高纯无水复合稀土卤化物及其制备方法

    公开(公告)号:CN106745163B

    公开(公告)日:2018-10-19

    申请号:CN201510824401.3

    申请日:2015-11-24

    Abstract: 本发明涉及一种制备高纯无水复合稀土卤化物的方法,所述复合稀土卤化物的通式为A2BMX6,其中A为Rb或Cs,B为Li或Na,M为稀土元素La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sc、Y的一种或两种,X为卤素元素Cl、Br、I中的一种,该方法包括(1)制备混合溶液、(2)浓缩、(3)脱水和(4)脱铵步骤,所述步骤(1)采用卤化铵NH4X作为脱水剂。此外,本发明还提供了通过前面所述的制备方法获得的高纯无水复合稀土卤化物。采用本方法制备的无水复合稀土卤化物不含结晶水和氧化物杂质,具有很高的纯度和良好的均匀性,可满足闪烁晶体、闪烁陶瓷等材料的应用需求。

    无机闪烁材料
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105778900B

    公开(公告)日:2018-03-16

    申请号:CN201410822079.6

    申请日:2014-12-24

    Abstract: 本发明涉及一种无机闪烁材料,该材料的化学通式为MaM’bSrcEudIeXf,M选自碱土金属元素Ca或Ba,M’选自碱金属元素Na或Cs,X选自卤素元素Cl或Br,0<a≤0.2,0<b≤0.001,0.6≤c≤1,0<d≤0.2,1.6<e≤2,0<f≤0.4,且2(a+c+d)+b=e+f。另外,还涉及制备该无机闪烁材料的方法以及该无机材料的用途。本发明的无机闪烁材料不仅具有高光产额、高能量分辨率等特点,同时衰减时间明显更快;并且不易潮解。

    真空紫外线激发的高色域覆盖率的绿色荧光粉及制造方法

    公开(公告)号:CN101372616B

    公开(公告)日:2011-11-09

    申请号:CN200710120747.0

    申请日:2007-08-24

    Abstract: 本发明涉及一种真空紫外线激发的高色域覆盖率的绿色荧光粉及其制备方法,也就是对其色坐标值的有效调节。该绿色荧光粉的色坐标x值的有效调节范围是0.120≤x≤0.165,色坐标y值的有效调节范围是0.730≤y≤0.790,其中当x=0.135±0.005、y=0.765±0.005时,对于发光亮度和色域覆盖率这两个指标的平衡效果较佳。这种荧光粉的化学式是:MaMgbPcAldOe:MnL,其中M为Li、Na、K、Ca、Sr、Ba、Zn、B、Si、Bi中至少一种;其中0.9<a≤2.2,0<b≤2,0<c≤2,6≤d≤14,16≤e≤24,0.04≤L≤0.35。其制造方法为:将上述化学式中的元素单质、氧化物或相应盐类,加入助熔剂,混磨均匀后,在一定气氛下高温烧结,经过后处理得到该荧光粉材料。本发明的荧光粉具有化学稳定性好、色域覆盖率大、发光强度高的显著特点,且制造方法简单、成本低、易实现产业化。

    一种红色荧光粉及其制备方法和所制成的发光器件

    公开(公告)号:CN102108297A

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN200910244361.X

    申请日:2009-12-29

    Abstract: 本发明涉及一种可被紫外、紫光或蓝光有效激发的红色荧光粉及其制备方法和所制成的发光器件。其中涉及的荧光粉的化学式为:M1aM2bOc:Eud,Re其中,M1为Ca、Sr、Ba、Zn和Mg中至少一种;M2为Sc,Al,Ga,Y,La,Gd,Lu中至少一种;R为Dy,Tm,Tb,Pr中的一种或几种;其中0.7≤a≤1.2,1.6≤b≤2.4,3.2≤c≤4.8,0.005≤d≤0.2,0≤e≤0.1。将所有的原料及助熔剂混磨均匀后,在还原气氛下高温焙烧,再经后处理即可得到上述荧光粉。本发明的荧光粉具有化学稳定性好、有效激发范围宽、发射覆盖范围宽等特点,制造方法简单、成本低、易于工业化。用本发明的荧光粉配合紫外、紫光或蓝光LED可制成发光器件。

    高纯无水稀土卤化物及其制备方法

    公开(公告)号:CN107487778B

    公开(公告)日:2019-12-31

    申请号:CN201610410901.7

    申请日:2016-06-13

    Abstract: 本发明公开了一种制备高纯无水稀土卤化物的方法,利用稀土卤化物粗品的水解反应来制取HX气体,进而利用干燥HX气体对稀土卤化物粗品进行除氧纯化,获得通式为REX3的高纯无水稀土卤化物,其中RE选自稀土元素La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Sc、Y的任意一种,X为卤素元素Cl或Br。此外,本发明还公开了通过该方法获得的高纯无水稀土卤化物以及通过该高纯无水稀土卤化物制备得到的闪烁晶体、陶瓷或薄膜材料。采用本方法制备的无水稀土卤化物不含结晶水和氧化物杂质,具有很高的纯度和良好的均匀性,且成本低廉,可满足闪烁晶体、闪烁陶瓷等材料的应用需求。

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