公开(公告)号：CN114019763A

公开(公告)日：2022-02-08

申请号：CN202111120476.5

申请日：2021-09-24

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  杨顺华 ,  孙秋媛 ,  丁晨良 ,  魏震 ,  刘锡 ,  刘旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置，装置主要包含四个相同光路，每个光路包含核心元件数字微镜阵列DMD和微透镜阵列MLA，用于产生千束独立可控刻写点阵，光路中DMD将有效像素区域等分成M×N个子阵列，一个子阵列对应一个子光斑，从DMD出射的M×N子光斑与MLA的M×N微透镜空间上重合后，产生M×N千束焦点阵列，并最终成像到物镜焦平面上，通过四个千束点阵的拼接，最终实现万束刻写点阵的产生，能够快速加工高质量复杂三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。

公开(公告)号：CN113189846A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN202110388124.1

申请日：2021-04-12

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  朱大钊 ,  徐良 ,  丁晨良 ,  刘旭 ,  李海峰

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/68 ,  B23K26/00 ,  B23K26/06 ,  B23K26/066 ,  B23K26/067

Abstract: 本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。

公开(公告)号：CN112882184A

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN202110061579.2

申请日：2021-01-18

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  丁晨良 ,  朱大钊 ,  魏震 ,  杨臻垚 ,  刘旭 ,  徐良

IPC: G02B7/182 ,  G02B17/02 ,  G02B27/10 ,  G02B27/14 ,  G02B7/18 ,  G02B27/58 ,  G02B27/62

Abstract: 本发明公开了一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、角度压电调节镜架、二色镜、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明可以对两束不同波长的激光束进行合束，确保光斑中心严格对准，并且对出射后的合束光进行光束稳定，在长时间工作中保持两束光的中心一直稳定在重合状态，实现小型化、高精度、快速度的合束光稳定控制。利用本发明装置调整得到稳定的合束光，可以广泛用于超分辨显微成像和高精度激光直写光刻等系统中。

公开(公告)号：CN112596349A

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：CN202110046632.1

申请日：2021-01-14

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  杨顺华 ,  刘旭 ,  李海峰 ,  丁晨良 ,  温积森 ,  徐良

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法，主要包含三个核心元件：数字微镜阵列DMD、空间光调制器SLM和微透镜阵列MLA，DMD将有效像素区域等分成N×N个单元，一个单元对应一个光斑，对DMD每个单元包含的m×m个微镜进行独立开关，实现各单元光斑强度和均匀度的独立调控；SLM将有效像素区域等分成N×N个单元，并与入射的各单元光斑一一对应并独立进行相位控制；MLA用于生成焦点阵列，其微透镜数N×N决定了点阵的数量，该点阵随后经凸透镜和物镜成像到物镜焦平面上进行加工，该装置与方法具有灰度光刻的功能，能够快速加工任意形状且高均匀度的曲面结构及真三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。