累和反型状态,并在上述两状态下分别测量MOSFET在栅极的交流电流小信号,得出沟道电容Cgc;将MOSFET的源极、漏极与背栅短接并提供交流电压小信号,在MOSFET的栅极测量交流电流小信号,得到栅极电容Cgg;根据测得的沟道电容Cgc和栅极电容Cgg计算得出前栅氧化层电容Cox与埋氧层电容Cbox。本发明根据全耗尽SOI衬底的特点对电容模型进行重建,能够准确的提取采用FDSOI衬底的MOSFET前栅氧化层和埋氧层电容。
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