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公开(公告)号：CN118192091A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410613461.X
申请日：2024-05-17
Abstract: 本发明公开了一种基于折射式指向校正的光束稳定装置及方法，本发明利用楔形板对的相对角度控制实现对光束的位置和角度控制，完全使用透射式光学器件，具有较高的波长兼容性，镜片不易受到机械振动影响角度控制，可实现单轴控制，且可以做到同轴式光路布置。本发明中使用楔形透射板对进行光束指向调控，基于光束透过楔形板形成的折射角度组合进行光束位置与角度联合控制，结合压电器件或电磁式驱动装置进行板的运动驱动，可以实现高精度的光束指向与角度控制。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN113515016B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202110388077.0
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法和装置，该装置包括两路光，每路光各含一个DMD加载相应的数字图形，其中一路光中的DMD加载待刻写的实心图形，用于引发光刻胶的聚合反应；另一路光中的DMD加载所述实心图形对应边缘的空心图形，用于抑制光刻胶的聚合反应；将两路光进行合束后使两个图形投影到样品面上并实现严格对准。本发明通过DMD产生数字掩膜在实现快速面直写的基础上，通过双路激光分别进行引发和抑制光刻胶聚合可提高直写分辨率。利用本发明，有望实现高速高分辨激光直写，为纳米加工技术实现大批量生产提供新思路。
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公开(公告)号：CN116430687B
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310698595.1
申请日：2023-06-14
Abstract: 本发明涉及一种超分辨激光纳米直写光刻技术，具体涉及一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统，该方法为，合束光平行入射数字微镜器件并经数字微镜器件反射后入射微透镜阵列，于微透镜阵列焦平面处形成聚焦点阵，使该聚焦点阵成像于双光束光刻胶表面形成激发光束与抑制光束重合的刻写点阵，对双光束光刻胶进行曝光；合束光由激发光束与抑制光束合束得到；通过调节数字微镜器件区域微镜的开关状态，调控刻写点阵中各点处的能量；通过调节抑制光束的能量，使刻写点阵中各点于中心区域形成光刻胶聚合促进，于外围区域形成光刻胶聚合抑制。与现有技术相比，本发明实现了高通量、超分辨、三维纳米结构的刻写，大幅提升刻写精度与效率。
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公开(公告)号：CN117031884A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311021903.3
申请日：2023-08-15
Abstract: 本申请涉及一种基于飞秒激光时空同步聚焦的线光场扫描刻写装置和方法，所述装置包括：包括按光前进方向依次设置的飞秒激光光源、一维扩束系统、光栅光阀、成像系统和位移台；飞秒激光光源用于发射飞秒激光至一维扩束系统；一维扩束系统用于将飞秒激光的光斑扩束为一维线形光斑后垂直入射至光栅光阀的表面；光栅光阀用于对一维线形光斑进行调制并将得到的一级衍射光发射至成像系统；成像系统用于将一级衍射光在成像系统的物镜焦面上进行时空同步聚焦，输出线形光场对待刻写目标进行刻写。采用本装置能够结合飞秒激光和光栅光阀进行线扫描刻写，提升刻写精度，实现任意复杂结构大面积高速扫描刻写和大面积高均匀结构、连续灰度结构的快速加工。
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公开(公告)号：CN112859534B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202011638382.2
申请日：2020-12-31
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法，该装置可产生N×N强度独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI刻写点由干涉点阵暗斑和激发光重合而成，具有高通量超分辨刻写的能力。装置主要包括两路光：一路光通过四光束干涉产生等强度等间距的光斑点阵，点阵暗斑用作涡旋抑制光；另一路光通过MLA产生N×N激发光点阵，同时通过SLM和DMD分别调控各激发光的位置和强度，实现涡旋光阵列与激发光点阵精密重合且刻写点大小独立可控。该装置与方法通过产生相同刻写点大小的PPI阵列，可进行高均匀度三维结构的高通量超分辨直写加工，控制刻写点大小使其具有特定分布，还可并行加工任意曲面结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116625965A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310615053.3
申请日：2023-05-29
Abstract: 利用二次扰动激光的飞秒泵浦–探测微区测量系统及方法，包括飞秒激光器、分束镜、声光调制器、全反镜、超连续谱产生套件、连续激光器、电控位移台、二向色镜、反射式物镜、凸透镜、单色仪、光电倍增管、锁相放大器、滤光片、光纤光谱仪和计算机等部件。在探测部分利用反射式物镜替换凸透镜汇聚激发光和收集信号光，提高飞秒泵浦–探测技术空间分辨精度。本发明是利用二次扰动激光的飞秒泵浦–探测系统，用于分析连续激光对样品激发态弛豫过程的影响，提供对复杂超快光物理行为的进一步理解，进而优化材料设计方案。
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公开(公告)号：CN116430687A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310698595.1
申请日：2023-06-14
Abstract: 本发明涉及一种超分辨激光纳米直写光刻技术，具体涉及一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统，该方法为，合束光平行入射数字微镜器件并经数字微镜器件反射后入射微透镜阵列，于微透镜阵列焦平面处形成聚焦点阵，使该聚焦点阵成像于双光束光刻胶表面形成激发光束与抑制光束重合的刻写点阵，对双光束光刻胶进行曝光；合束光由激发光束与抑制光束合束得到；通过调节数字微镜器件区域微镜的开关状态，调控刻写点阵中各点处的能量；通过调节抑制光束的能量，使刻写点阵中各点于中心区域形成光刻胶聚合促进，于外围区域形成光刻胶聚合抑制。与现有技术相比，本发明实现了高通量、超分辨、三维纳米结构的刻写，大幅提升刻写精度与效率。
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公开(公告)号：CN115980999A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310243262.X
申请日：2023-03-14
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明公开了一种基于光学系统的光束自动校准装置及方法，通过运用前置运算放大器、高精度模数转换芯片ADC电路采集探测器的信号，经过模数转换后在逻辑芯片进行算法实现；其后逻辑芯片再输出一组新的信号，经过后置运算放大器、高精度数模转换芯片DAC、变压器等处理，再输送至后端设备，可实现光束校准。本发明使用当前性能较高的集成电路，对光束校准测量的精度把控更精准，响应速度较快，整个装置低成本、低功耗，算法植入后全自动运作，并且可通过上位机的软件实时关注装置的工作状态。本发明采用独立芯片来采集信号、处理模数、数模转换，或者是算法运行，无论从精度上、或者是运行效率上，都高于传统设计。
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公开(公告)号：CN115248538A
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202211157008.X
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种DMD无掩膜光刻机的投影物镜镜头，从入射方向开始依次设置：具有正光焦度第一透镜组；光阑；具有负光焦度第二透镜组；具有正光焦度第三透镜组；其中：第一透镜组接收从DMD出射的光线，包含3个光焦度依次为负、正、负的透镜；第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将其出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为正、负、正、负的透镜；第三透镜组收集从第二透镜组出射的光线，并将其聚焦于基底，第三透镜组包含4个光焦度依次为正、正、正、负的透镜；所述透镜均处于同一光轴。本发明能校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN115046744A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210975776.X
申请日：2022-08-15
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于SLM生成光斑点阵的焦面检测及调倾方法与装置，所述方法在SLM上加载n×n圆形点阵，入射光束依次经过三角棱镜第一反射面、SLM、三角棱镜第二反射面、二分之一波片、偏振分束镜、四分之一波片、透镜、物镜，入射到样品表面；经样品表面反射后，反射光依次经过物镜、透镜、四分之一波片和偏振分束镜后，分束为第一光束和第二光束；其中，第一光束入射到第一CCD相机进行成像，第二光束入射到第二CCD相机进行成像，记录两个CCD相机上的光斑点阵的直径；基于两光斑点阵的直径的差值计算离焦量，进而获得焦点位置；并计算样品的倾斜度，从而对焦面进行调倾。本发明解决焦面倾斜问题，装置简单，成本低。
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