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公开(公告)号：CN105445834A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510701449.5
申请日：2015-10-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: G02B5/1857 , G03F7/2022 , G03F7/2051
Abstract: 一种大尺寸衍射光栅的制作方法及曝光装置，采用小尺寸光栅拼接而成，曝光装置包括两级缩微模块和消零级位相光栅，第一级缩微模块为4F成像系统，第二级缩微模块为双远心缩微投影干涉成像系统，该第二级缩微模块具有比第一级缩微模块更大的缩微倍数，且该第一缩微模块的成像面构成该第二级缩微模块的输入面，该第二缩微模块的输出面构成曝光成像时的记录面，其中第一级缩微模块包括第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组，所述消零级位相光栅位于该第一傅立叶变化透镜或透镜组与第二傅立叶变化透镜或透镜组之间，当曝光光斑中的条纹位置需要调整时，将该消零级位相光栅沿着垂直于栅线方向进行平移，实现光斑中条纹位置改变。
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公开(公告)号：CN103226288B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310152954.X
申请日：2013-04-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种紫外固化微纳米结构拼版装置及拼版工艺，包括基板平台、压印机主体、驱动装置和控制系统，其中压印机主体包括压辊、光源和喷嘴，压辊上卷设有透明软压模。本发明的拼版装置采用紫外光固化工作方式，不需加热，在常温下即可工作。在压印时采用辊筒与基底采用线接触方式，能够有效排除模版和拼版材料之间的气体，降低脱模难度。采用软压膜技术，成本低，效率高，对原始模版的损伤少。
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公开(公告)号：CN104981356A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201280075075.5
申请日：2012-08-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B3/0056 , B42D25/324 , B42D25/342 , B42D25/351 , B42D25/373 , G02B5/18 , G02B5/28 , G02B5/284 , G02B27/12
Abstract: 一种彩色动态放大安全薄膜，包括微透镜阵列层（20）、基材层（21）和微图文层（22）。微图文层由背景区和图文区构成，图文区分布在背景区中。微图文层由上自下依次为半透半反金属层（223）、介质层（230）和金属薄膜层（231）。金属薄膜层为平面结构，图文区的介质层厚度大于背景区的介质层厚度。半透半反金属层厚度一致，在介质层上表面仿形设置，并嵌设在所述基材层的下表面（220）。半透半反金属层、介质层和金属薄膜层构成微腔干涉结构。该彩色动态放大安全薄膜可灵活实现微图文的彩色化输出，可利用压印方式作为大规模快速生产的有效手段，为光学安全薄膜器件提供一种重要的彩色化光学视读方案。
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公开(公告)号：CN104851523A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201510263578.0
申请日：2015-05-21
Applicant: 苏州大学
Abstract: 一种柔性透明导电膜的制作方法及制作得到的柔性透明导电膜，该制备方法利用特殊配置的低维导电材料，以纳米导电银浆为例，在银纳米颗粒外包裹带电离子基团(可为正离子或负离子)。通过外加直流电场将银纳米颗粒直接从悬浮液材料中沉积出来，经后续的退火处理，从而获得高质量的超微细透明导电电路。
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公开(公告)号：CN104460115A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201410852242.3
申请日：2014-12-31
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02F1/13357 , G02B27/22
Abstract: 一种多视角像素指向型背光模组以及裸眼3D显示装置。该多视角像素指向型背光模组包括至少两个矩形导光板，各个矩形导光板互相紧密叠合，每块矩形导光板的出光面上设有用纳米衍射光栅形成的多个不同指向的像素，每个矩形导光板的至少一条侧边上设有一光源组，该光源组发出的光进入对应的导光板内部后，在所述导光板出光面的多个像素阵列的各个像素上形成出射光。利用多层导光板的叠合，解决了在一块导光板中无法避免三光源互相干扰的问题，从而实现了像素指向型的矩形导光板，为这种具有多视角指向功能的导光板在裸眼3D显示技术中进行工业应用提供了切实可行的方案，解决了现有技术无法解决的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102937727B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201210517067.3
申请日：2012-12-05
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/22
Abstract: 一种滤光结构，用于可见光波段。该滤光结构由金属光栅-介质-金属膜三层结构构成，产生完美吸收的物理机制是由于激发了局域电磁共振，导致整个结构在宽波段范围内的等效阻抗与真空阻抗匹配，反射电磁被抑制，且由于金属膜的厚度较厚，电磁波也无法透射，从而形成宽带近完美吸收结构。该结构可应用在太阳能电池中捕获更多的能量，也能为无油墨印刷中实现黑色提供解决方案，改变必须使用颜料才能实现黑色印刷的传统观念。
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公开(公告)号：CN103921582A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410062088.X
申请日：2014-02-24
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种变色烫印膜及其制造方法，包括基膜、离型层、半透半反金属层、信息介质层、全反型金属层以及热熔胶层，所述信息介质层为可塑变的有机介质涂层，其至少一个表面或者内部设有多种高度不同的台阶，每一种台阶的高度对应一种颜色的法布里-珀罗腔。这些法布里-珀罗腔使得同一片烫印膜上，可以形成多种变色区域、变色图形和文字，也可实现不同偏振下的颜色效果，随着观察角的改变，该新型变色烫印膜的颜色也发生变化。该烫印膜采用卷对卷的方式制造，用热蒸发镀膜部分代替真空溅射镀膜，利用高效的纳米涂布方式制作有机介质涂层，利用压印手段获得台阶和微纳米结构，工艺简单高效，适合大幅面生产。
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公开(公告)号：CN103226288A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201310152954.X
申请日：2013-04-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种紫外固化微纳米结构拼版装置及拼版工艺，包括基板平台、压印机主体、驱动装置和控制系统，其中压印机主体包括压辊、光源和喷嘴，压辊上卷设有透明软压模。本发明的拼版装置采用紫外光固化工作方式，不需加热，在常温下即可工作。在压印时采用辊筒与基底采用线接触方式，能够有效排除模版和拼版材料之间的气体，降低脱模难度。采用软压膜技术，成本低，效率高，对原始模版的损伤少。
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公开(公告)号：CN103048707A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201310000818.9
申请日：2013-01-04
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种亚波长抗反射结构的制作方法，该制作方法利用化学氧化还原反应制备的金属层在快速退火时金属层会发生自凝聚现象，然后金属层形成纳米结构的金属粒子；再利用金属粒子作为干法刻蚀的掩模进行干法刻蚀，最后形成亚波长的抗反射结构。本发明的制作方法，可以制作高效的亚波长抗反射纳米结构；具有广角宽谱的抗反射效果；采用湿法制作金属掩模降低了生产设备成本，同时工艺方法成本低廉，制作简单，并可实现大面积的制作。
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公开(公告)号：CN102009517B
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201010287422.3
申请日：2010-09-20
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B41C3/08
Abstract: 本发明是一种金属母板的制作方法，该金属母板由至少两片金属子板拼接而成，各该金属子板上具有镭射图像的纹路，该方法主要采用电铸的方式，将至少两块金属子板间的拼缝进行填补，其中在该各片金属子板的拼接边上设有凹凸结构，相邻子板间的凹凸结构相互配合。通过该凹凸结构，既增加了金属子板间的电铸强度，又可以实现简单准确的对位，增加了金属母板的成品质量。
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