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公开(公告)号：CN109216405A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201710525447.4
申请日：2017-06-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01L27/32
Abstract: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法，包括：形成具有导电图形电极层的基板；对基板进行电铸生长，形成AMOLED用金属掩膜板；将AMOLED用金属掩膜板从基板分离；以及对基板重复进行电铸生长形成AMOLED用金属掩膜板。本发明提供的AMOLED用金属掩膜板的制造方法生产效率高，同时还能有效地降低生产周期和生产成本。
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公开(公告)号：CN105405752B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201510932682.4
申请日：2015-12-15
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H01L21/28 , H01L21/283 , H01L29/423
Abstract: 本发明公开了一种柔性纳米线栅型透明导电电极的制作方法，与已有技术相比，本发明制作的柔性透明电极的导电线栅结构，有选择性电沉积过程生长而成，最小线宽可达几十纳米。但电沉积形成的纳米线栅本身电导率较高，即便线栅宽度和厚度仅为几十纳米，仍然能保证较低的方阻值。本发明提出的柔性透明电极的制作方法，不仅可以制作单一功能电极，更可以通过在纳米转印模具表面沉积不同的材料层，经过多次转印过程制作多层复合电极、或者制作具有不同导电功能区的透明电极。
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公开(公告)号：CN106448825A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610917067.0
申请日：2016-10-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01B5/14
Abstract: 本发明公开了一种图形化精细导电薄膜，其包括基底和图形化精细电极，图形化精细电极放置于基底上或嵌入到基底中，图形化精细电极的电极的宽度在50nm-10μm之间，高度在10nm-10μm之间，表面粗糙度在0.1nm到100nm之间。本发明同时还公开了一种图形化精细导电薄膜的制作方法。本发明实现具有精细、高透过率、低方阻、高绕曲性能的图案化电极；不存在刻蚀工艺，绿色环保，电极分辨率能达到100nm，操作简单，适合大面积、低成本生产，可以用于触控屏，太阳能电池，LCD显示，OLED显示，QLED显示等应用领域。
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公开(公告)号：CN102798918B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201110136699.0
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。
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公开(公告)号：CN104185410A
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201410464874.2
申请日：2014-09-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H05K9/00
Abstract: 本发明公开了一种基于微金属网格的电磁屏蔽罩及其制备方法，该方法包括：通过微纳压印方法，在柔性衬底上形成微金属网格沟槽；将纳米导电浆料通过刮涂方式填充到微金属网格沟槽中，并烧结后形成微金属网格导电薄层；通过电铸沉积后在微金属网格沟槽中形成的微金属网格；将沉积后的微金属网格从柔性衬底的微金属网格沟槽中剥离出来，形成镂空的微金属网格；将镂空的微金属网格与相同尺寸的金属薄片复合，形成复合微金属网格；将复合微金属网格固定于凹形模具上，通过压延将复合微金属网格获得与凹形模具相同的形状；分离复合微金属网格，得到形状与凹形模具相同的电磁屏蔽罩。本发明电磁屏蔽罩制作效率高，成本低、并可实现大批量制备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103744571A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201410037667.9
申请日：2014-01-26
Applicant: 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G06F3/044
Abstract: 本发明公开了一种超薄触控传感器及其制作方法，其中超薄触控传感器包括：依次层叠排布的基材层、接收电路层、发射电路层和保护层，所述接收电路层和发射电路层位于所述基材层的同侧；所述发射电路层和接收电路层包括：多个导电网格、以及压印层，所述多个导电网格嵌合于所述压印层中，所述导电网格包括至少三条顺次连接的网格线，所述网格线的宽度大于或等于1μm，所述网格线的高度与宽度之比的范围为1:0.5～1:2。本发明的超薄触控传感器的发射电路层和接收电路层设置于基材层的同侧，且发射电路层和接收电路层都由金属导电材料制成，减小了超薄触控传感器的厚度，具有环保、低成本、高灵敏度的优势。
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公开(公告)号：CN102418302B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110323728.4
申请日：2011-10-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: D21H21/48
Abstract: 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。
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公开(公告)号：CN102063951B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201010533228.9
申请日：2010-11-05
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H05K3/1208 , H05K3/1258 , H05K3/1283 , H05K2203/0108 , H05K2203/1131
Abstract: 本发明提供一种透明导电膜，该透明导电膜包括透明基底和导电金属，其中在透明基底上利用纳米压印技术压制出用于埋设导电金属颗粒的凹槽以及用于透光的网格，通过设计凹槽的线宽和深度以及占整个透明导电膜的比重，得到了一种透光率高且导电性好的透明导电膜。同时，由于导电金属部分被镶嵌在透明基底内部，不易脱落和氧化，并且可以采用柔性材料作为透明基底，开发出能在更多场合下应用的透明导电膜。同时本发明还提供了该透明导电膜的制作方法。
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公开(公告)号：CN101279555B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200810123712.7
申请日：2008-05-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种激光数码彩绘的方法，包括：(1)将包含有信息层的热转印薄膜贴合在被彩绘的材料表面；(2)调整光学头和被彩绘的材料的相对位置，使激光束照射位置对准绘制像素位置；(3)开启激光束，瞬间加热使得材料表面上的热转印薄膜的信息层融解脱落而吸附在被彩绘的材料上；(4)根据预先设定的图形像素位置数据，重复步骤(2)和(3)，直至完成该种信息层的绘制；(5)更换包含有另一种信息层的热转印薄膜，重复步骤(1)至(4)，直至完成所有信息层的绘制，即实现了所需激光数码彩绘。该方法具有控制灵活，图形精度高、彩绘效果好，尤其能彩绘出具有金属质感的光学可变图形等优点，适合数码印刷、防伪和纺织行业的数码激光彩绘应用。
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公开(公告)号：CN101290364B
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN200810123711.2
申请日：2008-05-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 陈林森 , 周小红
Abstract: 本发明公开了彩色滤光片的制作方法及装置。制作方法为：分别获取载有颜色层的四种热转印薄膜；将一种热转印薄膜贴合在彩色滤光片的基片表面，根据画素的排列位置，采用矩形激光束瞬间照射热转印薄膜的对应位置，使得热转印薄膜的颜色层转移到基片表面，调整照射位置并重复上述过程，实现同一颜色的所有画素单元的转移；更换热转印薄膜，重复上述步骤，使四种颜色均实现转移，获得所需的彩色滤光片。本发明整个过程中基片相对位置不发生变化，解决了传统方式需要高精度对位的问题，并可通过激光光点尺寸来控制画素图案的大小；同时该方法适用于柔性彩色滤光片的制作。
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