闪烁体面板及其制作方法、放射线图像检测装置

    公开(公告)号:CN114114373A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202111386031.1

    申请日:2021-11-22

    Abstract: 本公开提供了一种闪烁体面板及其制作方法、放射线图像检测装置,属于闪烁体面板技术领域。该闪烁体面板包括基底,包括感光区;闪烁体层,设于基底的一侧并以柱状晶体生长,闪烁体层位于感光区,闪烁体层包括第一部和位于第一部外围的第二部,第二部的柱状晶体的高度小于第一部的柱状晶体的高度;侧围坝,设在闪烁体层的外围;透明阻水层,设于闪烁体层远离基底的一侧;反射封装膜,包括粘结层和反射膜层,反射封装膜通过粘结层贴附于透明阻水层远离基底的表面和侧围坝;其中,粘结层在基底所在平面上的正投影与第一部在基底所在平面上的正投影不重叠,且粘结层在基底所在平面上的正投影与第二部在基底所在平面上的正投影至少部分重叠。

    掩膜板和掩膜板的制造方法

    公开(公告)号:CN108385058B

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN201810548269.1

    申请日:2018-05-31

    Abstract: 本发明公开了一种掩膜板和掩膜板的制造方法,属于蒸镀技术领域。掩膜板包括:掩膜,掩膜包括掩膜基底以及设置在掩膜基底上的镀层,镀层的热膨胀系数大于掩膜基底的热膨胀系数;其中,掩膜在蒸镀温度下为平整状态,掩膜中的镀层在蒸镀温度下由凸起状态膨胀为平整状态。本发明通过在掩膜上形成热膨胀系数较大的镀层,且使掩膜在蒸镀温度下为平整状态,这样在常温下掩膜就会因为镀层的收缩而呈弯曲状态,将包括该掩膜的掩膜板设置在在蒸镀基板上时,掩膜的边缘不会与待蒸镀基板接触,避免了对待蒸镀基板的损伤。解决了相关技术中掩膜板可能损伤待蒸镀基板的问题。达到了能够避免掩膜板损伤待蒸镀基板的效果。

    一种背光模组、液晶显示模组以及液晶显示装置

    公开(公告)号:CN108563070A

    公开(公告)日:2018-09-21

    申请号:CN201810384344.5

    申请日:2018-04-26

    Inventor: 杨凯

    Abstract: 本发明提供一种背光模组、液晶显示模组以及液晶显示装置,以使用较少的量子点材料使液晶显示面板实现高色域的显示效果。本发明实施例提供一种背光模组,包括:背板、设置在所述背板之上的导光板以及灯条组件,其中,所述灯条组件设置在所述导光板的侧边;所述灯条组件包括:开口朝向所述导光板的U型槽,与所述U型槽内底面固定的发光部件,与所述发光部件相对设置的量子点膜片,所述发光部件激发所述量子点膜片发光,并入射到所述导光板。

    掩膜板和掩膜板的制造方法

    公开(公告)号:CN108385058A

    公开(公告)日:2018-08-10

    申请号:CN201810548269.1

    申请日:2018-05-31

    Abstract: 本发明公开了一种掩膜板和掩膜板的制造方法,属于蒸镀技术领域。掩膜板包括:掩膜,掩膜包括掩膜基底以及设置在掩膜基底上的镀层,镀层的热膨胀系数大于掩膜基底的热膨胀系数;其中,掩膜在蒸镀温度下为平整状态,掩膜中的镀层在蒸镀温度下由凸起状态膨胀为平整状态。本发明通过在掩膜上形成热膨胀系数较大的镀层,且使掩膜在蒸镀温度下为平整状态,这样在常温下掩膜就会因为镀层的收缩而呈弯曲状态,将包括该掩膜的掩膜板设置在蒸镀基板上时,掩膜的边缘不会与待蒸镀基板接触,避免了对待蒸镀基板的损伤。解决了相关技术中掩膜板可能损伤待蒸镀基板的问题。达到了能够避免掩膜板损伤待蒸镀基板的效果。

    产品信息的录入方法、装置、设备、介质和区块链系统

    公开(公告)号:CN117480501A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202280001574.3

    申请日:2022-05-30

    Abstract: 本公开提供的产品信息的录入方法、装置、设备、介质和区块链系统,属于区块链技术领域,应用于区块链系统中的信息管理端,所述方法包括:响应于所述区块链系统中目标平行链节点发送的信息录入请求,向所述目标平行链节点发送加密密钥;接收所述目标平行链节点通过所述加密密钥加密得到的加密产品信息;在所述区块链系统中的认证节点、所述加密产品信息的关联平行链节点对所述目标平行链节点的身份验证通过时,将所述加密产品信息上传至所述关联平行链节点。

    掩膜板组件及蒸镀设备
    47.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116162896A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202310194805.3

    申请日:2023-02-27

    Abstract: 本申请实施例提供了一种掩膜板组件及蒸镀设备。该掩膜板组件包括:框架;掩膜条,设置在框架上,并位于框架朝向待蒸镀基板的一侧,掩膜条具有第一开口,第一开口在待蒸镀基板上的正投影与待蒸镀基板的待蒸镀区域重合;掩膜托盘,设置在框架上,并位于掩膜条朝向蒸镀源的一侧,掩膜托盘遮挡至少部分掩膜条,掩膜托盘具有第二开口,第二开口在待蒸镀基板上的正投影覆盖第一开口在待蒸镀基板上的正投影;其中:掩膜托盘至少朝向蒸镀源一侧的表面粗糙度大于掩膜条的表面粗糙度。本申请实施例能够降低沉积在掩膜板组件上的膜层从掩膜板组件上剥落的风险,提高掩膜板组件的使用寿命。

    确定像素补偿值的方法和装置、电子设备、存储介质

    公开(公告)号:CN110148388B

    公开(公告)日:2021-07-30

    申请号:CN201910430807.1

    申请日:2019-05-22

    Abstract: 本发明提供一种确定像素补偿值的方法和装置、电子设备、存储介质,属于显示技术领域,其可至少部分解决现有的确定补偿值的方法计算得到的补偿值不合理的问题。本发明实施例的确定像素补偿值的方法包括:使像素分别在三个测试灰阶进行显示,并分别获得像素在各测试灰阶的实际亮度;根据像素在三个测试灰阶的实际亮度和标准亮度,分别计算出像素在三个测试灰阶的补偿值,像素在任意灰阶的补偿值为能使像素的实际亮度等于该灰阶的标准亮度的灰阶;根据特定公式计算出标准系数Gain1、Gain2、Offset;根据特定公式计算像素在灰阶x的补偿值y。

    一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置

    公开(公告)号:CN107761051B

    公开(公告)日:2019-08-27

    申请号:CN201711126620.X

    申请日:2017-11-14

    Abstract: 本发明实施例提供一种掩模版、掩模蒸镀组件及蒸镀装置,涉及蒸镀技术领域,能够解决在掩模版上支撑条位置处与待蒸镀基板之间存在较大的间隙,间隙位置处在蒸镀膜层时易于侵入沉积蒸镀材料,从而使得掩模蒸镀的膜层图案与掩模图案差异较大的问题。包括:掩模版本体,掩模版本体包括掩模版框架以及掩模版框架环绕的掩模部分,掩模部分包括多个掩模图案区域以及相邻掩模图案区域之间的无效区域。支撑条,支撑条的两端固定在掩模版框架上,且支撑条跨设于掩模部分并投影于无效区域内,用于支撑掩模版本体。升降组件,设置在掩模版框架上对应支撑条的端部位置,升降组件能够带动支撑条的端部沿垂直于掩模版框架所在平面朝向远离掩模版框架的方向移动。

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