公开(公告)号：CN1206428A

公开(公告)日：1999-01-27

申请号：CN97191520.2

申请日：1997-08-29

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 佃明光 ,  末冈雅则 ,  筑木稔博

IPC: C08J5/18 ,  G11B5/704 ,  C08L77/10

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08J2377/10 ,  G11B5/73 ,  Y10S428/90 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31725 ,  Y10T428/31765

Abstract: 本发明提供了芳族聚酰胺树脂类模塑制品,该模塑制品包括至少一个具有下述性能的表面,其均方根糙度等于或大于1.0纳米、10点平均糙度等于或小于80纳米,两种糙度均以原子力显微镜测定,至少一个方向的拉伸杨氏模量等于或大于9.8GPa。这类芳族聚酰胺树脂模塑制品有效地用作薄膜材料,特别是磁记录媒体用薄膜,它具有高耐擦伤性和高度均匀的表面突起。

公开(公告)号：CN1195316A

公开(公告)日：1998-10-07

申请号：CN97190689.0

申请日：1997-04-17

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 佃明光 ,  堀内光弘 ,  筑木稔博

IPC: B29C55/12 ,  B32B27/34 ,  C08J5/18 ,  G11B5/704 ,  B29K77 ,  B29L7 ,  C08L77

CPC classification number: G11B5/733 ,  B29D7/01 ,  B29K2077/10 ,  B29K2105/16 ,  C08J5/18 ,  C08J2377/10 ,  Y10S428/90 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31725 ,  Y10T428/31728

Abstract: 本发明涉及芳香族聚酰胺薄膜,其特征在于,在该薄膜的至少一面,高20nm—50nm突起的数目为103—106/mm2,高50nm—100nm突起的数目为0—3x104/mm2。此外,本发明还提供制备芳香族聚酰胺薄膜的方法,其特征在于,将粒径10—300nm的微粒分散于10泊以下的液体介质中形成的含微粒浆液加入芳香族聚酰胺溶液中,以使该微粒的添加量为芳香族聚酰胺的0.005—4.5%(重量),在从这样所得溶液制备芳香族聚酰胺薄膜的方法中,所述微粒粒径的相对标准偏差在0.8以下,此外,所用含微粒浆液的初始过滤性指数Q1和通过500ml液体后的过滤性指数Q2满足下式:Q2/Q1≥0.3虽然本发明薄膜也适合用作柔性印刷基板、电容器和打印带等,但由于该薄膜的输出特性和耐久性两者能够同时达到极高水平,因此特别适用于磁记录媒体,尤其适用于要求高密度和高精度的计算机外存储器和数字录像机磁带。

公开(公告)号：CN1129991A

公开(公告)日：1996-08-28

申请号：CN95190579.1

申请日：1995-06-21

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 佃明光 ,  米山和祜 ,  伊藤伸明

IPC: G11B5/704

CPC classification number: G11B5/733 ,  G11B5/73 ,  G11B5/738 ,  Y10S428/90 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/31721 ,  Y10T428/31725

Abstract: 本发明是在用芳香族聚酰胺或芳香族聚酰亚胺制成的片基一面涂敷磁性层的磁性记录介质。本发明是关于以满足以下指标为特征的磁性记录介质：其片基涂敷磁性层一面的表面粗大突起个数H2、非磁性层一面的表面粗大突起个数H3满足：H2≤502≤H3≤100同时，该片基在20℃下的至少一个方向杨氏拉伸模量E20和在100℃下的同方向杨氏拉伸模量E100满足：E20≥800kg/mm20.5≤E100/E20。本发明提供在严酷环境下(特别是高温下)具有优异的耐久性、运行特性和输出特性的磁性记录介质。