Invention Publication
- Patent Title: 一种对称式光栅外差干涉二次衍射测量装置
- Patent Title (English): Symmetric-type grating heterodyne interference secondary diffraction measuring device
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Application No.: CN201310596451.1Application Date: 2013-11-21
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Publication No.: CN103673892APublication Date: 2014-03-26
- Inventor: 胡金春 , 朱煜 , 陈龙敏 , 尹文生 , 高阵雨 , 张鸣
- Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
- Applicant Address: 北京市海淀区100084信箱82分箱清华大学专利办公室
- Assignee: 清华大学,北京华卓精科科技有限公司
- Current Assignee: 清华大学,北京华卓精科科技股份有限公司
- Current Assignee Address: 北京市海淀区100084信箱82分箱清华大学专利办公室
- Agency: 北京鸿元知识产权代理有限公司
- Agent 邸更岩
- Main IPC: G01B11/02
- IPC: G01B11/02

Abstract:
一种对称式光栅外差干涉二次衍射测量装置,该装置主要包括激光器、1/4波片、分光系统、光电转换系统、偏振分光镜、反射镜和光栅等。激光器射出的双频激光通过1/4波片后进入分光系统,被分为三路。除一路进入参考光路光电转换系统外,剩余两路进入正负测量光路偏振分光镜,其中反射s光以据相应衍射级次设定的入射角照射到光栅上,经过二次衍射后在偏振分光面上与p光发生干涉,之后进入测量光路光电转换系统。当光栅移动时,测量光路光电转换系统检测到包含位移信息的两路信号,通过这两路信号可解得光栅水平和垂向位移。由于测量光经二次衍射后能否原路返回仅取决于入射角,与光栅位移无关,因此该装置能够实现水平大行程及垂向位移测量。
Public/Granted literature
- CN103673892B 一种对称式光栅外差干涉二次衍射测量装置 Public/Granted day:2016-03-30
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