公开(公告)号：CN114924464A

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN202210124479.4

申请日：2022-02-10

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小竹正晃 ,  渡边聪 ,  增永惠一 ,  大桥正树

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可获得改善图案形成时的分辨率且改善LER及CDU的抗蚀剂图案的化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，含有：(A)硫烷(sulfurane)或硒烷(selenurane)化合物，以下式(A1)表示，及(B)基础聚合物，包含含有下式(B1)表示的重复单元且因酸的作用而分解并使于碱显影液中的溶解度增大的聚合物。式中，M为硫原子或硒原子。

公开(公告)号：CN107870518B

公开(公告)日：2021-11-09

申请号：CN201710885362.7

申请日：2017-09-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树 ,  佐佐见武志

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明为抗蚀剂组合物和图案化方法。包括基础聚合物和含碘化芳族基团的羧酸的金属盐的抗蚀剂组合物显示出增感效果和酸扩散抑制效果并且形成具有改进的分辨率、LWR和CDU的图案，所述金属选自钠、镁、钾、钙、铷、锶、铯、钡、钴、镍、铜、锌、镉、锡、锑、锆、铪、铈、铝和铟。

公开(公告)号：CN110878038B

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN201910836697.9

申请日：2019-09-05

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 井上直也 ,  大桥正树 ,  土门大将 ,  增永惠一 ,  小竹正晃

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及锍化合物、正型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。本发明中新的锍化合物具有式(A)，包含聚合物和含有锍化合物的猝灭剂的正型抗蚀剂组合物在图案形成期间的分辨率和LER方面得以改进并且具有储存稳定性。在式(A)中，R1、R2、R3和R4独立地为C1‑C20一价烃基，p为0‑5的整数，q为0‑5的整数，和r为0‑4的整数。

公开(公告)号：CN107844032B

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201710853380.7

申请日：2017-09-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。一种包括含碘化芳香族基团的羧酸的2,5,8,9‑四氮杂‑1‑磷杂二环[3.3.3]十一烷盐、双胍盐或磷腈盐的抗蚀剂组合物，呈现出增感效果和酸扩散抑制效果，且形成了具有改进的分辨率、LWR和CDU的图案。

公开(公告)号：CN107688278B

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN201710659370.X

申请日：2017-08-04

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永惠一 ,  渡边聪 ,  小竹正晃 ,  山田健司 ,  大桥正树

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及负型抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法。本发明提供了一种包含(A)甜菜碱型的锍化合物和(B)聚合物的负型抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物对于在曝光步骤期间控制酸扩散是有效的，且在图案形成期间呈现出非常高的分辨率，并形成具有最小LER的图案。

公开(公告)号：CN111793054A

公开(公告)日：2020-10-20

申请号：CN202010256383.4

申请日：2020-04-02

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 福岛将大 ,  大桥正树 ,  片山和弘 ,  计良祐纪

IPC: C07D319/06 ,  C07D321/06 ,  C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07D333/48 ,  C07D307/00 ,  C07D317/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明涉及锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖锍化合物，其是在以高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、各种光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的；并提供含有该锍化合物作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明提供一种锍化合物，以下式(A)表示；以及提供一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有由前述锍化合物构成的光酸产生剂及基础树脂。

公开(公告)号：CN107793337B

公开(公告)日：2020-09-08

申请号：CN201710771096.5

申请日：2017-08-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 三井亮 ,  藤原敬之 ,  谷口良辅 ,  长谷川幸士 ,  大桥正树

IPC: C07C381/12 ,  C07D327/08 ,  C07D333/76 ,  C07D339/08 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。对于改善对比度有效的、含有酸消除性取代基的锍盐，其高度可溶，可均匀分散。包含锍盐作为光致产酸剂的抗蚀剂组合物形成具有高的分辨率、矩形性和降低的LWR的图案。

公开(公告)号：CN110554569A

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201910465811.1

申请日：2019-05-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  大桥正树 ,  藤原敬之

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物及图案化方法。抗蚀剂组合物，包含基础聚合物和具有碘化苯环的N-羰基磺酰胺的盐，其提供高灵敏度、最小的LWR和改善的CDU，与其是正调色剂还是负调色剂无关。

公开(公告)号：CN107365266B

公开(公告)日：2019-06-11

申请号：CN201710327721.7

申请日：2017-05-11

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  谷口良辅

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明为新型锍化合物及其制造方法、抗蚀剂组合物、以及图案形成方法。提供在远紫外线光刻和EUV光刻中给予析像性、LWR、MEF和CDU优异的抗蚀剂膜的抗蚀剂组合物、其中使用的锍化合物、和使用了该抗蚀剂组合物的图案形成方法。由下述式(1)表示的锍化合物。(式中，R1、R2和R3各自独立地表示可含有杂原子的碳数1～20的直链状、分支状或环状的1价烃基。p和q各自独立地表示0～5的整数。r表示0～4的整数。)。

公开(公告)号：CN109307985A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201810834820.9

申请日：2018-07-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  畠山润 ,  阿达铁平

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明为锍盐、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。涂布包含衍生自具有聚合性基团的特定结构的锍盐的重复单元的聚合物，以形成因为改进的LWR、CDU和分辨率而适于精确图案化的抗蚀剂膜。