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公开(公告)号：CN111474708B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202010302886.0
申请日：2020-04-16
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种反常环形连接的涡旋阵列掩模板的设计方法，结合两个重建的螺旋相位因子和两个锥透镜复透过率函数，得到该反常环形连接的涡旋阵列掩模板的复透过率函数，通过计算机将上述复振幅透过率函数加载至空间光调制器中即可产生所需的光环上局域涡旋分布可控且涡旋总数保持不变的反常环形连接的涡旋阵列的掩模板。并使用该掩模板产生光环上涡旋分布可控且涡旋总数不变的反常环形连接的涡旋阵列,用以应对微粒操纵领域尤其是对不同大小微粒进行同时捕获的需求。
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公开(公告)号：CN109917546B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201910270267.5
申请日：2019-04-04
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种可自由调控的中心对称涡旋光束掩模板的设计方法，结合一个中心对称螺旋相位因子，一个锥透镜透过率函数和一个闪耀光栅，得到该中心对称涡旋光束掩模板的复透过率函数t；将该复透过率函数t通过计算机加载到空间光调制器中，即得到可自由调控的中心对称涡旋光束掩模板。本发明所设计的掩模板可以实现在该掩模板的远场产生光瓣大小以及光环半径可调的中心对称涡旋光束；其光环上左右两侧的光瓣大小由相位重建因子PRF控制，其光环半径大小由锥透镜的锥角大小来控制，因而在微粒操纵领域中具有非常重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN109491081B
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201811561419.9
申请日：2018-12-19
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种斜线压缩相位阶跃的涡旋光束掩模板的设计方法，步骤如下：结合一个求余函数、一个平面波因子和二值径向截止因子，得到该涡旋光束掩模板的透过率函数T，通过选取不同参数值m、K与a1，带入所述的透过率函数T即可获得所述的斜线压缩相位阶跃的涡旋光束掩模板。通过该设计方法制作的掩模板可产生了斜线压缩相位阶跃的涡旋光束。这种斜线压缩相位阶跃的涡旋光束其奇点成螺旋形分布，且压缩斜线的斜率控制着奇点排布的螺旋度，提供了一种前所未有的新型光场模式分布，在微粒操纵领域具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN108121067B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201711443997.8
申请日：2017-12-27
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 本发明公开了一种多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板的设计方法，包括以下步骤：步骤一、将两个椭圆坐标系下拓扑荷不同的整数阶的螺旋相位因子Ev1、Ev2相结合，得到Ev1+Ev2，对Ev1+Ev2求相位，得到angle(Ev1+Ev2)；步骤二、得到多缺口椭圆完美涡旋的螺旋相位因子Ev，Ev的表达式为：Ev＝exp[i·angle(Ev1+Ev2)]，其中，angle(.)表示对复数求相位的函数；将螺旋相位因子Ev与椭圆锥透镜复透过率函数ta相结合，得到光电场表达式taEv；步骤三、根据计算全息技术，使光电场表达式taEv与平面波Ep干涉后，求模取平方，得到干涉光强图，该干涉光强图即为多缺口椭圆完美涡旋光束掩模板掩模板t。使用本发明所设计的掩模板能够产生任意缺口的椭圆完美涡旋光束。
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公开(公告)号：CN111474708A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN202010302886.0
申请日：2020-04-16
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种反常环形连接的涡旋阵列掩模板的设计方法，结合两个重建的螺旋相位因子和两个锥透镜复透过率函数，得到该反常环形连接的涡旋阵列掩模板的复透过率函数，通过计算机将上述复振幅透过率函数加载至空间光调制器中即可产生所需的光环上局域涡旋分布可控且涡旋总数保持不变的反常环形连接的涡旋阵列的掩模板。并使用该掩模板产生光环上涡旋分布可控且涡旋总数不变的反常环形连接的涡旋阵列,用以应对微粒操纵领域尤其是对不同大小微粒进行同时捕获的需求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108681084B
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201810292290.X
申请日：2018-04-03
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种可自由调控的角向艾里光束掩模板的设计方法，结合一个角向艾里光束的复振幅、一个圆锥透镜因子和一个闪耀光栅的相位，得到角向艾里光束掩模板复振幅透过率函数t，后根据计算全息原理对所述的掩模板复振幅透过率函数t求相位即可得到可自由调控的角向艾里光束掩模板，本发明所设计的掩模板可以实现在该掩模板的远场产生主瓣空间位置和旁瓣数量可自由调控的角向艾里光束。其主瓣的空间位置与旁瓣的数量由各自的参数分别控制，可自由调控角向艾里光束的主瓣的空间位置和旁瓣数量，因而在微操纵技术中具有非常重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN110472294A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201910658671.X
申请日：2019-07-19
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种嫁接涡旋光束的掩模板的设计方法，结合了一个嫁接螺旋相位因子和一个闪耀光栅以及一个锥透镜透过率函数，得到该嫁接涡旋光束掩模板的复透过率函数tG，所述的闪耀光栅用于分离所需的嫁接涡旋光束与零级光斑；将该复透过率函数通过计算机加载到空间光调制器中，即可产生所述的嫁接涡旋光束的掩模板。本方法，可以实现在该掩模板的远场产生一种光扳手力可局部自由调控的嫁接涡旋光束，通过改变两个或多个嫁接的光学涡旋的拓扑荷可自由控制该嫁接涡旋光束环上的局部光扳手力的大小和方向，因而在微粒操纵领域具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN109828370A
公开(公告)日：2019-05-31
申请号：CN201910062168.8
申请日：2019-01-24
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种镜像对称光学涡旋光阱掩模板的设计方法，步骤如下：步骤一、结合一个经过非对称复合相位操作的螺旋相位因子、一个径向能流因子和一个初相因子，得到该涡旋光束掩模板的复透过率函数E，步骤二、将上述复透过率函数E与闪耀光栅叠加得到镜像对称光学涡旋光阱掩模板，通过该设计方法获得的掩模板，在其远场可产生镜像对称光学涡旋光阱，实现了光学扳手与静态光镊的有机结合，可通过改变径向能流参数的大小控制光阱捕获范围，在粒子操纵领域具有非常重要的价值。
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公开(公告)号：CN109668906A
公开(公告)日：2019-04-23
申请号：CN201910095088.2
申请日：2019-01-31
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 针对现有技术中的膜层激光损伤阈值测量存在较大的主观因素，导致测量的膜层激光损伤阈值不准确，本发明提供一种用于测定光学膜层激光损伤阈值的测量方法及装置，其光输出系统输出的测量光束通过光束分束装置分为完全相同的两束光束；其中的一束输入至用于记录光束强度的光束质量诊断系统中；另一束光束照射在光学膜层上；当该照射在光学膜层上的光束强度达到或超过膜层损伤的阈值，则该光信息采集装置中接收到带有光学膜层基底元素的谱线，根据光束质量诊断系统中的光束能量、光斑直径确定该光学膜层的损伤的阈值。本发明极大的提高了光学膜层激光损伤阈值测量的准确性。
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公开(公告)号：CN109491081A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811561419.9
申请日：2018-12-19
Applicant: 河南科技大学
CPC classification number: G02B27/0012 , G02B27/0988
Abstract: 一种斜线压缩相位阶跃的涡旋光束掩模板的设计方法，步骤如下：结合一个求余函数、一个平面波因子和二值径向截止因子，得到该涡旋光束掩模板的透过率函数T，通过选取不同参数值m、K与a1，带入所述的透过率函数T即可获得所述的斜线压缩相位阶跃的涡旋光束掩模板。通过该设计方法制作的掩模板可产生了斜线压缩相位阶跃的涡旋光束。这种斜线压缩相位阶跃的涡旋光束其奇点成螺旋形分布，且压缩斜线的斜率控制着奇点排布的螺旋度，提供了一种前所未有的新型光场模式分布，在微粒操纵领域具有重要的应用价值。
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