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公开(公告)号：CN103513316A
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN201310456357.6
申请日：2013-09-29
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/22
Abstract: 一种选择吸收滤光结构，包括：基底，位于基底上的介质微纳单元，位于介质微纳单元上的金属层，金属层全覆盖在介质微纳单元上，即介质微纳单元的脊部、槽部以及侧壁上都覆盖有金属层，所述金属层的介电常数的虚部需大于介电常数的实部的绝对值。该滤光结构具有较高的吸收效率，且对入射光的角度和偏振态不敏感。同时制备工艺简单，易于实现。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量，也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案，改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。
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公开(公告)号：CN101937115B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201010224529.3
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B32B38/06 , B29C59/04 , B32B37/203 , B32B2551/00 , B32B2590/00 , G02B6/0036 , G02B6/0065
Abstract: 一种导光膜制作装置，用于制作卷积筒状的导光膜，包括放料辊、收料辊、分离装置、压印装置和复合装置，其中该导光膜先经分离装置将保护层和基材层分离，然后通过该压印装置在该基材层的待加工面上压印出导光网点，再经过复合装置将剥离的保护层重新复合到基材层上，最后经收料辊回收形成完整的导光膜。本发明的导光膜制作装置，具有产量高、制作尺寸大以及成本低廉的特点。
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公开(公告)号：CN103317229A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310291009.8
申请日：2013-07-11
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种标签签注方法和签注系统，通过在原有的激光签注光路和记录材料之间增设一块会聚透镜，依赖会聚透镜对光线角度的改变，只需将会聚透镜物面侧的签注图像进行平移，就能在像面侧得到不同入射角度下的成像效果。不仅控制简单、成像效果好，而且能够利用该签注方法实现多种形式的签注，为个性化激光签注带来了新的应用。
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公开(公告)号：CN102937727A
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN201210517067.3
申请日：2012-12-05
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/22
Abstract: 一种滤光结构，用于可见光波段。该滤光结构由金属光栅-介质-金属膜三层结构构成，产生完美吸收的物理机制是由于激发了局域电磁共振，导致整个结构在宽波段范围内的等效阻抗与真空阻抗匹配，反射电磁被抑制，且由于金属膜的厚度较厚，电磁波也无法透射，从而形成宽带近完美吸收结构。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量，也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案，改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。
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公开(公告)号：CN102879849A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201210419189.9
申请日：2012-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，第一金属层位于介质光栅的脊部，第二金属层位于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，第一金属层的宽度大于介质光栅的脊部宽度，第二金属层的宽度小于介质光栅的沟槽宽度，介质光栅的脊部高度大于第一金属层的高度和第二金属层的高度。与现有的双层金属光栅结构相比，本发明中第一金属层的宽度大于介质光栅的脊部宽度，第二金属层的宽度小于介质光栅的沟槽宽度，使得更多的能量集中在第一金属层与第二金属层之间，最终提高了宽波段、大入射角度范围TM偏振光的透射效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101850680B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201010180251.4
申请日：2010-05-24
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有动态立体效果的安全薄膜，具有微透镜阵列层、基材层、微图文层；微图文层内包括至少6个微图文；在使用状态下，所述微图文层位于微透镜阵列的焦面附近，其特征在于：微透镜阵列层内的各微透镜的中心坐标在微透镜阵列层内随机分布，微透镜阵列层内的微透镜与微图文层内的微图文一一对应设置。本发明利用莫尔放大和微透镜技术，实现了许多独特的视觉效果，减少了工艺流程，除了紫外压印以外，还可在PET、PMMA、PC等有机薄膜材料上直接制作，具有很高的性能。
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公开(公告)号：CN102063951A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201010533228.9
申请日：2010-11-05
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H05K3/1208 , H05K3/1258 , H05K3/1283 , H05K2203/0108 , H05K2203/1131
Abstract: 本发明提供一种透明导电膜，该透明导电膜包括透明基底和导电金属，其中在透明基底上利用纳米压印技术压制出用于埋设导电金属颗粒的凹槽以及用于透光的网格，通过设计凹槽的线宽和深度以及占整个透明导电膜的比重，得到了一种透光率高且导电性好的透明导电膜。同时，由于导电金属部分被镶嵌在透明基底内部，不易脱落和氧化，并且可以采用柔性材料作为透明基底，开发出能在更多场合下应用的透明导电膜。同时本发明还提供了该透明导电膜的制作方法。
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公开(公告)号：CN101161400B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200710135195.0
申请日：2007-11-13
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种制作导光板模仁的方法，根据导光均匀性的要求，在基材表面制备形成导光网点结构，其特征在于：所述基材为具有光滑表面的金属基材，所述导光网点结构的制备方法是，利用大功率脉冲激光器经整形光路聚焦于金属基材表面，直接刻蚀形成所需的导光网点结构，即获得用于射出成型或压印的导光板模仁；同时，利用制得的模仁作为母板，通过电铸工艺进行复制，制得适合导光板制作所需的凹型或凸型模仁。本发明不需要光阻剂涂布、曝光、显影等工艺，直接在光滑金属基板表面刻蚀，制作高精度导光模仁，整个工艺流程简便，制作精度高，大大缩短了制作周期，简化了工艺过程，降低了成本，具有更快的市场反应能力。
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公开(公告)号：CN101846890A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010170978.4
申请日：2010-05-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种并行光刻直写系统，包括光源、图形发生系统、光学系统、控制系统、运动系统和工件平台，其特征在于：还设有聚焦伺服系统，所述聚焦伺服系统包括检测光路、传感器和调焦装置，所述光学系统由微缩系统和检测光路构成，其中的微缩系统采用双远心光学系统，检测光路包括检测光源、在双远心光学系统内的第一分光器件、在检测光源和第一分光器件间的第二分光器件，检测光经第一分光器件进入双远心光学系统并照射在工件平台处的工件上，反射光经第一分光器件和第二分光器件被传感器接收，控制系统根据传感器的信号控制调焦装置动作，实现伺服聚焦。本发明通过结合聚焦成像伺服系统，可以实现亚微米尺度微结构的精确光刻。
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公开(公告)号：CN101510053A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910028297.1
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头，其特征在于：由物方透镜组A和像方透镜组B两组透镜组成，A组透镜由A3、A2、A1三片透镜组成，B组透镜由B1、B2、B3、B4四片透镜组成；光线传播方向依次为A3、A2、A1、B1、B2、B3、B4；其中，A1、B1为弯月型凹透镜，A2、B2为双凸透镜，A3、B3、B4为弯月型凸透镜。本发明的像方透镜采用四片结构设计，因而其数值孔径大，干涉条纹的结构精细；限定物方数值孔径，可以减少透镜数量，降低实际加工的累积工艺误差，并且便于与干涉镜头物方的衍射光栅配合；可以在激光干涉直写系统上实现亚波长结构的制作。
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