薄膜晶体管及其制造方法
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1622337A

    公开(公告)日:2005-06-01

    申请号:CN200410092215.7

    申请日:2004-11-03

    Inventor: 姜泰旭 朴商一

    Abstract: 公开了一种薄膜晶体管及其制造方法。在该薄膜晶体管及其制造方法中,在衬底的整个表面上,在具有半导体层、栅极、源/漏极区和源/漏电极的薄膜晶体管的源/漏电极上,可依次形成有机平坦化层和无机层。在无机层上形成光致抗蚀剂图案后,可进行蚀刻工艺来覆盖有机平坦化层,以形成将象素电极连接到源/漏电极之一的接触孔或通孔。根据本发明的制造方法,可利用一个掩模形成传统利用两个或多个掩模形成的接触孔或通孔,从而简化工艺,并通过无机层提高与象素电极的粘结性,也提高了封装工艺中的密封粘结性,延长了所得薄膜晶体管的寿命。此薄膜晶体管可以适当地应用于有源矩阵型有机电致发光显示器。

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