Invention Grant
CN102172877B 一种用于高精密和超薄化晶片的磨削装置
失效 - 权利终止
- Patent Title: 一种用于高精密和超薄化晶片的磨削装置
- Patent Title (English): Grinding device for high-precision ultrathin wafer
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Application No.: CN201110038639.5Application Date: 2011-02-16
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Publication No.: CN102172877BPublication Date: 2012-12-19
- Inventor: 蒋书运 , 徐春冬
- Applicant: 东南大学
- Applicant Address: 江苏省南京市四牌楼2号
- Assignee: 东南大学
- Current Assignee: 东南大学
- Current Assignee Address: 江苏省南京市四牌楼2号
- Agency: 南京苏高专利商标事务所
- Agent 柏尚春
- Main IPC: B24B29/00
- IPC: B24B29/00 ; B24B41/04 ; F16C32/06

Abstract:
本发明公开了一种用于高精密和超薄化晶片的磨削装置,包括轴承、外壳、砂轮、砂轮盘、主轴、冷却水套、电机定子、电机转子和密封圈,轴承是气体轴承,气体轴承由上环片、中环片、下环片和中空管组成,上环片和下环片上分别设有进气通孔,并且进气通孔中设置有多孔质材料层;中空管上设置节流通孔,每个节流通孔中设置有节流器;中空管中部内壁上设置有出气槽,中环片中设置有出气孔,外壳还设置有出气口,出气槽通过出气孔和出气口与外部相通。该结构的磨削装置中的轴承具有很高的轴向承载力和刚度,并且轴承摩擦损耗低、精度高,满足加工高精密和超薄化晶片的技术要求。
Public/Granted literature
- CN102172877A 一种用于高精密和超薄化晶片的磨削装置 Public/Granted day:2011-09-07
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