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公开(公告)号：CN101568861A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200780048067.0
申请日：2007-12-05
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B5/208 , G02B5/305 , G02F1/133528 , G02F1/133615 , G02F2201/086 , G02F2201/50 , Y10T428/10 , Y10T428/1041
Abstract: 本发明提供一种薄型偏振片保护薄膜，其具有优异的紫外线吸收能力，并具有优异的耐热性、优异的透明性，且薄膜面的外观良好，可通过稳定的薄膜成形进行生产。本发明的偏振片保护薄膜依次包含树脂层(A)及树脂层(B1)，该树脂层(A)是含(甲基)丙烯酸类树脂作为主成分的树脂层，且以相对于该树脂层(A)中的树脂成分为0.5～10重量％的比例含有紫外线吸收剂，该树脂层(B1)是含(甲基)丙烯酸类树脂作为主成分的树脂层，且以相对于该树脂层(B1)中的树脂成分为超过0重量％且为2重量％以下的比例含有紫外线吸收剂。
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公开(公告)号：CN100442119C
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200410085033.7
申请日：2004-10-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/30
CPC classification number: G02B5/305
Abstract: 本发明提供耐损伤性良好的直线偏光分离薄膜、耐损伤性良好且操作性优良的直线偏光分离薄膜以及具有上述特性并具备抗静电效果的导电性直线偏光分离薄膜，这些薄膜耐久性优良，在上述直线偏光分离薄膜(A)的直线偏光分离薄膜(1)的一侧，有优选1～6μm厚度的硬涂层(2)，或者优选由分散有金属氧化物微粒的树脂被膜层形成的导电性硬涂层(2a)。
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公开(公告)号：CN101204697A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710199174.5
申请日：2007-12-18
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供连续生产率优异的硬涂薄膜的制造方法，其能够在不增加工序数的情况下使用简易的制造装置、以简便的方法防止硬涂薄膜发生卷曲和折断，能够制造平坦且高硬度的硬涂薄膜。该制造方法是在透明塑料薄膜基材(1)的至少一个表面上具有硬涂层(2)的硬涂薄膜(3)的制造方法，其中准备包含硬涂树脂和溶剂的硬涂层形成材料，在上述透明塑料薄膜基材(1)的至少一个表面上涂布上述硬涂层形成材料而形成涂膜，通过使上述涂膜固化，从而形成上述硬涂层(2)。在上述准备和涂膜形成中的至少一个工序中，将上述硬涂层厚度(A)和上述透明塑料薄膜基材厚度(B)之比(A/B)调整为1/2.6以上的范围。
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公开(公告)号：CN100395283C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200410079403.6
申请日：2004-07-01
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: G02B1/111 , C08J7/047 , C08J2301/02 , C08J2483/00 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02F1/133502 , Y10T428/28
Abstract: 本发明涉及一种制备导电纤维素基薄膜的方法，所述薄膜具有高均匀性、透明性和极佳的光学性能，同时在形成导电层时防止脱色现象。依照本发明制备导电纤维素基薄膜的方法是一种通过使用含有粘合剂、超细颗粒和溶剂的涂布溶液涂敷纤维素基薄膜、以在其上形成导电层来制备导电纤维素基薄膜方法，其中所述涂布溶液包括占总溶剂20—40重量%的至少一种二醇单烷基醚基溶剂以及占总溶剂20—50重量%的一种酮基溶剂，所述的二醇单烷基醚基溶剂选自乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚或丙二醇单乙醚。
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公开(公告)号：CN101045347A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200710088472.7
申请日：2007-03-27
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬涂薄膜，其使用硬涂层形成材料在透明塑料薄膜基材的至少一个面上形成硬涂层，所述硬涂层形成材料包括：(A)成分，氨基甲酸酯丙烯酸酯及氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯的至少一种；(B)成分，多元醇丙烯酸酯及多元醇甲基丙烯酸酯的至少一种；及(C)成分，包含下述通式(1)的重复单元的聚合物。
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公开(公告)号：CN111326291B
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN201911275576.8
申请日：2019-12-12
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 提供在形成较厚的导电层时也可抑制树脂薄膜的褶皱的产生的导电性薄膜的制造方法。一种导电性薄膜的制造方法，其包括：工序A，在树脂薄膜的一个面形成第1导电层；工序B，在前述第1导电层上贴合保护薄膜；及工序C，边放出前述树脂薄膜边通过溅射法在前述树脂薄膜的另一面形成厚度80nm以上且300nm以下的第2导电层。
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公开(公告)号：CN110614833B
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN201910527687.7
申请日：2019-06-18
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: [课题]提供即使经由真空工艺也能抑制薄膜污染的树脂薄膜和使用其而得到的导电性薄膜、以及层叠薄膜的制造方法。[解决手段]一种树脂薄膜，其包含在大气压下的沸点或热分解点为285℃以下的抗氧化剂。前述抗氧化剂在1.3Pa的真空下的沸点或热分解点优选为50℃以下。
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公开(公告)号：CN115298756A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202180021682.2
申请日：2021-03-18
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: H01B5/14 , B32B9/00 , B32B9/04 , H01L31/0224 , H01B5/16 , H01B13/00 , C23C14/08 , C23C14/34 , H01Q1/38 , H01Q1/52 , H05K9/00 , B32B7/00 , B32B7/023 , B32B7/025 , G02F1/1343 , G06F3/041 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的透明导电性薄膜的制造方法包括：准备工序，其准备透明基材(10)；以及成膜工序，其利用溅射法将透光性导电材料成膜在透明基材(10)上，形成非晶质的透光性导电层(20)。在成膜工序的溅射法中，使用包含原子序数比氩大的稀有气体的溅射气体，并且，在成膜气压为0.04Pa以上且0.9Pa以下的条件下，对透光性导电材料进行成膜。
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公开(公告)号：CN111696703A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN202010174097.3
申请日：2020-03-13
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: H01B5/14 , H01B13/00 , B32B3/30 , B32B15/04 , B32B27/06 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B33/00 , B32B7/12
Abstract: 提供能够实现薄型化、并且抑制尺寸变化的薄膜层叠体、及图案化导电性薄膜的制造方法。薄膜层叠体(1)在厚度方向具备载体薄膜(2)及导电性薄膜(3)，导电性薄膜(3)在厚度方向具备透明基材(7)及透明导电层(10)，载体薄膜(2)具备保护基材(4)，透明基材(7)的厚度不足50μm，保护基材(4)的热收缩率为0.20％以下，保护基材(4)与导电性薄膜(3)的线性热膨胀系数差为40ppm/℃以下，对薄膜层叠体(1)进行加热剥离时的导电性薄膜(3)的热收缩率为0.20％以下。
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