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公开(公告)号:CN112188081A
公开(公告)日:2021-01-05
申请号:CN202010623932.7
申请日:2020-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种可知事件中的一使用者的特有的生活方式的图像处理装置、图像处理方法、及记录介质。从同一事件的图像检测根据一使用者(U3)所拍摄的图像(C41‑C60)得到的第1属性和根据比一使用者(U3)更多的其他使用者(U1、U2、U4、U5及U6)所拍摄的图像(C1‑C20、C21‑C40、C61‑C80、C81‑C100及C101‑C120)得到的第2属性。第1属性表示在该事件中进行特有的生活方式的一使用者的特征。根据第1属性,将适合于一使用者的商品等信息通知给一使用者。
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公开(公告)号:CN112088528A
公开(公告)日:2020-12-15
申请号:CN201980030931.7
申请日:2019-04-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 一种摄影系统,其包括多个移动式设备,所述移动式设备具备:获取部,当通过识别部识别为分配有摄影担当的任务时,获取通过基于摄影设备的摄影而得到的图像;配置控制部,当在通过所述获取部获取的图像内不存在预先设定的摄影对象和分配有摄影对象的任务的移动式设备中的至少一方时,进行用于在所述摄影设备的视角内配置所述预先设定的摄影对象和分配有摄影对象的任务的移动式设备的控制;及存储控制部,当在通过所述获取部获取的图像内存在所述预先设定的摄影对象和分配有摄影对象的任务的移动式设备时,进行将通过所述获取部获取的图像存储于存储部的控制,所述多个移动式设备包含至少各一台分配有摄影对象的任务的移动式设备和分配有摄影担当的任务的移动式设备。
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公开(公告)号:CN111263916A
公开(公告)日:2020-06-09
申请号:CN201880068921.8
申请日:2018-10-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够防止画质的降低和波纹且能够对多个波长的光进行曝光的图像曝光装置及图像曝光方法。图像曝光装置(10)具备:图像显示装置(20),具备发射多个波长的光的像素;感光性记录介质支撑部(70),支撑记录图像显示装置(20)的图像的感光性记录介质(40);准直部(50),配置于图像显示装置(20)与感光性记录介质支撑部(70)之间且将包含从像素辐射的多个波长的光的辐射光(RL)设成在比辐射光(RL)的辐射角窄的第1辐射角(θ1)的范围内辐射的第1透射光(TL1);及干扰滤光片(60),配置于准直部(50)与感光性记录介质支撑部(70)之间且将包含多个波长的光的第1透射光(TL1)设成在第1辐射角(θ1)的范围以下的第2辐射角(θ2)的范围内辐射的第2透射光(TL2)。
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公开(公告)号:CN107533155B
公开(公告)日:2019-05-14
申请号:CN201680022785.X
申请日:2016-03-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B1/118 , B32B3/30 , B32B7/02 , C03C17/245 , C03C17/25
Abstract: 本发明提供一种结构物的制造方法,其为具有通过进行温水处理而形成的透明的微细凹凸结构体的结构物的制造方法,该方法形成更微细的凹凸结构。一种结构物的制造方法,其为制造具有基材(11)及通过进行温水处理而形成于表面的透明的微细凹凸结构体(12c)的结构物(10)的结构物的制造方法,该结构物的制造方法具有:第一工序,在基材(11)上形成透明的微细凹凸结构体(i2c)的前体膜(12);第二工序,在前体膜(12)的表面形成微细凹凸结构;及第三工序,对形成有微细凹凸结构的前体膜(12a)进行温水处理来形成透明的微细凹凸结构体(12c),在第二工序中所形成的微细凹凸结构的凹凸的空间频率的峰值v0满足v<v0(式I)。在式I中,v0为微细凹凸结构的空间频率的峰值,v为在前体膜的表面不形成微细凹凸结构时的透明的微细凹凸结构体的空间频率的峰值。
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公开(公告)号:CN107533155A
公开(公告)日:2018-01-02
申请号:CN201680022785.X
申请日:2016-03-17
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B1/118 , B32B3/30 , B32B7/02 , C03C17/245 , C03C17/25 , C03C2217/214 , C03C2217/28 , C03C2217/732 , C03C2218/32 , C03C2218/33 , C03C2218/34
Abstract: 本发明提供一种结构物的制造方法,其为具有通过进行温水处理而形成的透明的微细凹凸结构体的结构物的制造方法,该方法形成更微细的凹凸结构。一种结构物的制造方法,其为制造具有基材(11)及通过进行温水处理而形成于表面的透明的微细凹凸结构体(12c)的结构物(10)的结构物的制造方法,该结构物的制造方法具有:第一工序,在基材(11)上形成透明的微细凹凸结构体(i2c)的前体膜(12);第二工序,在前体膜(12)的表面形成微细凹凸结构;及第三工序,对形成有微细凹凸结构的前体膜(12a)进行温水处理来形成透明的微细凹凸结构体(12c),在第二工序中所形成的微细凹凸结构的凹凸的空间频率的峰值v0满足v<v0(式I)。在式I中,v0为微细凹凸结构的空间频率的峰值,v为在前体膜的表面不形成微细凹凸结构时的透明的微细凹凸结构体的空间频率的峰值。
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