一种头戴式三维显示装置
    51.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106371218A

    公开(公告)日:2017-02-01

    申请号:CN201610970307.3

    申请日:2016-10-28

    Abstract: 本发明公开了一种头戴式三维显示装置,包括图像生成装置,和对应眼睛的可视镜片,所述可视镜片上设有至少一层设置有具有会聚成像功能的纳米结构功能薄膜,从而使得可视镜片成为具有光场变换功能的指向性功能镜片,所述指向性功能镜片上的纳米结构与图像生成装置输出的图像匹配,在人眼前方投射出会聚波面,形成虚拟景象;或该会聚波面与现实景象形成的波面叠加,得到真实世界信息和虚拟世界信息的融合。本发明在眼球前方的空间中会聚视角图像,形成虚拟景象,其和现实景物在人眼中成像的原理一致,因此长时间观看的视觉疲劳度比传统的三维显示技术大大降低。

    电磁屏蔽膜及电磁屏蔽窗的制作方法

    公开(公告)号:CN106061218A

    公开(公告)日:2016-10-26

    申请号:CN201610412201.1

    申请日:2016-06-14

    CPC classification number: H05K9/00 H05K9/0086

    Abstract: 本发明公开了一种电磁屏蔽膜的制作方法,其包括以下步骤:1)在导电基板上涂布光刻胶,然后通过光刻工艺在导电基板上形成图形结构;2)通过选择性电沉积工艺在图形结构中生长金属层,形成金属图形结构;3)通过压印工艺将金属图形结构镶嵌至柔性基底材料内,形成电磁屏蔽膜。本发明还公开了一种电磁屏蔽窗的制作方法。本发明具有高透明度、耐温性好的优点,可以满足光学窗对高屏蔽性能、高成像质量、耐温性高的电磁屏蔽膜的要求、柔性电子对电磁屏蔽薄膜弯折性能的需求以及复杂结构表面贴合对屏蔽膜超薄性的要求。

    连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统

    公开(公告)号:CN105814402A

    公开(公告)日:2016-07-27

    申请号:CN201380081848.5

    申请日:2013-11-27

    Abstract: 一种连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统,包括计算机(34)、光源(12)、可变标度的傅立叶变换光路、位相分光器件(9)、双远心投影光学系统(19)、大数值孔径物镜(30)、样品平台(32)和面阵相机,特征为:傅立叶变换光路包括第一傅立叶变换透镜或透镜组(8)与第二傅立叶变换透镜或透镜组(10),位相分光器件(9)置于两者之间,与第二傅立叶变换透镜或透镜组(10)之间的距离连续可调,具有绕傅立叶变换光路的光轴旋转的运动自由度。该连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统可灵活实现连续可变空频的干涉条纹,用于共焦显微光学系统的结构光场照明,实现空间超分辨率成像;在纳秒频闪分幅照明模式下,不仅可实现超分辨率显微成像,提升纳米检测可靠性和检测速度,还可进行样品的动态检测分析,实现瞬态纳米结构的检测。

    彩色动态图的激光打印装置及方法

    公开(公告)号:CN104191825B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201410448548.2

    申请日:2014-09-04

    CPC classification number: B41M3/148 B41J2/442 B41M5/267 G02B3/0056 G02B5/128

    Abstract: 本发明公开了一种彩色动态图的激光打印装置及方法,其中,彩色动态图的激光打印装置包括:光学系统和记录材料,记录材料包括由多个微球或微透镜形成的折光层、形成于多个微球或微透镜焦面上的遮光层;光学系统包括激光器和图形生成器件,激光器发出的激光经图像生成器件处理后,照射到记录材料上,照射到记录材料上的激光经折光层聚焦在遮光层上,当聚焦的激光的能量大于遮光层的蒸发阈值时,遮光层上相应形成聚焦点。通过本发明的彩色动态图的激光打印装置对激光束入射角度的偏转,在记录材料的焦面上形成不同位置的激光聚焦点,实现不同颜料的热堆积。重复入射角度的偏转,形成多通道颜色图形的激光打印,最终形成彩色多通道动态图像的再现。

    一种反射式分光光栅及干涉光刻系统

    公开(公告)号:CN103424795B

    公开(公告)日:2015-10-28

    申请号:CN201310395380.9

    申请日:2013-09-03

    Applicant: 苏州大学

    CPC classification number: G02B5/1861 G03F7/70408

    Abstract: 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统,该反射式分光光栅包括位于反射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区,所述光栅槽形区包括周期性分布的光栅结构,该光栅结构具有槽形反射面和非反射区,所述槽形反射面与光栅基面之间形成一斜角。该反射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制,使得反射出去的分束光具有最高的能量利用率,通过该反射式分光光栅的获得的干涉图形,具有良好的边界质量,能够完成进行精密的拼接图形,使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。

    一种Z轴负向放大一维精密定位平台

    公开(公告)号:CN104464838A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410784590.1

    申请日:2014-12-16

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种Z轴负向放大一维精密定位平台,包括Z轴负向放大机构、用于保护Z轴负向放大机构的基座、位于Z轴负向放大机构上方的运动平台,所述Z轴负向放大机构包括若干柔性臂、固定在柔性臂两侧的平行板、连接柔性臂与运动平台的输出件、压电陶瓷安装件以及与基座连接固定的底盘,所述平行板通过柔性铰链与柔性臂柔性连接,位于所述平行板之间、所述Z轴负向放大机构下方、所述底盘上方的空间内设置有压电陶瓷,所述压电陶瓷通过设置在两侧的平行板上的压电陶瓷安装件固定。本发明相较于传统的放大定位平台具有行程范围大、精度高、结构简单、体积小、刚度大、灵敏度高、分辨率高、纳米级、适宜作微动平台等优点。

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