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公开(公告)号：CN101473692B
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN200780023073.0
申请日：2007-06-15
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 一种能正常地均匀加热加热室的整个内部并且按照需要实现局部集中加热的微波加热装置。该微波加热装置包括：微波发生装置；波导管，传送来自微波发生装置的微波；加热室，放置着将由微波加热的物体；旋转天线，将微波从波导管辐射到加热室中；驱动单元，旋转地驱动所述旋转天线；温度分布检测装置，检测加热室中的温度分布；和控制装置，根据温度分布检测装置的检测结果，通过控制所述驱动单元，来控制旋转天线的方向。控制装置控制至少一个旋转天线，以使其具有高辐射指向性的部分定向成朝向根据温度分布检测装置的检测结果而确定的方向上以对物体进行集中加热。驱动装置包括用于检测旋转天线的位置的位置检测装置。
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公开(公告)号：CN102037782A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980118517.8
申请日：2009-04-14
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/707 , H05B6/688 , H05B6/705 , H05B6/725 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 本发明提供一种微波加热装置，其具有将来自微波产生单元的微波传送至加热室的波导管(32)，波导管的与传送路径正交的截面为矩形，波导管具有弯曲的传送路径，并且波导管具有对置的一对磁场面以及对置的一对电场面，一个磁场面构成为具有铅直面(43)、水平面(47)以及斜面(44)，该斜面相对于水平面和铅直面具有预定的角度，并且在该一个磁场面设置有：对来自微波产生单元的微波进行导入的机构(42)；以及用于将在波导管内传送的微波辐射向加热室的机构(38)。
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公开(公告)号：CN1143599C
公开(公告)日：2004-03-24
申请号：CN95195792.9
申请日：1995-10-19
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/6411 , H05B6/66 , H05B6/688 , H05B6/704 , H05B6/705 , H05B6/74 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 本发明加热被加热物体的高频电波加热装置中设置发射电磁波的电磁波发射手段、能够以该电磁波发射手段发射的电磁波对被加热物体的任意部位进行加热的局部加热手段，以及控制该局部加热手段的控制手段。又根据需要设置保护局部加热手段的保护手段和载物台，或设定手段和检测手段，同时根据设定手段和检测手段控制局部加热手段、电磁波发射手段或载物台。
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公开(公告)号：CN1229463A
公开(公告)日：1999-09-22
申请号：CN98800860.2
申请日：1998-06-18
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: F24C7/02
CPC classification number: H05B1/0266 , H05B6/6435
Abstract: 一种烹调装置,从管理计算机传输的被加热物的烹调等信息传送给设备侧计算机,设置在设备侧计算机的控制手段按照该信息对烹调进行遥控,或对烹调室内任意部位进行局部烹调。
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公开(公告)号：CN111183708B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN201980003759.6
申请日：2019-09-06
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波处理装置具有：处理室，其收纳被加热物；微波供给部，其向处理室供给微波；以及谐振部，其在微波的频带中具有谐振频率。谐振部具有多个贴片谐振器，该多个贴片谐振器配置成沿着在构成处理室的金属壁面上产生的偏振面的方向排列至少3个贴片谐振器。根据本方式，能够对处理室内的驻波分布、即微波能量分布进行控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110169200B
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN201780082422.X
申请日：2017-12-25
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波加热装置具有：加热室，其收纳被加热物；微波产生器，其构成为生成微波；波导管，其构成为将微波引导至加热室；以及电磁场分布调整装置，其设置于加热室内的规定的二维区域中。电磁场分布调整装置具有多个金属片和多个开关。多个金属片以填充该二维区域的方式排列。多个开关连接多个金属片。通过利用多个开关中的至少两个开关将多个金属片中的一个金属片与和该一个金属片相邻的金属片中的最多两个金属片连接，从而构成串联连接金属片列。根据本方式，能够实现抑制加热效率的降低并且更加均匀地加热被加热物的低成本的电磁场分布调整装置。
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公开(公告)号：CN110892789A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880041538.3
申请日：2018-06-28
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 微波处理装置具有处理室、微波供给部以及谐振部。处理室由多个壁面围成，收纳被加热物。微波供给部向处理室提供微波。谐振部设置于多个壁面中的一个壁面，在微波的频带中具有谐振频率。根据本方式，通过对提供到处理室的频率进行控制，能够使谐振部的表面的阻抗发生变化。由此，能够对处理室内的驻波分布、即处理室内的微波能量分布进行控制。其结果是，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，能够对各被加热物实施期望的介电加热。
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公开(公告)号：CN103974480B
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201410044115.0
申请日：2014-01-30
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H05B6/72
Abstract: 本发明提供微波加热装置，具有：加热室，其载置被加热物并进行基于微波的加热；微波供给部，其供给微波；以及波导管构造体，其用于将从微波供给部供给的微波传送到加热室，波导管构造体具有：第1波导管，其与微波供给部连接；以及第2波导管，其通过耦合轴而耦合来自微波供给部并在第1波导管内传送的微波，并且具有以向加热室放射耦合后的微波的方式开口的微波放射开口部，第2波导管的微波放射开口部具有相对于耦合轴配置于一侧和另一侧的第1开口和第2开口。由此，能够更均匀地对被加热物进行微波加热。
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公开(公告)号：CN104125669B
公开(公告)日：2018-11-27
申请号：CN201410158333.7
申请日：2014-04-18
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 一种微波加热装置，其具有：加热室，其载置被加热物，进行基于微波的加热；微波供给部，其供给微波；以及波导管结构体，其用于将从微波供给部供给的微波传送到加热室，波导管结构体具有：第1波导管，其与微波供给部连接；以及第2波导管，其通过耦合轴对从微波供给部传送到第1波导管内的微波进行耦合，并具有以使耦合后的微波朝加热室放射的方式开口的多个微波放射开口部，第2波导管具有以使第2波导管内的微波成为驻波的方式封闭的终端部。
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公开(公告)号：CN103687122B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201310383166.1
申请日：2013-08-29
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H05B6/72
CPC classification number: H05B6/708
Abstract: 本发明提供微波加热装置，能够在不使用驱动机构的情况下对加热室内的被加热物均匀地加热。将多个微波放射部（105a、105b、105c、105d）中的第1微波放射部（105a、105d）配置在与波导管（104）内产生的驻波的波腹相对的位置处，将与第1微波放射部（105a、105d）相邻的第2微波放射部（105b、105c）配置在与第1微波放射部（105a、105d）在波导管（104）的传送方向上相距超过管内波长的1/4且小于管内波长的1/2的距离的位置处。
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