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公开(公告)号：CN105814402A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201380081848.5
申请日：2013-11-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: G02B21/0032 , G02B21/082 , G02B21/367 , G02B26/0833 , G02B27/58
Abstract: 一种连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统，包括计算机（34）、光源（12）、可变标度的傅立叶变换光路、位相分光器件（9）、双远心投影光学系统（19）、大数值孔径物镜（30）、样品平台（32）和面阵相机，特征为：傅立叶变换光路包括第一傅立叶变换透镜或透镜组（8）与第二傅立叶变换透镜或透镜组（10），位相分光器件（9）置于两者之间，与第二傅立叶变换透镜或透镜组（10）之间的距离连续可调，具有绕傅立叶变换光路的光轴旋转的运动自由度。该连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统可灵活实现连续可变空频的干涉条纹，用于共焦显微光学系统的结构光场照明，实现空间超分辨率成像；在纳秒频闪分幅照明模式下，不仅可实现超分辨率显微成像，提升纳米检测可靠性和检测速度，还可进行样品的动态检测分析，实现瞬态纳米结构的检测。
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公开(公告)号：CN103969941A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410224727.8
申请日：2014-05-26
Applicant: 苏州大学
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明公开了一种掩膜版及其制备方法和图形化方法，其中掩膜版包括：掩膜衬底；形成于所述掩膜衬底上的若干纳米凸起，所述若干纳米凸起之间具有间距；覆盖于所述若干纳米凸起表面的遮挡层。本发明的掩膜版的优点有：(1)遮挡层超薄，用原来厚度三分之一的遮挡层厚度就达到3级以上光学密度，减少了遮挡层中物料的使用量。(2)吸收率高，大部分反射光能陷于纳米凸起，有利于光刻线条形貌品质的提升。(3)工艺过程与传统掩膜兼容，制作成本低。(4)图形化去除遮挡层后露出的透光部分，纳米凸起具有减反增透作用，而且由于其超小结构，将不影响入射波面的传输，对接近式和投影式光刻均能适用。(5)具有大带宽和角度不敏感的吸波特性。
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公开(公告)号：CN102798918A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201110136699.0
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。
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公开(公告)号：CN102789021A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210319494.0
申请日：2012-08-31
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/26
Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括三种颜色的像素阵列，每种颜色的像素结构包括基底、位于基底之上的金属层、位于金属层上的介质层以及位于介质层上的二维金属光栅层，所述金属层的厚度大于可见光在该金顺层内的趋肤深度，所述像素结构的表面等离子体共振频率为该像素颜色的补色光频率。该反射式滤光片基于减色原理进行滤光，不仅具有高光能利用率、低的角度敏感性，同时具有对偏振不敏感的特点。
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公开(公告)号：CN101546004B
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN200910031267.6
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：所述彩色滤光层为级联亚微米光栅，由二维亚微米级介质光栅和金属光栅级联构成，所述介质光栅位于近基板侧，介质材料的折射率大于1.65，所述金属光栅位于远离基板侧，同一位置的上、下两种光栅除光栅深度外的结构参数相同；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明的彩色滤光片TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，提高输出光的纯度，能进行超大幅面的制造，便于批量化生产，且便于设计为柔性可控的彩色滤光片。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101551482B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200910028285.9
申请日：2009-01-24
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构彩色滤光片及其制作方法，滤光片包括：透明基底、位于该基底上的三色像素阵列，其特征在于：所述三色像素阵列由光栅阵列构成，所述光栅阵列由介质层和金属层构成，金属层位于介质层的外面，每一光栅的周期与其滤光的颜色相对应，三种周期的光栅分别用于对入射光中的红、绿、蓝三色进行滤光。其制作是在透明基底上依次涂布介质层和金属层，并且使该介质层和金属层形成凹凸的光栅结构。本发明只需改变光栅的周期，就可获得针对R、G、B三色的透射光谱，降低了加工彩色滤光片的难度；获得的滤光片具有合适的透射光谱，色纯度好；偏振光透过率高。
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公开(公告)号：CN101546003A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910031264.2
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种光栅结构彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：在所述基板上覆盖有介质膜层，该介质膜材料的折射率大于1.65，所述彩色滤光层为亚微米埋入式光栅结构，光栅由金属层和低折射率介质层构成，所述金属层位于近基板侧，所述低折射率介质层位于远离基板侧，介质材料的折射率小于1.65；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明基于亚微米埋入式金属光栅结构，其TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，输出光的纯度高，能进行超大幅面的制造。
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公开(公告)号：CN109445003B
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN201811553001.3
申请日：2018-12-18
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了彩色立体成像光学装置，包括微图文层，所述微图文层包括阵列排布的透明微图文单元，所述透明微图文单元与透明微图文单元之间设置有不透明背景层；背光模组，其位于微图文层的一侧，所述背光模组为微图文层提供均匀的光照；微聚焦层，其位于微图文层的另一侧，所述微聚焦层包括阵列排布的微聚焦单元，所述微聚焦层与所述微图文层之间设置有间隔层；通过所述微聚焦层能够裸眼观测到立体的、彩色的、放大的微图文图像。其能够形成彩色立体图像，裸眼可看，宽视场，立体感逼真，在立体成像和显示领域具有应用前景。
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公开(公告)号：CN105814402B
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201380081848.5
申请日：2013-11-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
CPC classification number: G02B21/0032 , G02B21/082 , G02B21/367 , G02B26/0833 , G02B27/58
Abstract: 一种连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统，包括计算机（34）、光源（12）、可变标度的傅立叶变换光路、位相分光器件（9）、双远心投影光学系统（19）、大数值孔径物镜（30）、样品平台（32）和面阵相机，特征为：傅立叶变换光路包括第一傅立叶变换透镜或透镜组（8）与第二傅立叶变换透镜或透镜组（10），位相分光器件（9）置于两者之间，与第二傅立叶变换透镜或透镜组（10）之间的距离连续可调，具有绕傅立叶变换光路的光轴旋转的运动自由度。该连续可调结构光照明的超分辨显微成像方法与系统可灵活实现连续可变空频的干涉条纹，用于共焦显微光学系统的结构光场照明，实现空间超分辨率成像；在纳秒频闪分幅照明模式下，不仅可实现超分辨率显微成像，提升纳米检测可靠性和检测速度，还可进行样品的动态检测分析，实现瞬态纳米结构的检测。
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