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公开(公告)号：CN108070823B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201711138223.4
申请日：2017-11-16
Applicant: 大日本印刷株式会社
Inventor： 池永知加雄
Abstract: 本发明提供蒸镀掩模，在使蒸镀掩模紧密贴合于被蒸镀基板时，能够抑制在该蒸镀掩模上产生皱褶。蒸镀掩模(20)具备：构成面对被蒸镀基板的一侧的面的第1面(20a)；和构成第1面(20a)的相反侧的面的第2面(20b)，蒸镀掩模具有形成有多个贯通孔(25)的有效区域(22)，具有长度方向(dL)，并沿长度方向(dL)排列有1个以上的有效区域(22)，且翘曲成至少在长度方向(dL)的中央部的与长度方向(dL)垂直的截面中凸向第1面(20a)侧。
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公开(公告)号：CN115589743A
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN202210703035.6
申请日：2022-06-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H10K50/805 , H10K71/00 , C23C14/04 , C23C14/24
Abstract: 本发明涉及有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；和位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备包含第1显示区域和第2显示区域的显示区域。第1显示区域可以包含以第1密度分布的有机层。第2显示区域可以包含以小于第1密度的第2密度分布的有机层。第2电极可以具备：在第1显示区域无间隙地扩展的广域电极；和包含与广域电极连接的端并在第2显示区域与有机层重叠的2个以上的电极线。
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公开(公告)号：CN114435754A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202210137305.1
申请日：2017-09-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供蒸镀掩模包装体、蒸镀掩模包装方法及蒸镀掩模的制造方法，该蒸镀掩模包装体具备：承接部；与承接部对置的盖部；以及蒸镀掩模，其被配置于承接部与盖部之间，具有多个有效区域，所述有效区域形成有贯通孔。承接部具有：与盖部对置的第1对置面；和设置于第1对置面的凹部。凹部被第1挠性膜覆盖。蒸镀掩模的有效区域隔着第1挠性膜被配置于凹部上。
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公开(公告)号：CN113774323A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202111239868.3
申请日：2018-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及用于制造蒸镀掩模的金属板和金属板的制造方法以及蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法。金属板具有位于金属板的表面的两个以上的凹坑。用于制造蒸镀掩模的金属板的制造方法具备下述检查工序：基于位于金属板的表面的一部分的两个以上的凹坑的容积的总和，判定金属板的优劣。
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公开(公告)号：CN113764606A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202110618101.5
申请日：2021-06-03
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组。电子器件的制造方法具备下述工序：准备工序，准备层积体，该层积体包含具有第1面和位于第1面的相反侧的第2面的基板、位于基板的第1面上的2个以上的第1电极、和第1电极上的有机层；第2电极形成工序，按照沿着基板的第1面的法线方向观察时重叠在2个以上的第1电极上的方式，在有机层上形成第2电极；和除去工序，将第2电极中俯视时位于第1电极之间的区域局部性除去。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109778114B
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN201811344277.0
申请日：2018-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及用于制造蒸镀掩模的金属板和金属板的制造方法以及蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法。金属板具有位于金属板的表面的两个以上的凹坑。用于制造蒸镀掩模的金属板的制造方法具备下述检查工序：基于位于金属板的表面的一部分的两个以上的凹坑的容积的总和，判定金属板的优劣。
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公开(公告)号：CN109778113B
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201811344229.1
申请日：2018-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及制造蒸镀掩模的金属板及其制造方法、蒸镀掩模及其制造方法和具备其的蒸镀掩模装置。为了制造蒸镀掩模而使用的金属板具有30μm以下的厚度。通过利用EBSD法测定出现在金属板的截面中的晶粒并对测定结果进行分析而算出的晶粒的平均截面积为0.5μm2以上且50μm2以下。平均截面积通过在将晶体取向之差为5度以上的部分认定为晶界的条件下利用面积法对由EBSD法得到的测定结果进行分析而算出。
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公开(公告)号：CN111188007A
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN202010069368.9
申请日：2018-01-15
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供蒸镀掩模及其制造方法、蒸镀掩模装置以及蒸镀方法。一种蒸镀掩模，在该蒸镀掩模上形成有多个贯通孔，其特征在于，蒸镀掩模具备：形成有贯通孔的第1面及第2面；一对长侧面，它们与第1面和第2面连接，限定蒸镀掩模在蒸镀掩模的长度方向上的轮廓；以及一对短侧面，它们与第1面和第2面连接，限定蒸镀掩模在蒸镀掩模的宽度方向上的轮廓，长侧面具有第1部分，第1部分包括：第1端部，其位于第1面侧；和第2端部，其位于第2面侧，且位于比第1端部靠内侧的位置，并且第1部分向内侧凹陷，第1端部与第1面和长侧面相连接的第1连接部一致，第1连接部位于与第1面相同的平面上。
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