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公开(公告)号：CN109659091A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201710975453.X
申请日：2017-10-12
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
IPC: H01B13/00 , H01B5/14 , H05K9/00 , G02F1/1333
Abstract: 本发明涉及一种随机网格的设计方法、导电膜的制备方法、导电膜及显示装置，该随机网格的设计方法包括以下步骤：S1、在平面内生成一个规则图形，以该规则图形为单元网格在平面内周期排布，形成周期性网格；S2、获取在周期性网格中相邻单元网格的交点；S3、以每个交点为中心生成特征图形，在每个特征图形内获取一个随机点；S4、以每个随机点为新交点，按照一定顺序依次连接新交点，并删除规则图形，以形成随机网格。该随机网格的设计方法、导电膜的制备方法、导电膜及显示装置通过设计一种随机网格，并运用于导电膜上，有效地避免网格线与液晶显示器中的矩形像素单元的周期叠加，从而防止莫尔条纹的产生，提升其视觉效果。
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公开(公告)号：CN106448825B
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201610917067.0
申请日：2016-10-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01B5/14
Abstract: 本发明公开了一种图形化精细导电薄膜，其包括基底和图形化精细电极，图形化精细电极放置于基底上或嵌入到基底中，图形化精细电极的电极的宽度在50nm‑10μm之间，高度在10nm‑10μm之间，表面粗糙度在0.1nm到100nm之间。本发明同时还公开了一种图形化精细导电薄膜的制作方法。本发明实现具有精细、高透过率、低方阻、高绕曲性能的图案化电极；不存在刻蚀工艺，绿色环保，电极分辨率能达到100nm，操作简单，适合大面积、低成本生产，可以用于触控屏，太阳能电池，LCD显示，OLED显示，QLED显示等应用领域。
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公开(公告)号：CN107589783A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201710693204.1
申请日：2017-08-14
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
IPC: G06F1/16
Abstract: 本发明涉及一种电磁屏蔽面板，包含基材层和导电层，该导电层设置在该第一基材层表面，该导电层的尺寸大于基材层的尺寸。本发明还涉及一种电磁屏蔽装置，该电磁屏蔽装置包含一块或多块由所述电磁屏蔽面板组成的电磁屏蔽箱。该电磁屏蔽面板，结构简单、使用方便、成本低，可有效屏蔽外来或内部的电磁干扰。
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公开(公告)号：CN105489784B
公开(公告)日：2017-10-31
申请号：CN201510906030.3
申请日：2015-12-09
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用，制备方法包括以下步骤：(1)光掩膜版制备：将导电线栅光刻到光掩膜上；(2)电沉积模具制备：然后将线栅型光掩膜版进行紫外曝光，形成图形化线栅沟槽；(3)电沉积工艺：将金属基板放置于电铸沉积槽中，生成电沉积层；(4)生成柔性导电电极：将金属基板上涂布一层固化胶，柔性衬底覆盖于固化胶上，经过紫外固化后脱模，获得柔性导电电极。本发明制备的柔性导电电极的表面平整度只取决于所用金属基板材料的表面平整度，具有较高平整表面，制备的OLED装置不会因透明电极的表面起伏较大，引起背电极与基底相接触，造成短路而损毁，大大提升了使用寿命。
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公开(公告)号：CN106739384A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201611112295.7
申请日：2016-12-07
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B32B37/00 , B32B41/00 , B32B2457/208
Abstract: 本发明公开了一种层结构柔性触控屏的贴合对位方法，所述层结构柔性触控屏包含两层导电膜，其中一层为发射层，另一层接收层；所述层结构柔性触控屏的贴合对位方法包含以下步骤：1)、在发射层及接收层的可视区以外四周分别设置对角对位靶标，同时在柔性线路板绑定区处设置绑定区对位靶标；所述发射层及接收层的对位靶标的几何位置相同；2)、贴合采用对角对位贴合方式，其中一个对位靶标为绑定区域的靶标。本发明采用这种贴合方法，可以大幅度的提高产品柔性线路板绑定的良率、效率及稳定性，同时为于窄边框设计提供了后续的技术保障。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104981356B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201280075075.5
申请日：2012-08-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B3/0056 , B42D25/324 , B42D25/342 , B42D25/351 , B42D25/373 , G02B5/18 , G02B5/28 , G02B5/284 , G02B27/12
Abstract: 一种彩色动态放大安全薄膜，包括微透镜阵列层（20）、基材层（21）和微图文层（22）。微图文层由背景区和图文区构成，图文区分布在背景区中。微图文层由上自下依次为半透半反金属层（223）、介质层（230）和金属薄膜层（231）。金属薄膜层为平面结构，图文区的介质层厚度大于背景区的介质层厚度。半透半反金属层厚度一致，在介质层上表面仿形设置，并嵌设在所述基材层的下表面（220）。半透半反金属层、介质层和金属薄膜层构成微腔干涉结构。该彩色动态放大安全薄膜可灵活实现微图文的彩色化输出，可利用压印方式作为大规模快速生产的有效手段，为光学安全薄膜器件提供一种重要的彩色化光学视读方案。
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公开(公告)号：CN106501938A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201611047192.7
申请日：2016-11-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: G02B27/0172 , G02B2027/0174 , G03H1/2205
Abstract: 本发明公开了一种头戴式增强现实三维显示装置，利用具有能实现汇聚光场视角放大功能即纳米透镜功能的纳米光栅结构，实现三维虚拟信息的视角放大，并在人眼前投射，通过透明光场镜片实现虚拟物体与现实景物的完美融合，由于视角得以放大，使得人眼观察虚拟物体和现实景物融合的场景时难以察觉这是融合景象，使得体验更加真实，同时基于全息原理，可以方便的将计算全息与纳米结构功能光场镜片相结合，从而实现无视觉疲劳的、高亮度的、头戴式3D增强现实显示方案和装置、也可方便的实现支持3D显示图像的动态聚焦。
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公开(公告)号：CN106371218A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201610970307.3
申请日：2016-10-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明公开了一种头戴式三维显示装置，包括图像生成装置，和对应眼睛的可视镜片，所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜，从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片，所述指向性功能镜片上的纳米结构与图像生成装置输出的图像匹配，在人眼前方投射出会聚波面，形成虚拟景象；或该会聚波面与现实景象形成的波面叠加，得到真实世界信息和虚拟世界信息的融合。本发明在眼球前方的空间中会聚视角图像，形成虚拟景象，其和现实景物在人眼中成像的原理一致，因此长时间观看的视觉疲劳度比传统的三维显示技术大大降低。
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公开(公告)号：CN106061218A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610412201.1
申请日：2016-06-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
CPC classification number: H05K9/00 , H05K9/0086
Abstract: 本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法，其包括以下步骤：1)在导电基板上涂布光刻胶，然后通过光刻工艺在导电基板上形成图形结构；2)通过选择性电沉积工艺在图形结构中生长金属层，形成金属图形结构；3)通过压印工艺将金属图形结构镶嵌至柔性基底材料内，形成电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种电磁屏蔽窗的制作方法。本发明具有高透明度、耐温性好的优点，可以满足光学窗对高屏蔽性能、高成像质量、耐温性高的电磁屏蔽膜的要求、柔性电子对电磁屏蔽薄膜弯折性能的需求以及复杂结构表面贴合对屏蔽膜超薄性的要求。
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公开(公告)号：CN105374467A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510696751.6
申请日：2015-10-23
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: H01B13/0026 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01B5/14
Abstract: 本发明公开了一种纳米转印方法及纳米功能器件，其中，纳米转印方法包括如下步骤：S1.在柔性金属基板上涂布光刻胶；S2.对所述涂布光刻胶的柔性金属基板进行光刻，形成沟槽图形；S3.第一次电铸处理，形成图形电极；S4.第二次电铸处理，形成转印层；S5.通过卷对平转印模式，控制所述柔性金属基板，在相应承接基板上转印形成纳米结构材料层。本发明可在同一基板上实现不同材质的纳米电极或纳米结构功能区的转印，或者在同一基板相同区域实现多层复合结构纳米电极和功能区的转印。其利用金属基底上的图形电极作为转移模具，通过电沉积工艺，在转印模具的电极上形成纳米级材料层，并将模具上纳米级材料层转移到相应的柔性基板表面。
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