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公开(公告)号:CN101122709A
公开(公告)日:2008-02-13
申请号:CN200710147175.5
申请日:2002-05-07
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133526 , G02F1/133555
Abstract: 本发明提供一种液晶显示元件,具有接近相向配置的一对基板、填充在其间隙内的液晶层以及背光板。在配置于背光板侧的基板上,设置具有开口部的反射板和聚光装置。该液晶显示元件无论在进行透过显示还是进行反射显示时,都能进行明亮、优质的显示。
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公开(公告)号:CN101122708A
公开(公告)日:2008-02-13
申请号:CN200710147174.0
申请日:2002-05-07
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133526 , G02F1/133555
Abstract: 本发明提供一种液晶显示元件,具有接近相向配置的一对基板、填充在其间隙内的液晶层以及背光板。在配置于背光板侧的基板上,设置具有开口部的反射板和聚光装置。该液晶显示元件无论在进行透过显示还是进行反射显示时,都能进行明亮、优质的显示。
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公开(公告)号:CN101109832A
公开(公告)日:2008-01-23
申请号:CN200710136630.1
申请日:2007-07-18
Applicant: 日本电气株式会社 , 日本电气液晶显示技术株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363
CPC classification number: G02B27/286 , G02F1/133555 , G02F1/13363 , G02F2001/133541 , G02F2001/133633 , G02F2001/133638 , G02F2413/04
Abstract: 圆极化器、液晶显示设备和终端设备。在本发明的液晶显示设备中,圆极化器被提供在带有液晶层的一对基片的每一个上,在显示表面一侧的圆极化器由极化器、Rth>0的λ/2片和Rth<0的λ/4片组成;在背光一侧的圆极化器由极化器、Rth<0的λ/2片和Rth>0的λ/4片组成。Rth是λ/2片或λ/4片的厚度方向的迟差。在Rth>0的λ/2片与Rth<0的λ/2片之间的Rth的总和的绝对值和在Rth<0的λ/4片和Rth>0的λ/4片之间的Rth的总和的绝对值实现了减小。由此得到有优异波长特性和当从一个角度观看时的优异视角特性的圆极化器,并得到使用这种圆极化器的液晶显示设备和终端设备。
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公开(公告)号:CN101055394A
公开(公告)日:2007-10-17
申请号:CN200610130984.0
申请日:2006-12-22
Applicant: 日本电气株式会社 , 日本电气液晶显示技术株式会社
CPC classification number: G02F1/134363 , G02F2201/124
Abstract: 在液晶显示器件中,在彼此面对设置的主基板和对向基板之间设置有液晶层,在面对对向基板的主基板表面上形成有共享电极和像素电极,其是以梳状形成的平行电极对。在主基板和对向基板的相对表面上还形成有取向膜。形成平行电极对的电极,使得它们的宽度小于液晶层的厚度。由此通过由平行电极对产生的电场改变电极之间的液晶分子的取向,且根据电极之间液晶分子的取向变化,设置于电极之上的液晶分子的取向在与电极之间的液晶分子相同的方向上变化。由此在面内切换液晶显示器件中通过简单的电极结构实现了高度的透射率。
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公开(公告)号:CN100338498C
公开(公告)日:2007-09-19
申请号:CN200410007696.7
申请日:2004-02-27
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02B27/22
CPC classification number: G02B27/2214 , G03B21/56
Abstract: 在作为光学单元的双面透镜中提供作为对齐单元的用于透镜的标记,并且在作为显示面板的透射液晶显示面板中提供作为对齐单元的用于显示面板的标记。在包围双面透镜的图像显示区域的一个区域的至少一部分中提供固定单元。以这种方式形成三维图像显示设备,以便通过用于透镜的标记和用于显示面板的标记实现在双面透镜和液晶显示面板之间的对齐,并且双面透镜被固定到在观察者一侧的液晶显示面板的表面上。
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公开(公告)号:CN101029985A
公开(公告)日:2007-09-05
申请号:CN200710085431.2
申请日:2007-03-05
Applicant: 日本电气株式会社 , NEC液晶技术株式会社
Abstract: 光源装置具有不同发射光谱并可单独控制的两个或多个光源,还具有用于检测光源发射的光量的光传感器。光传感器由没有设置用于选择接收光波长的彩色滤色器的一种光传感器组成,所述光传感器对下述波长范围的光较敏感,该波长范围充分宽,从而可同时接收红色、绿色和蓝色波长范围中的光。控制电路控制所述两个或多个光源,从而以时间顺序方式发光,并将参考数据与光传感器的输出值对比,从而通过光源驱动电路的方式控制光源发射的光量。由此可减小能修正色调变化的光源装置的成本和尺寸。
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公开(公告)号:CN1928662A
公开(公告)日:2007-03-14
申请号:CN200610128146.X
申请日:2006-09-05
Applicant: 日本电气株式会社 , NEC液晶技术株式会社
IPC: G02F1/13357 , G02F1/1333 , F21V13/00 , G09F9/00
CPC classification number: G02F1/13476 , G02B6/0038 , G02B6/0053 , G02F1/1323 , G02F1/1334 , G02F1/133615
Abstract: 一种显示设备包括光源、导光板、棱镜片、透明/散射状态切换元件和透射液晶显示板。在透明/散射状态切换元件中,彼此平行并彼此分离地设置两个透明基板,并在每一个透明基板的表面设置电极。还在两个透明基板的外围部分之间设置散射密封部件,并在透明基板之间,将PDLC层封闭在由散射密封部件所密封的区域中。赋予散射密封部件散射属性,由此将光以散射状态传送,并且其散射度与散射状态期间的PDLC层的散射度相等。
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公开(公告)号:CN1841162A
公开(公告)日:2006-10-04
申请号:CN200610071560.1
申请日:2006-03-28
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02F1/13357 , G02F1/133 , H04M1/02 , H04N5/225
CPC classification number: G02B6/0036 , G02B6/0051 , G02B6/0055
Abstract: 公开了一种光源设备、使用其的显示设备及终端设备。根据本发明的显示设备的光源设备具有光波导、锥体片以及沿着光波导的侧面放置的光源。光波导的光发射表面是平坦的,并且在光漫射表面中形成倾斜表面,其相对于光发射表面向着光源侧倾斜。锥体片具有平板,以及在平板的光入射表面上二维排列的多个圆锥体。这些圆锥体的中轴彼此平行。本发明提供了可以做得较薄并且能够二维增加发射光的方向性的光源设备。
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公开(公告)号:CN1837920A
公开(公告)日:2006-09-27
申请号:CN200610071760.7
申请日:2004-03-01
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B27/22
CPC classification number: G02F1/133526 , G02F1/133553 , H04N13/305 , H04N13/307
Abstract: 在显示面板中,排列了呈矩阵形式的多个像素部分。每个像素部分至少包括用于显示针对左眼的图像的像素和用于显示针对右眼的图像的像素。带有重复的凸圆表面的柱面透镜被设置在显示面板的前面,以反射从每个像素中发射出的水平方向上的光,其中,水平方向是在每个像素区中从用于显示针对左眼的图像的像素到用于显示针对右眼的图像的像素的方向。反射板把外部光反射成朝向显示面板,且在表面上带有表面凸起。在这种情况中,透镜的焦距f与反射板的表面和透镜的顶点之间的距离H不同。
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公开(公告)号:CN1249499C
公开(公告)日:2006-04-05
申请号:CN03110142.9
申请日:2003-04-11
Applicant: 日本电气株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B3/00 , G03F7/26
CPC classification number: G02B3/0056 , B81B2207/056 , B81C1/00031 , B81C2201/0133 , B81C2201/0142 , C03C15/00 , C03C17/34 , C03C2204/08 , C03C2218/34 , G02B3/0012 , G02F1/133526 , Y10T428/131 , Y10T428/249969 , Y10T428/315
Abstract: 在用于在含有蚀刻控制成分的加工件中形成精细结构的制造方法中,使用各向同性刻蚀工艺,将具有孔口(36)的掩模加到加工件(30)上,且用蚀刻溶液蚀刻加工件,从而在加工件的表面内形成相应于孔口形状的凹槽(40)。由于在各向同性刻蚀工艺期间蚀刻控制成分从凹槽内的蚀刻溶液(38)中的加工件中洗提出来,所述加工件的蚀刻停止。
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