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公开(公告)号：CN102009517A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN201010287422.3
申请日：2010-09-20
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B41C3/08
Abstract: 本发明是一种金属母板的制作方法，该金属母板由至少两片金属子板拼接而成，各该金属子板上具有镭射图像的纹路，该方法主要采用电铸的方式，将至少两块金属子板间的拼缝进行填补，其中在该各片金属子板的拼接边上设有凹凸结构，相邻子板间的凹凸结构相互配合。通过该凹凸结构，既增加了金属子板间的电铸强度，又可以实现简单准确的对位，增加了金属母板的成品质量。
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公开(公告)号：CN101937115A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010224529.3
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B32B38/06 , B29C59/04 , B32B37/203 , B32B2551/00 , B32B2590/00 , G02B6/0036 , G02B6/0065
Abstract: 一种导光膜制作装置，用于制作卷积筒状的导光膜，包括放料辊、收料辊、分离装置、压印装置和复合装置，其中该导光膜先经分离装置将保护层和基材层分离，然后通过该压印装置在该基材层的待加工面上压印出导光网点，再经过复合装置将剥离的保护层重新复合到基材层上，最后经收料辊回收形成完整的导光膜。本发明的导光膜制作装置，具有产量高、制作尺寸大以及成本低廉的特点。
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公开(公告)号：CN101930207A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010238377.2
申请日：2010-07-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种微光栅亚像素三维光学图像，由排列于平面上的像素阵列结构构成，含有多个视角的分视角图像信息，其特征在于：每一像素由多个亚像素构成，每一亚像素对应于一个视角在该像素处的图像，每一亚像素为一光栅状图像单元，光栅状图像的条纹取向对应于视角，条纹的周期代表颜色信息。其制作方法包括如下步骤：设计三维衍射光学图像数据；设计具有亚像素体视结构的模板图像；根据图像数据和模板，生成体像素图像；微缩光刻亚像素体视图像单元，得到由亚像素体视单元构成的三维衍射光学图像。本发明可以数字化地输出立体图像。
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公开(公告)号：CN101551482B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200910028285.9
申请日：2009-01-24
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构彩色滤光片及其制作方法，滤光片包括：透明基底、位于该基底上的三色像素阵列，其特征在于：所述三色像素阵列由光栅阵列构成，所述光栅阵列由介质层和金属层构成，金属层位于介质层的外面，每一光栅的周期与其滤光的颜色相对应，三种周期的光栅分别用于对入射光中的红、绿、蓝三色进行滤光。其制作是在透明基底上依次涂布介质层和金属层，并且使该介质层和金属层形成凹凸的光栅结构。本发明只需改变光栅的周期，就可获得针对R、G、B三色的透射光谱，降低了加工彩色滤光片的难度；获得的滤光片具有合适的透射光谱，色纯度好；偏振光透过率高。
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公开(公告)号：CN101546003A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910031264.2
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种光栅结构彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：在所述基板上覆盖有介质膜层，该介质膜材料的折射率大于1.65，所述彩色滤光层为亚微米埋入式光栅结构，光栅由金属层和低折射率介质层构成，所述金属层位于近基板侧，所述低折射率介质层位于远离基板侧，介质材料的折射率小于1.65；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明基于亚微米埋入式金属光栅结构，其TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，输出光的纯度高，能进行超大幅面的制造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101231462A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810020793.8
申请日：2008-02-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/00 , G02B5/02 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种光扩散片的制作方法，其特征在于：包括下列步骤：(1)制作至少具有一个微透镜结构的压印模仁；(2)设定计算机压印控制程序、压印参数及图形文件；(3)采用微纳米热压印或紫外压印的方法，将步骤(1)中的压印模仁，根据步骤(2)中的控制程序及图形文件，压印于待压印的基材第一压印工作位置上，基材得到相应个数的凹形微透镜；(4)根据压印参数，改变压印模仁与待压印基材的相对位置，至下一个压印工作位；(5)重复步骤(3)和(4)，直至完成所有压印程序。本发明利用微纳米压印技术直接在基材上压印凹形微透镜，使光扩散层与基材层为一体结构，避免了粘合不牢固、受热膨胀系数不同等造成的散光效果下降、物理变形等现象，有效提高光扩散片的性能。
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公开(公告)号：CN100349024C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200510095776.7
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种微光变图像的激光直写方法及装置，包括：(1)构建低空频光栅数字模板，以光栅取向角度等间隔分布，对每一单元光栅用数据结构表达，记录在计算机数据库中；(2)根据所需刻制的微光变图像，从低空频光栅数字模板中选取对应的光栅结构，利用激光束将空间光调制器上显示的光栅图样投影在记录介质上，形成缩小单元像；(3)改变光路和记录介质的相对位置，变换对应空频和取向的光栅图样，重复步骤(2)，依次刻录各个光栅单元，获得所需微光变图像。本发明采用直接成像的方法，整个光变图像的制作过程不需要机械旋转的方式来获得条纹取向，只要通过计算机在模板上读取不同取向的单元，输入SLM上即可实现光栅线条的旋转，因此，精度高。
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公开(公告)号：CN101017218A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710020411.7
申请日：2007-02-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B6/00 , G02B6/124 , G02B6/34 , G02B1/10 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种衍射光栅光导薄膜，在薄膜的一侧表面，设有平铺的光栅像素单元，其特征在于：所述光栅像素单元由亚像素结构组成，每一亚像素内的衍射光栅取向、空间频率、槽型深度根据导出光线的方向与光强确定。其制作方法包括下列步骤：(1)设计导光图样的衍射结构分布；(2)将导光图样按照像素结构分布排列成不同序列，每一个单元像素由亚像素构成，每个亚像素内的衍射光栅的取向、空间频率均可以改变；(3)光刻；(4)通过电铸制成金属镍板，对涂布有涂层的PET或PC薄膜进行卷对卷的压印。本发明改进了导光均匀性，提高了导光效果，其制作方法便捷可靠。
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公开(公告)号：CN1164441C
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：CN01134125.4
申请日：2001-10-29
Abstract: 一种击打式光学可变图像制作方法，在具有热压敏特征的塑性材料上，用加热的光栅头对打印介质加压，生成浮雕型光栅，加热温度在60℃～150℃之间，打印压强1000帕到5000帕，打印接触时间0.05秒至1秒，控制打印头和打印介质的相对位置进行打印，获得整个光学可变图像。其打印装置，包括打印头、打印头驱动部分、打印介质驱动部分和计算机控制系统，打印头驱动部分包括转动机构、Z轴运动机构和加热控制器，打印头为浮雕型光栅头，打印介质可以相对于打印头运动。本发明不需要激光器和感光材料，排除了大面积洁净光刻胶涂布的难题，适合于制作大面积的光学可变图像；同时大大缩短了光学可变图像的制作时间。
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公开(公告)号：CN1350211A
公开(公告)日：2002-05-22
申请号：CN01134127.0
申请日：2001-10-29
Applicant: 苏州大学
Abstract: 一种光学可变图像的制作方法,由一光源经成像系统将形状光阑成像到全息光学元件上,产生一对衍射光束;将衍射光束会聚在记录材料上,产生一定形状的干涉条纹点;移动记录材料的位置;记录下一个干涉条纹点;重复上述步骤,直至完成。本发明的光学可变图像照排系统,包括由光源、衍射前成像系统、全息光学元件、衍射后成像系统组成的光路系统、工作台及控制部分,全息光学元件设置在转台上,工作台可以沿X轴和Y轴运动,记录材料位于衍射后成像系统的焦面上。本发明能有效利用入射光的能量,完成全息衍射光栅的制作,速度快,且图像具有加密和更丰富的信息表达特征。
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