电弧蒸发源
    71.
    发明公开
    电弧蒸发源 审中-实审

    公开(公告)号:CN117987784A

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202311473629.3

    申请日:2023-11-07

    Abstract: 本发明提供一种电弧蒸发源,其包括:包含靶材放电面的靶材;电弧电源;被配置在靶材的前方的位置的电磁线圈;以及被配置在靶材的后方的位置的中央磁铁。电磁线圈形成包含与靶材放电面交叉且以沿前后方向通过该电磁线圈的径向内侧的方式延伸的第一磁力线的第一磁场。中央磁铁形成包含在该中央磁铁与靶材放电面之间的区域沿前后方向延伸的第二磁力线的第二磁场。基于第一磁场和第二磁场的排斥作用,在靶材放电面上稳定地形成水平磁场和垂直磁场。据此,通过促进靶材放电面上的电弧斑点的移动,能够抑制飞向工件的宏粒子的发生。

    剪切用模具及其制造方法
    76.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102310226B

    公开(公告)日:2013-11-20

    申请号:CN201110174897.6

    申请日:2011-06-27

    Abstract: 本发明提供实现了长寿命化的剪切用模具及其制造方法。本发明提供一种剪切用模具(1),是包含一对基材并用于利用该基材来剪切配置于其间的板材的剪切用模具(1),其特征在于,在所述基材中的至少一个表面中的至少曲面的区域、和从与所述板材(2)的表面相对的一侧的所述曲面的终端起沿着所述基材的面直到300μm的区域中,具备利用电弧离子镀法形成的硬质被膜,所述硬质被膜含有Al和选自Ti及Cr中的一种以上,并且膜厚为1μm以上、5μm以下,此外,在形成于所述曲面的区域、和从与所述板材(2)的表面相对的一侧的所述曲面的终端起沿着所述基材的面直到300μm的区域中的所述硬质被膜的表面,存在于长10mm的线段上的直径20μm以上的金属粒子的个数为2个以下。

    硬质叠层被膜
    78.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101254673B

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN200810081818.5

    申请日:2005-01-25

    CPC classification number: C23C14/025

    Abstract: 一种硬质叠层被膜,以层A和层B的组成不相同的方式,交替叠层由特定组成构成的层A和层B。每层的层A的厚度是每层的层B的厚度的2倍以上,而且,每层的层B的厚度在0.5nm以上,每层的层A的厚度在200nm以下。由此,本发明提供一种能够用于以超硬合金、金属陶瓷或高速工具钢等为基材的切削工具,或者汽车用滑动部件等的耐磨损性被膜。

    硬质保护膜及其形成方法
    79.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102304692A

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN201110252244.5

    申请日:2006-10-20

    CPC classification number: C23C14/0641 C23C14/06 C23C14/0664 Y10T428/30

    Abstract: 一种被覆于工具表面的硬质保护膜,其组成为具有下面所规定原子比的(Cr1-a-bAlaSib)(BxCyN1-x-y),0<a≤0.4,0.05≤b≤0.35,0.25≤1-a-b≤0.9,0≤x≤0.15,0≤y≤0.5,或其组成为具有下面所规定原子比的(M1-a-bAlaSib)(BxCyN1-x-y),0.05≤a≤0.5,0.1<b≤0.35,0≤x≤0.15,0≤y≤0.5,式中M表示Ti和Cr。用于切削工具的该硬质保护膜具有比常规硬质保护膜更好的耐磨性。

    硬膜,多层硬膜及它们的制造方法

    公开(公告)号:CN101509121B

    公开(公告)日:2011-10-19

    申请号:CN200910129726.4

    申请日:2006-02-16

    Inventor: 山本兼司

    Abstract: 一种硬膜,其含有[(Nb1-d,Tad)aAl1-a](C1-xNx)、[(Nb1-d,Tad)a,Al1-a-b-c,Sib,Bc](C1-xNx)、[(Cr,V)p(Nb,Ta)q(Al,Si,B)r](C1-xNx)或[(Ti,Cr,V)p(Nb,Ta)q(Al,Si,B)r](C1-xNx),其中原子比率满足以下条件:0.4≤a≤0.6,0<b+c≤0.15,0≤d≤1,0.4≤x≤1,前提条件是″b″和″c″中的一个可以是0,但是它们两个不同时为0,p+q+r=1;PTi+PCr+PV=p;qNb+qTa=q;rAl+rsi+rB=r,0.05≤q,0.5≤r≤0.73,0≤rsi+rB≤0.15,并且0.4≤x≤1.0,前提条件是当pTi大于0时,PCr、pV、rSi和rB的总和大于0。

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