电光晶体Z轴偏离角测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN105066910B

    公开(公告)日:2017-06-30

    申请号:CN201510515313.5

    申请日:2015-08-21

    Abstract: 本发明公开了一种电光晶体Z轴偏离角测量装置及测量方法,包括:按光路依次放置的激光器(101)、显微物镜(102)、针孔(103)、可调光阑(104)、准直透镜(105)、起偏器(106)、反射镜(107)、分束立方体(108)、光屏(109)、透镜一(110)、待测晶体(111)、透镜二(112)、检偏器(113)、成像透镜(114)、探测器(115)和计算机处理系统(116);其中,起偏器(106)和检偏器(113)偏振方向垂直,透镜一(110)和透镜二(112)严格共轭,分束立方体(108)、反射镜(107)、待测晶体(111)和光屏(109)组成迈克尔逊干涉系统。通过利用迈克尔逊干涉原理实现晶体精密定位,采用图像匹配算法实现光轴出露点中心计算,完成电光晶体Z轴偏离角精密测量。相对于其他装置和方法具有测量精度高、测量方法简单、测量系统误差小和测量重复性好等优点。

    保持光学元件100级洁净度的方法及包装设备

    公开(公告)号:CN104816889A

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201510171769.4

    申请日:2015-04-13

    CPC classification number: B65D85/38 B65B11/02 B65B31/00 B65D81/18

    Abstract: 本发明提供了一种保持光学元件100级洁净度的方法及包装设备,保持光学元件100级洁净度的方法包括如下步骤,先将维护光学元件100级洁净度进行超声波清洗并烘干;然后在100级洁净度的环境中用优级乙醇进行擦拭去水,并压缩空气吹拂;最后使用洁净薄膜将包装设备密封。实现该方法的设备包括洁净薄膜、保持光学元件100级洁净度的包装设备。本发明的方法和设备,适用于需要改变洁净环境存放,但又需要保持其原洁净等级和表面等级要求的光学元件,操作简单,不需要额外的操作工具,不受光学元件的形状和规格限制,即节省光学元件再次洁净的时间损耗和风险,又延长了光学元件的使用寿命,保证了研究实验的持续性和延展性。

    基于图像互相关匹配的电光晶体光轴出露点提取方法

    公开(公告)号:CN106407987B

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201610786512.4

    申请日:2016-08-31

    Abstract: 本发明公开了一种基于图像互相关匹配的电光晶体光轴出露点提取方法,属于光学精密检测技术领域,解决利用偏光干涉图确定电光晶体的光轴方向方法中光轴出露点的提取精度差的问题。本发明具体如下:获得偏光干涉图I,模拟得到合适的初始特征模板T0;对初始特征模板T0进行几何变换,获得不同大小不同旋转角度下的一系列特征模板图像Tmn;将特征模板Tmn分别和偏光干涉图I进行图像互相关匹配运算,用相关系数rmn(x,y)定量特征模板Tmn和偏光干涉图I的相关程度,经过图像互相关匹配运算,得到在特征模板Tmn下的最大相关系数rmn‑max和最大相关系数的位置坐标(xmn,ymn);并选取最大相关系数rmn‑max中的最大值rmax的位置坐标(xmax,ymax)作为光轴出露点的位置坐标。

    基于图像互相关匹配的电光晶体光轴出露点提取方法

    公开(公告)号:CN106407987A

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201610786512.4

    申请日:2016-08-31

    Abstract: 本发明公开了一种基于图像互相关匹配的电光晶体光轴出露点提取方法,属于光学精密检测技术领域,解决利用偏光干涉图确定电光晶体的光轴方向方法中光轴出露点的提取精度差的问题。本发明具体如下:获得偏光干涉图I,模拟得到合适的初始特征模板T0;对初始特征模板T0进行几何变换,获得不同大小不同旋转角度下的一系列特征模板图像Tmn;将特征模板Tmn分别和偏光干涉图I进行图像互相关匹配运算,用相关系数rmn(x,y)定量特征模板Tmn和偏光干涉图I的相关程度,经过图像互相关匹配运算,得到在特征模板Tmn下的最大相关系数rmn-max和最大相关系数的位置坐标(xmn,ymn);并选取最大相关系数rmn-max中的最大值rmax的位置坐标(xmax,ymax)作为光轴出露点的位置坐标。

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