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公开(公告)号：CN106574985B
公开(公告)日：2019-02-26
申请号：CN201580045227.0
申请日：2015-08-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B1/115 , G02B1/118 , B32B3/30 , B32B7/02 , C23C14/34 , C23C14/58 , G02B27/00 , C23C14/06 , C23C14/08 , C03C17/34 , C23C14/00 , B32B9/00
Abstract: 本发明提供一种能够以较高生产率制造且具有充分的光学特性的防反射膜及具备该防反射膜的光学部件。在具有透光性的基材的表面上设置的防反射膜中，包括从基材(5)侧依次层叠的薄膜多层膜(20)及微细凹凸层(30)，所述薄膜多层膜(20)由多层构成，所述微细凹凸层(30)具有以比使用光的波长短的平均间距形成的凹凸结构，且根据凹凸结构中的膜厚方向上的空间占有率的连续的变化而相对于使用光的折射率连续进行变化，多层中包括具有相对高的折射率的至少两种金属元素种类的氧化膜或硅和至少一种金属元素种类的氧化膜(21)及具有相对低的折射率的氮氧化膜(22)。
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公开(公告)号：CN107533155A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680022785.X
申请日：2016-03-17
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/118 , B32B3/30 , B32B7/02 , C03C17/245 , C03C17/25 , C03C2217/214 , C03C2217/28 , C03C2217/732 , C03C2218/32 , C03C2218/33 , C03C2218/34
Abstract: 本发明提供一种结构物的制造方法，其为具有通过进行温水处理而形成的透明的微细凹凸结构体的结构物的制造方法，该方法形成更微细的凹凸结构。一种结构物的制造方法，其为制造具有基材(11)及通过进行温水处理而形成于表面的透明的微细凹凸结构体(12c)的结构物(10)的结构物的制造方法，该结构物的制造方法具有：第一工序，在基材(11)上形成透明的微细凹凸结构体(i2c)的前体膜(12)；第二工序，在前体膜(12)的表面形成微细凹凸结构；及第三工序，对形成有微细凹凸结构的前体膜(12a)进行温水处理来形成透明的微细凹凸结构体(12c)，在第二工序中所形成的微细凹凸结构的凹凸的空间频率的峰值v0满足v＜v0(式I)。在式I中，v0为微细凹凸结构的空间频率的峰值，v为在前体膜的表面不形成微细凹凸结构时的透明的微细凹凸结构体的空间频率的峰值。
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