公开(公告)号：CN117700297A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202311707802.1

申请日：2023-12-13

Applicant: 武汉光谱同位素科技有限公司

Inventor： 戴佳明 ,  叶珉昊 ,  高晓东 ,  唐欢

IPC: C07C17/16 ,  C01B7/09 ,  C07C19/075 ,  B01J19/00 ,  B01J4/00 ,  B01D3/00

Abstract: 本发明提出一种碳13溴甲烷(C13H3Br)的制备方法，以Br2和氢气为反应原料，燃烧生成HBr气体，再分离净化得到高纯度的HBr气体；HBr气体通入喷射吸收器，喷射吸收器内碳13甲醇溶液吸收HBr后生成C13H3Br，反应结束后，反应液经精馏和干燥后得到C13H3Br；本发明反应装备所述喷射吸收器连接循环泵，将反应液回流至喷射器中。本发明避免制备HBr溶液，无需使用催化剂，缩短了反应流程，没有副产物，原料可以循环利用，原子经济性好；采用喷射吸收器进行充分的气液接触吸收的方式进行取代反应，促进了反应物混合，提高了产品的选择性与收率；反应装置依次连接可进行连续制备，促进了反应平衡的正向移动。

公开(公告)号：CN117447297A

公开(公告)日：2024-01-26

申请号：CN202311397267.4

申请日：2023-10-26

Applicant: 武汉光谱同位素科技有限公司

Inventor： 戴佳明 ,  叶珉昊 ,  高晓东 ,  唐欢 ,  龙泉 ,  高梦晨 ,  蔡枭

IPC: C07C17/16 ,  C07C17/38 ,  C07C19/075 ,  B01J19/24 ,  B01J19/30 ,  B01J19/02 ,  B01J19/00

Abstract: 本发明提出了一种氘代溴甲烷的制备方法和制备装置，该制备方法包括以下步骤：S1，将HBr溶液与CD3OD注入反应器内发生取代反应生成CD3Br；S2，取代反应结束后，经蒸发、分层和干燥后得到氘代溴甲烷。为解决卤素单质反应时需加入贵金属催化剂与配体在高压下反应，条件苛刻且收率低的问题，本申请采用HBr代替卤素直接与CD3OD发生取代反应，无需催化剂和配体，且收率高于单质卤素反应时的收率，具有成本低、收率高的优点。

公开(公告)号：CN117700301A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202311715326.8

申请日：2023-12-13

Applicant: 武汉光谱同位素科技有限公司

Inventor： 戴佳明 ,  叶珉昊 ,  高晓东 ,  龙泉 ,  高梦晨 ,  蔡枭

IPC: C07C29/14 ,  C07C29/147 ,  C07C31/04 ,  C07C51/34 ,  C07C53/02 ,  C07C45/40 ,  C07C47/048 ,  C07B59/00

Abstract: 本发明提出了一种氧18甲醇的制备方法，包括以下步骤：乙烯与氧化剂在吸收器内与重氧水H218O接触，在液相环境中被氧化为含18O的甲醛与甲酸，随后加入适量的还原剂将氧18甲醛与氧18甲酸还原为氧18甲醇，最后用精馏法提纯水溶液，得到高纯氧18甲醇CH318OH产品。其中，乙烯氧化过程使用的氧化剂为18O3，由臭氧发生器采用纯18O2为原料进行制备，还原过程采用的还原剂为氢化钠、氢化铝锂或硼氢化钠中的一种或多种。本发明采用18O2为原料，以重氧水H218O为溶剂，全程不与含16O的物料进行接触，保证了产品的丰度，同时整体反应条件温和，可在较低温度与压力下进行反应，流程简单可操作性高，经济效益好。

公开(公告)号：CN221238211U

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202322895992.6

申请日：2023-10-26

Applicant: 武汉光谱同位素科技有限公司

Inventor： 戴佳明 ,  叶珉昊 ,  高晓东 ,  唐欢 ,  龙泉 ,  高梦晨

IPC: F28D15/02 ,  F28F21/06

Abstract: 本实用新型提出了一种氟塑料换热设备，包括壳体、氟塑料盘管和隔板，所述隔板设于壳体中间，所述隔板将所述壳体分为互不连通的加热区和冷却区；所述加热区和冷却区内分别注入加热介质与冷却介质，所述氟塑料盘管内注入换热介质；所述氟塑料盘管交替穿过隔板，所述氟塑料盘管一部分位于加热区，另一部分位于冷却区。本实用新型在加热与冷却介质之间，增加一个容易发生相变化的中间介质，由于中间介质蒸发与冷却等相变化过程的传热系数远高于自然流动，这就抵消了四氟材质本身换热能力底下的缺陷，进而提高了设备整体的换热效率。

公开(公告)号：CN221286928U

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN202322915742.4

申请日：2023-10-26

Applicant: 武汉光谱同位素科技有限公司

Inventor： 戴佳明 ,  叶珉昊 ,  高晓东 ,  唐欢 ,  龙泉

IPC: B01D3/42

Abstract: 本实用新型提出了一种回流比控制装置，包括壳体、固定板、挡板和电机；所述壳体顶部设有第一进料口，所述挡板位于壳体内部第一进料口的下方，所述固定板竖向设于挡板的下方，所述固定板将挡板下方的壳体分为回流区和出料区；所述回流区和出料区底部分别设有回流口和出料口；所述电机设于壳体外部，且与挡板连接，所述挡板在电机的作用下上下转动。本实用新型的驱动挡板转动的电机位于壳体外部，与电磁线圈相比不受壳体内部液体腐蚀的影响，同时也便于后期维修；同时本实用新型结构较少，容易进行密封以及防腐处理，可以适用于复杂物料场合。