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公开(公告)号：CN113189846A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202110388124.1
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20 , G03F1/68 , B23K26/00 , B23K26/06 , B23K26/066 , B23K26/067
Abstract: 本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
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公开(公告)号：CN112882184A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202110061579.2
申请日：2021-01-18
Abstract: 本发明公开了一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、角度压电调节镜架、二色镜、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明可以对两束不同波长的激光束进行合束，确保光斑中心严格对准，并且对出射后的合束光进行光束稳定，在长时间工作中保持两束光的中心一直稳定在重合状态，实现小型化、高精度、快速度的合束光稳定控制。利用本发明装置调整得到稳定的合束光，可以广泛用于超分辨显微成像和高精度激光直写光刻等系统中。
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公开(公告)号：CN112596349A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN202110046632.1
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法，主要包含三个核心元件：数字微镜阵列DMD、空间光调制器SLM和微透镜阵列MLA，DMD将有效像素区域等分成N×N个单元，一个单元对应一个光斑，对DMD每个单元包含的m×m个微镜进行独立开关，实现各单元光斑强度和均匀度的独立调控；SLM将有效像素区域等分成N×N个单元，并与入射的各单元光斑一一对应并独立进行相位控制；MLA用于生成焦点阵列，其微透镜数N×N决定了点阵的数量，该点阵随后经凸透镜和物镜成像到物镜焦平面上进行加工，该装置与方法具有灰度光刻的功能，能够快速加工任意形状且高均匀度的曲面结构及真三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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公开(公告)号：CN112505064A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN202011506981.9
申请日：2020-12-18
IPC: G01N21/95
Abstract: 本发明是一种晶圆缺陷检测系统及方法，包括处理单元、控制组件、位移组件、检测组件和信号采集单元，所述位移组件与检测组件配合设置，位移组件通过位移控制检测组件的检测信号采集及运动，所述控制组件通过指令控制位移组件的移动，间接控制检测组件的检测信号采集，所述检测组件采集的信号及控制组件的指令信息传输到信号采集单元，所述信号采集单元将采集的信号传输给处理单元处理，得到缺陷信息；本发明降低了对面阵探测器灵敏度的要求，可以有效地降低探测器成本；相对传统扫描方式，可以极大的提升整个系统的检测速度；由于面阵探测器在面区域曝光过程中不移动，可以改善传统扫描方式抖动模糊的问题，提高缺陷的检测识别率。
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公开(公告)号：CN111879737A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201910855176.8
申请日：2019-09-10
Abstract: 本发明提供一种产生高通量超衍射极限焦斑的方法，包括步骤：1)生成激发光；2)将生成的损耗光调制为空心损耗光；3)将激发光和空心损耗光合束后转换为光束阵列；4)将光束阵列聚焦在样品上进行受激发射损耗生成高通量超衍射极限焦斑扫描样品。本发明还提供一种产生高通量超衍射极限焦斑的装置。本发明相较于现有技术：具有极高的受激发射损耗显微成像速度和激光直写光刻速度；具有低至几十纳米的超高分辨率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111538164B
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010654713.5
申请日：2020-07-09
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于数字微镜器件的空心光斑阵列并行调控装置，该装置利用空间光调制器对入射光束进相位调制，形成空心光斑阵列成像到数字微镜器件上，随后经过第四透镜与物镜，最终在样品材料上形成空心光斑阵列。本发明可以通过空间光调制器生成高质量的空心光斑阵列，利用数字微镜器件对阵列中每个单独的空心光斑实现快速地开关，从而控制样品材料处空心光斑阵列图案。本发明利用数字微镜器件的快速调制特点，结合空间光调制器在产生空心光斑阵列质量上的优势，可以为基于受激辐射损耗的高通量光刻技术提供可高速独立调控的空心光斑阵列，推动高速、纳米尺度三维光刻的发展。
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公开(公告)号：CN118244445A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410660267.7
申请日：2024-05-27
Abstract: 本发明公开了一种定力矩止动的高精度物镜对焦装置及对焦方法，该装置包括主体固定框架、压电驱动器、电动止推杆、止动活动块、止动部件底座、止动滑动块、主体滑动框架、弹簧柱塞、编码器、光栅尺、升降电机、升降连接器、行程挡块、行程开关等部件。该装置为一种小型化的集成物镜对焦装置，兼顾大范围运动行程与小范围运动精度，并配合行程开关和编码器光栅尺等部件实现闭环绝对位置控制和检测；且使用一种基于杠杆的固定力矩装置进行物镜升降止动，在止动时实现固定的止动力，根据安装的物镜重量进行预设，在失电时能保持止动。利用本发明装置及方法搭建的物镜对焦装置，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN117590703A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311555302.0
申请日：2023-11-21
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光栅光阀角色散补偿的飞秒激光扫描刻写装置及方法，该装置按光前进方向依次包括飞秒激光光源、第一柱面透镜、第二柱面透镜、偏振分束棱镜、光栅光阀、透镜、四分之一波片、反射镜、套筒透镜、物镜和位移台，将飞秒激光一维扩束成线光场进行激光扫描直写，并通过光栅光阀对飞秒线形光斑各子区域强度独立调控，产生任意强度分布的飞秒激光线光场，结合位移台的扫描，进行快速的线光场扫描刻写；由于光栅光阀具有衍射光栅属性，飞秒激光入射后会产生角色散，通过引入角色散补偿模块使出射光栅光阀后发散的飞秒激光不同波长原光路返回，实现角色散补偿。本发明的响应速度极快，可实现高效、灵活的灰度刻写和高均匀结构加工。
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公开(公告)号：CN114326322B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111528094.6
申请日：2021-12-14
Abstract: 本发明公开了一种基于微透镜阵列和DMD的高通量超分辨激光直写系统。该系统使用一片包括m×m个镜元的微透镜阵列产生m×m束并行光束，结合紫外飞秒激光器、四光束分束器、DMD、合束器、平板光束位移元件、透镜、物镜搭建而成的光路在物镜焦平面上形成2m×2m个焦点点阵分布，将基于微透镜阵列和DMD的激光直写通量提高到原来的4倍，大幅提高直写速度，且每个焦点可由DMD独立调节光强，从而结合直写算法实现任意图形的并行超分辨激光直写。本发明可应用于微透镜阵列、衍射光学元件、光刻掩模板等的快速加工制造。
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公开(公告)号：CN114002799B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111216079.8
申请日：2021-10-19
Abstract: 本发明公开了一种三轴弹性结构光学调整架，该调整架为一种弹性调节构型，利用结构件本身的弹性提供调整架所需的调节活动范围，并通过预制负角度的初始安装位置使弹性部件获得负极限调节位置，以此实现调节范围内始终能够获得预紧力，及调节零位正负方向上的调节能力；通过组合三对弹性调节结构，使其形成互相垂直的三个调节回转轴，对与安装在该调整架上的光学元件，可获得三轴转动的调节能力，并具有锁定功能。
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