Invention Publication
CN103668085A 脉冲激光沉积装置
无效 - 驳回
- Patent Title: 脉冲激光沉积装置
- Patent Title (English): PLD (pulse laser deposition) device
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Application No.: CN201310619627.0Application Date: 2013-11-29
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Publication No.: CN103668085APublication Date: 2014-03-26
- Inventor: 章嵩 , 王传彬 , 沈强 , 张联盟 , 涂溶
- Applicant: 武汉理工大学
- Applicant Address: 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
- Assignee: 武汉理工大学
- Current Assignee: 武汉理工大学
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
- Agency: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司
- Agent 崔友明; 许美红
- Main IPC: C23C14/28
- IPC: C23C14/28

Abstract:
本发明公开了一种脉冲激光沉积装置,包括沉积腔以及设于沉积腔内的靶材和基板座,所述的基板座与靶材相对设置,沉积腔腔体上设有与靶材倾斜相对的光学窗口,用于入射脉冲激光以轰击靶材,靶材烧蚀后产生等离子气并到达基板座上的基板表面,作用生成目标薄膜,所述的靶材为圆盘状,包括多种不同材料的扇形体;由于靶材是多种不同单元材料构成的多元靶材,绕中心轴旋转时,脉冲激光光束周期性照射在各单元靶材表面,由各单元靶材产生的等离子气在基板上进行自组装,形成所需的目标薄膜材料,通过调整多元靶材中的不同材料的面积比,即可得到任意比例的薄膜。
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IPC分类: