公开(公告)号：CN108886023A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201780019966.1

申请日：2017-04-25

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 小桥力也 ,  稻男洋一

IPC: H01L23/00 ,  H01L21/301

CPC classification number: H01L23/00

Abstract: 本发明涉及一种保护膜形成用膜，其为能量射线固化性的保护膜形成用膜，其中，在所述保护膜形成用膜中，至少一侧的表面(α)的表面粗糙度(Ra)为0.038μm以上。优选所述表面(α)的表面粗糙度(Ra)为2.0μm以下。

公开(公告)号：CN108604542A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201780011276.1

申请日：2017-04-25

Applicant: 琳得科株式会社

Inventor： 小桥力也 ,  稻男洋一

IPC: H01L21/301 ,  H01L23/00

Abstract: 本发明涉及一种能量射线固化性的保护膜形成用膜，在对保护膜形成用膜照射能量射线从而形成保护膜时，所述保护膜的至少一侧的表面(β)的表面粗糙度(Ra)为0.038μm以上。