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公开(公告)号：CN110190142B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201910518147.2
申请日：2019-06-14
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L31/0236 , H01L31/0216 , H01L31/18 , H01L31/20
Abstract: 本公开关于一种制绒方法及缓冲层的制造方法，涉及光电技术领域。该制绒方法包括：在目标膜层上覆盖保护材料，以形成保护层，保护材料包括光刻胶和发泡材料；在第一温度下对保护层进行加热，直至保护层远离目标膜层的表面凹凸不平，第一温度小于光刻胶硬化的温度；使保护层硬化；对保护层进行进行干法刻蚀，直至目标膜层的表面凹凸不平；去除保护层。本公开的制绒方法可降低成本，并提高生产效率。
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公开(公告)号：CN110244875B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201910531025.7
申请日：2019-06-19
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G06F3/041 , G06F3/044 , G02F1/1333
Abstract: 本发明实施例提供一种触控结构、触控装置及触控显示装置，涉及触控技术领域，可以改善触控结构感应精度较低的问题。该触控结构包括相对设置的第一触控电极和第二触控电极、以及设置在所述第一触控电极和所述第二触控电极之间的至少一个弹性支撑件；所述弹性支撑件的材料为绝缘材料，所述弹性支撑件与所述第一触控电极和所述第二触控电极均接触。
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公开(公告)号：CN111863909A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010736544.X
申请日：2020-07-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种显示基板、其制作方法及显示装置，包括：衬底基板，以及位于衬底基板上的导电层；其中，衬底基板包括：第一显示区，该第一显示区背离显示面的一侧被配置为设置取光模组；导电层包括：多个反射型阳极，以及位于各反射型阳极之间的间隙处且与各反射型阳极一一对应电连接的走线；其中，在第一显示区内的走线为透射型走线。在取光模组为摄像模组时，通过将取光模组所对应第一显示区内的走线设置为透射型走线，避免了走线对光线的遮挡，提高了光线的透过率，从而实现了较好的成像效果。
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公开(公告)号：CN110579225A
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201910858872.4
申请日：2019-09-11
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G01D5/241
Abstract: 本发明公开了一种平面电容传感器及其制作方法，包括第一平面电极、第二平面电极和介电层，所述第一平面电极与所述第二平面电极相对设置，且所述介电层位于所述第一平面电极与所述第二平面电极之间；其中，所述介电层在朝向所述第一平面电极的表面设置有凸起部，所述第一平面电极在朝向所述介电层的表面设置有凹陷部，所述凸起部嵌入所述凹陷部内。本发明通过改变平面电容传感器一侧电极的结构，使得该平面电极的一侧由平面结构改变为立体结构，当平面传电容传感器发生内弯或者外弯时，其电容值随弯折角度的变化曲线不再相同，因此通过两条不同的变化曲线就可以直接判断出平面电容传感器发生了内弯或者外弯。
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公开(公告)号：CN110190142A
公开(公告)日：2019-08-30
申请号：CN201910518147.2
申请日：2019-06-14
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L31/0236 , H01L31/0216 , H01L31/18 , H01L31/20
Abstract: 本公开关于一种制绒方法及缓冲层的制造方法，涉及光电技术领域。该制绒方法包括：在目标膜层上覆盖保护材料，以形成保护层，保护材料包括光刻胶和发泡材料；在第一温度下对保护层进行加热，直至保护层远离目标膜层的表面凹凸不平，第一温度小于光刻胶硬化的温度；使保护层硬化；对保护层进行进行干法刻蚀，直至目标膜层的表面凹凸不平；去除保护层。本公开的制绒方法可降低成本，并提高生产效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109950282A
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201910228109.3
申请日：2019-03-25
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开提出一种像素结构、阵列基板以及显示装置。像素结构包括反射杯结构。其中，像素结构还包括反射岛结构。反射岛结构凸设于反射杯结构的杯底，并位于反射杯结构的像素开口中。其中，反射岛结构侧壁与反射杯结构的杯壁相间隔。本公开通过在原有像素开口中增加反射岛结构，减小了反射杯结构的杯底面积，即减小了像素结构发光区域的面积，从而增大了像素结构发光区域的周长面积比，据此可以减少波导传播到反射面的传播损失，有效提高反射杯结构的提取效率。
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公开(公告)号：CN109360837A
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201811116878.6
申请日：2018-09-20
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L27/32
Abstract: 本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板，包括显示区域和位于显示区域周边的周边电路，所述周边电路设置有信号走线，所述显示基板还包括：位于所述显示基板的薄膜封装层上的至少一个导电图形，所述导电图形与所述信号走线并联。本发明的技术方案有利于实现AMOLED显示产品的窄边框化。
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公开(公告)号：CN109300947A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201811142468.9
申请日：2018-09-28
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L27/32
Abstract: 本发明提供了一种柔性显示基板及其制造方法、显示装置，该柔性显示基板包括：柔性的衬底基板；形成于衬底基板上的第一金属层；覆盖于第一金属层上的绝缘层，绝缘层上开设过孔；设置于绝缘层上的第二金属层；过孔包括第一端和第二端、及内侧壁；其中，在过孔的内侧壁及过孔的第一端的开口边缘区域覆盖有应力缓冲层，第二金属层覆盖于应力缓冲层上，并通过第二端的开口与第一金属层进行电连接。本发明通过在上、下两层金属层之间的绝缘层上设置过孔，并在过孔的内侧壁及过孔的开口边缘区域覆盖一层应力缓冲层，将上层金属层覆盖于该应力缓冲层，通过过孔与下层金属层电连接，有效的阻挡绝缘层应力集中的裂纹发展至金属层，改善弯折良率。
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公开(公告)号：CN109270791A
公开(公告)日：2019-01-25
申请号：CN201811351459.0
申请日：2018-11-14
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明实施例提供一种光刻胶及光刻胶图案的制作方法，涉及光刻胶技术领域，能够解决相关技术中由于光刻胶顶部与底部接受光照量不同而造成的光刻胶坡度角较小，进而造成Mask CD与FICD之间存在较大误差的问题。所述光刻胶包括多个感光单元，每个感光单元均具有磁性。本发明用于光刻胶图案的制作。
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公开(公告)号：CN119364971A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202310907539.4
申请日：2023-07-21
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 京东方晶芯科技有限公司
Abstract: 本公开提供了一种驱动背板、显示面板及拼接显示装置，其中，驱动背板包括：衬底基板；位于所述衬底基板上的像素驱动电路；位于所述像素驱动电路背离所述衬底基板一侧的布线层，所述布线层包括电位走线和绑定电极的图案，所述绑定电极用于绑定微发光二极管；其中，所述布线层的最外侧边缘与所述衬底基板的同侧边缘之间的距离，小于所述像素驱动电路的最外侧边缘与所述衬底基板的同侧边缘之间的距离。
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