光学膜及其制造方法
    51.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1672070A

    公开(公告)日:2005-09-21

    申请号:CN03818329.3

    申请日:2003-07-29

    CPC classification number: G02B5/3016 G02F1/133528

    Abstract: 本发明涉及光学特性优良、可以简单并且低成本制造的光学膜。在通过层叠透明高分子薄膜层和由非液晶性聚合物形成的双折射层而得到的光学膜,上述双折射层满足nx≥ny>nz的条件,并且上述透明高分子薄膜层的面内相位差为50nm或以下。在上式中,nx、ny和nz分别表示上述双折射层中X轴方向、Y轴方向和Z轴方向的折射率。上述X轴方向是表示在上述双折射层的面内方向上最大折射率的轴方向,上述Y轴方向是与上述面内的上述X轴方向垂直的轴方向,上述Z轴方向表示与上述X轴方向和上述Y轴方向垂直的厚度方向。

    有机硅多孔体及其制造方法

    公开(公告)号:CN107108944B

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201580071036.1

    申请日:2015-12-25

    Abstract: 本发明的目的是提供例如可以在抑制龟裂产生的同时形成空隙率高的多孔结构、且也兼具强度的有机硅多孔体。本发明的有机硅多孔体的特征在于,含有硅化合物的微细孔粒子,且上述硅化合物的微细孔粒子彼此介由催化作用而进行了化学键合。本发明的有机硅多孔体的例如通过Bemcot(注册商标)得到的耐擦伤性为60~100%,通过MIT试验得到的耐折次数为100次以上。上述有机硅多孔体例如可以通过下述制造:使用含有凝胶状硅化合物的粉碎物的溶胶形成上述有机硅多孔体的前体,并使上述有机硅多孔体的前体中所含的上述粉碎物彼此进行化学键合。上述粉碎物彼此的化学键合例如优选为上述粉碎物彼此的化学交联键合。

    介由催化作用键合而成的空隙结构膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN107108943B

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201580071018.3

    申请日:2015-12-25

    Abstract: 本发明的目的是提供例如可以在抑制龟裂产生的同时形成空隙率高的多孔结构、且也兼具强度的空隙结构膜。本发明的空隙结构膜的特征在于,形成微细的空隙结构的一种或多种构成单元彼此介由催化作用而进行了化学键合。本发明的空隙结构膜例如通过Bemcot(注册商标)得到的耐擦伤性为60~100%,通过MIT试验得到的耐折次数为100次以上。上述空隙结构膜例如可以通过下述制造:使用含有凝胶状硅化合物的粉碎物的溶胶形成上述有机硅多孔体的前体,并使上述有机硅多孔体的前体中所含的上述粉碎物彼此进行化学键合。上述粉碎物彼此的化学键合例如优选为上述粉碎物彼此的化学交联键合。

Patent Agency Ranking