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公开(公告)号：CN112596349B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202110046632.1
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法，主要包含三个核心元件：数字微镜阵列DMD、空间光调制器SLM和微透镜阵列MLA，DMD将有效像素区域等分成N×N个单元，一个单元对应一个光斑，对DMD每个单元包含的m×m个微镜进行独立开关，实现各单元光斑强度和均匀度的独立调控；SLM将有效像素区域等分成N×N个单元，并与入射的各单元光斑一一对应并独立进行相位控制；MLA用于生成焦点阵列，其微透镜数N×N决定了点阵的数量，该点阵随后经凸透镜和物镜成像到物镜焦平面上进行加工，该装置与方法具有灰度光刻的功能，能够快速加工任意形状且高均匀度的曲面结构及真三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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公开(公告)号：CN112326665B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202011039692.2
申请日：2020-09-28
Abstract: 本发明公开了一种基于空间分步式移频照明的缺陷检测系统，包括光源、显微物镜、管镜、图像探测器、控制模块和数据处理模块，其中，光源包括垂直照明光源和倾斜照明单元。垂直照明光源和各倾斜照明单元的出射光能够照射到被观测样品上而激发出散射场，散射场经显微物镜收集后再经管镜整形而入射到图像探测器，并由数据处理模块转换成远场强度图。控制模块按时序控制各光源的点亮以及各光源照明下图像探测器对被观测样品散射场信号的采集。数据处理模块通过对被观测样品空间频谱信息的重构，最终实现无论是在透射式照明还是反射式照明条件下，被观测样品表面复杂缺陷特征轮廓信息和细节特征信息的检测成像。
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公开(公告)号：CN115639729B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202211053614.7
申请日：2022-08-30
Abstract: 本发明提供了一种基于全息相位分束的光纤并行激光直写方法和系统，本发明将一水平偏振方向的激光入射至空间光调制器的液晶面元，所述的空间光调制器加载不同的全息相位图实现对入射光束的分束并调整分束后各个子光束的位置，从而实现良好地耦合进光纤阵列。光纤阵列通过光开光模块实现每一路光的开关。通过每路光的开关以及三维位移台的移动，实现三维大面积的微纳结构直写，本发明的直写效果更加丰富，直写效率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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公开(公告)号：CN113189846B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202110388124.1
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20 , G03F1/68 , B23K26/00 , B23K26/06 , B23K26/066 , B23K26/067
Abstract: 本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
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公开(公告)号：CN116224575A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310521844.X
申请日：2023-05-10
IPC: G02B26/08
Abstract: 本发明公开了一种带有滤波功能的光束漂移矫正装置及方法，入射光束经第一压电反射镜架、第二压电反射镜架上的反射镜再经过依次布置的第一透镜、针孔和第二透镜进行滤波，然后一部分光束经第一固定反射镜架上的反射镜透射至能量探测PD上，一部分光束经第二固定反射镜架上的反射镜出射至位置探测CCD的探测面上；通过调整第一压电反射镜架使能量探测PD上的光强保持最大值，以矫正光束位置漂移量；通过调整第二固定反射镜架使位置探测CCD的光斑形心坐标与初始光斑形心坐标相同，实现光束漂移矫正。本发明装置不仅可以完成光束大范围位置漂移和角度漂移矫正，还可以进行滤波，提供光束质量，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116183568A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202310020503.4
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种三维结构光照明超分辨显微成像的高保真重构的方法，包括：将一束平行光分为强度相等、偏振方向一致的三束平行光束，在样品上进行干涉形成三维非均匀照明光场，样品受到非均匀照明光场调制后频谱产生频移；由物镜接收样品发出的荧光信号后，经过场镜汇聚到成像像面，用探测器接收该荧光信号，得到一张混有样品高低频信息的低分辨率图像；多次改变照明光场的空间位移和方向，再次拍摄受光场调制的荧光信号，得到一系列混有样品高低频信息的低分辨率图像，作为原始图像。再将原始图像进行后续图像处理，首先进行照明光场的初始相位和空间频率的参数估计，然后再对样品各个频带进行分离，最后将各频谱进行组合重构出样品的高保真超分辨图像。
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公开(公告)号：CN116165850A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202310119397.5
申请日：2023-01-17
Abstract: 本说明书公开了一种用于激光直写的光纤光刻物镜镜头，该物镜镜头包括：光焦度为负的第一透镜组、光焦度为负的第二透镜组以及光焦度为正的第三透镜组，第一透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、负、正的透镜；第二透镜组包含三个光焦度依次为负、正、负的透镜；第三透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、正、正的透镜；第一透镜组负责接收光源，并将光源折射至第二透镜组，第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将收集的光线折射至第三透镜组，第三透镜组将光线将聚焦于基底，物镜镜头中的透镜均处于同一光轴，本说明书中的物镜镜头能够校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN115639729A
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202211053614.7
申请日：2022-08-30
Abstract: 本发明提供了一种基于全息相位分束的光纤并行激光直写方法和系统，本发明将一水平偏振方向的激光入射至空间光调制器的液晶面元，所述的空间光调制器加载不同的全息相位图实现对入射光束的分束并调整分束后各个子光束的位置，从而实现良好地耦合进光纤阵列。光纤阵列通过光开光模块实现每一路光的开关。通过每路光的开关以及三维位移台的移动，实现三维大面积的微纳结构直写，本发明的直写效果更加丰富，直写效率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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公开(公告)号：CN114894224B
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202210815098.0
申请日：2022-07-12
Abstract: 本发明公开了一种灵敏度可调长工作距离差分共焦系统，包括激光器、准直镜、半波片、偏振分束器、λ/4波片、扩束镜/缩束镜、物镜、共焦透镜、分束器、小孔、光强探测器。通过调节激光出射直径改变系统灵敏度和探测范围，解决了差分共焦灵敏度高但探测范围小的问题。从而可先通过低分辨大探测范围模式进行初步测量或对焦，再通过高分辨小探测范围模式进行测量或对焦，最后实现大探测范围和高灵敏度的测量或对焦。另外，当物镜离共焦系统较远时，长焦距差分共焦系统的焦点和物镜焦点可以构成4f关系的问题，对于显微镜和激光直写设备有重要应用价值。本发明可广泛应用于激光直写系统、显微镜、测量系统。
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公开(公告)号：CN114779591B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210717492.0
申请日：2022-06-23
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨光刻方法，该方法基于苯偶酰光引发剂基态与三重态的光谱吸收特性，利用一束材料基态吸收范围波长的激光束与另一束材料三重态吸收范围波长的激光束共同作用于材料中，通过控制两者的能量实现双色双步吸收效应，并且结合两者的相对位移控制，从而获得小于衍射极限的刻写线宽。本发明将提供一种亚百纳米精度刻写精度与快速刻写能力的超分辨纳米激光直写方法，使三维光刻直写技术具有高速、超分辨、复杂结构刻写能力的优点。
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