一种常压大气准辉光低温等离子处理金属膜的装置

    公开(公告)号:CN106244980A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610764930.3

    申请日:2016-08-30

    Inventor: 张凯 万京林

    CPC classification number: C23C8/36 C21D1/09

    Abstract: 本发明涉及金属膜加工设备技术领域,尤其是一种常压大气准辉光低温等离子处理金属膜的装置,包括放电处理模块、气动脱离模块、散热模块和智能化操作模块,放电处理模块由至少两组用于加工处理金属膜的放电辊和对应包覆在放电辊外表面的电极构成,放电处理模块的一端设置有气动脱离模块,放电处理模块的另一端设置有智能化操作模块,放电辊采用轻质铝辊,两个放电辊上下交错设置,且对应的电极通过电极固定板固定连接,放电辊的一端设有放电辊前端进风口,另一端设有未放电部位排风口和放电部位排风口,进行放电辊散热,双面连续不间断处理,操作简单,不损伤金属膜本身,可满足快速生产,放电辊寿命比以往大大延长。

    一种转移式低温等离子体材料处理装置

    公开(公告)号:CN119560360A

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202411612854.5

    申请日:2024-11-13

    Abstract: 本发明提供转移式低温等离子体材料处理装置,包括等离子体发生装置、材料固定传送装置、气氛供应装置和水冷装置,等离子体发生装置包括间隔设置的第一高压电极管和第二高压电极管,两组高压电源为两高压电极管提供双极性高压电;材料固定传送装置与等离子体发生装置可相对移动,当电极板远离等离子体发生装置时双极性电极组件间产生低温等离子体,当电极板与等离子体发生装置上下分布时,低温等离子体从双极性电极组件之间向待处理材料表面转移,用于材料表面处理;水冷装置用于冷却电极管,气氛供应装置用于提供气氛以产生指向性自由基。本装置结构简单,等离子体产生与转移皆为均匀状态,处理过程中电源无需频繁启闭,处理温度低,实用性强。

    弥散放电等离子体气流产生装置、治疗仪及使用方法

    公开(公告)号:CN119364624A

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202411669817.8

    申请日:2024-11-21

    Abstract: 本发明涉及等离子体医疗技术领域,具体涉及一种弥散放电等离子体气流产生装置、治疗仪及使用方法,弥散放电等离子体气流产生装置包括管状壳体,管状壳体设有气流通道,气流通道内通入旋转气流;放电电极位于气流通道内中心部位,并且其放电方向与气流流向相同;引导电极位于放电电极放电端,并且与放电电极相对应设置;当电极通电时,放电电极与引导电极之间形成弥散放电等离子体,等离子体位于旋转气流的中心位置附近。本申请有效避免了因气流导致等离子体无规则移动放电而产生的噪音,还可以避免气流导致等离子体旋转弥散放电滑动或频繁启停,从而减少放电噪声。

    一种低温等离子体消除蓝藻的装置

    公开(公告)号:CN110510699B

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN201910743512.X

    申请日:2019-08-13

    Abstract: 本发明公开了一种低温等离子体消除蓝藻的装置,包括太阳能供电装置、电控装置、等离子体电极装置、动力装置、散热装置以及悬浮装置;太阳能供电装置用于将吸收的太阳能转换成电能并为整个装置供电;电控装置分别与等离子体电极装置、动力装置和散热装置电连接,用于控制各装置的运行;等离子体电极装置用于对蓝藻水面进行直接放电击穿;散热装置将气流从陶瓷电极棒吹向水面进行散热以及粒子杀菌;动力装置用于整体装置的移动。本发明在高电压的作用下直接击穿破坏蓝藻,等离子体与水面作用的过程直接分解水面上溶解有毒有害成分,其放电产生的大量活性基团使水体具有较高氧化活性,具有杀菌消毒,分解有毒污染物,提高水质的作用。

    一种低温等离子体宽幅线型射流材料处理装置及方法

    公开(公告)号:CN118553590A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202410628020.7

    申请日:2024-05-21

    Abstract: 本发明公开了一种低温等离子体宽幅线型射流材料处理装置及方法,包括高压电极装置、低压电极槽板、高压电极冷却装置、腔室、供气装置和高压电源系统;高压电极装置包括外介质管、绝缘堵头和同时作为电极内冷部件的高压电极部件;高压电极冷却装置产生冷却介质;腔室以铣出凹槽的低压电极槽板为腔室底板,高压电极装置安装于腔室内凹槽上方,与凹槽平行设置;低压电极槽板凹槽以下铣出一条射流喷射缝,射流喷射缝贯穿低压电极槽板,在射流喷射缝外放置待处理的材料;腔室连接有向腔室中充入高压气体的供气装置;高压电极装置连接有对其中的高压电极部件施加电压的高压电源系统。本发明的装置能在常压产生电中性射流、处理宽幅大。

    可连续处理面片的高压电场低温等离子体冷杀菌核心装置

    公开(公告)号:CN113558167B

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202110794846.7

    申请日:2021-07-14

    Abstract: 本发明公开了可连续处理面片的高压电场低温等离子体冷杀菌核心装置,具体涉及食品杀菌技术领域,包括电极组件、面片引导系统、电极冷却系统、排臭氧系统和控制系统。本发明通过导向辊和电极组件的设置,使面片从压面机上下来之后通过一系列的导向辊导入到两组高压电极之间,电极组件同时处理面片的正反两面,且电极组件到面片的距离可移动调整,使电极组件可连续处理面片,工作效率高;通过高压电源的设置,使高压电源输入后高压电极之间产生高压电场,激发电极与面片间隙处的介质气体产生等离子体而达到杀菌效果,面片在电极之间连续通过,经过处理后的面片再经由导向辊输出设备,杀菌效果好,面片食用安全性高。

    亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置

    公开(公告)号:CN110139457B

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN201811310125.9

    申请日:2018-11-06

    Abstract: 一种亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置,包括放卷机构、亚真空低温等离子体材料处理设备和放卷机构,亚真空低温等离子体材料处理设备包括一个以上的主腔体和多级真空缓冲腔体,主腔体位于中间,各级缓冲腔体对称分布于主腔体两侧,沿着材料的走向依次排布,所述主腔体与缓冲腔体之间或相邻缓冲腔体之间通过隔板封闭,隔板中部设有通孔,亚真空低温等离子体材料处理设备的电极组贯穿主腔体和各缓冲腔体,材料从电极组的放电间隙中穿过,所述主腔体的真空范围为99900~10Pa。本发明可实现在亚真空环境下,对一定宽幅范围内的材料的连续处理,且相较于常压低温等离子体处理装置对材料具有更好的处理效果,工作效率高,工作稳定。

    一种低温等离子体消杀装置
    50.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117958315A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410229227.7

    申请日:2024-02-29

    Abstract: 本发明公开了一种低温等离子体消杀装置,包括:等离子发生组件、传送带以及差分电源组件,等离子发生组件用于产生低温等离子体;传送带用于传送目标物料,传送带在传送路径上传送时,传送带穿行通过等离子发生组件,以使得目标物料被低温等离子体消杀;差分电源组件与等离子发生组件电连接,为等离子发生组件提供差分电源。本技术方案基于差分电源组件为等离子发生组件供电,使得等离子发生组件的电压绝对值较低,缩短了等离子发生组件与周围金属结构的绝缘距离,提高等离子发生组件的应用安全性,减小了消杀装置的整体体积,实现了目标物料的基于低温等离子体的连续式消杀。

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