一种锗晶片去胶清洗装置

    公开(公告)号:CN220942109U

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202322462824.8

    申请日:2023-09-12

    Abstract: 本实用新型公开了一种锗晶片去胶清洗装置,包括装置箱,所述装置箱的顶端固定有安装罩。该锗晶片去胶清洗装置使用时,将晶片工件放置在操作台的顶端,接着控制第二气缸启动,三组弧形夹板同时向内移动,将晶片固定在操作台顶端,控制驱动电机启动利用啮合的驱动齿轮和齿圈带动海绵盘转动,同时控制水泵启动,将装置箱内部的清洗剂抽出并利用出液管输送至集水管内部,再由集水管内侧的喷洒头喷出在锗晶片上,之后控制第一气缸启动输出端向下伸出,并带动海绵盘下移至晶片工件的顶端,转动的海绵盘配合清洗剂使用对晶片上的胶进行湿洗去胶,不容易存在残留胶,解决的是不便于对锗晶片外部进行去胶清洗操作的问题。

    一种全自动切割装置
    32.
    实用新型

    公开(公告)号:CN220946103U

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202322810764.4

    申请日:2023-10-19

    Abstract: 本实用新型涉及切割技术领域,尤其涉及一种全自动切割装置,包括底座,所述底座内部滑动连接有活动板,所述活动板内部固定连接有电机二,所述活动板内部分别转动连接有锥齿与两个辅助锥齿,所述辅助锥齿侧壁固定连接有螺杆二,所述螺杆二侧壁螺纹转动连接有连接板,所述连接板上端固定连接有夹板,所述底座上端固定连接有壳体,所述壳体内部滑动连接有板块,所述板块下端安装有切割组件,所述活动板下端固定连接有储水箱。通过电机二带动锥齿进行转动,锥齿转动的同时带动两个辅助锥齿与螺杆二进行转动,使得连接板带动夹板在活动板上端进行移动,对锗单晶片进行自动夹持,同时通过壳体,可以隔绝在切割时的锗单晶片,从而对操作人员进行防护。

    一种便于分离回收处理装置

    公开(公告)号:CN220887638U

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202322804885.8

    申请日:2023-10-19

    Abstract: 本实用新型涉及废锗泥回收处理技术领域,具体涉及一种便于分离回收处理装置,包括机架,所述机架的左端顶部固定连接有管道,所述管道的顶部安装有过滤盒一,所述过滤盒一的顶部安装有预处理系统,所述预处理系统的前侧安装有仓门一,所述预处理系统与仓门一铰接,所述预处理系统的内腔安装有滚筒,所述预处理系统的后侧安装电机,所述电机的输出端连接滚筒,所述滚筒与预处理系统转动连接。本实用新型通过预处理系统可对物料进行初步处理,过滤盒一可快速将物料与杂质分离开,细处理系统可将物料中的通过水和氢氧化钠以帮助更好的分离和回收,过滤器可帮助物料进行过滤,去除杂质和有机物,可以减少资源的浪费和环境污染。

    一种红外单晶片镜片清洗装置

    公开(公告)号:CN220239442U

    公开(公告)日:2023-12-26

    申请号:CN202321769703.1

    申请日:2023-07-07

    Abstract: 本实用新型涉及清洗装置技术领域,且公开了一种红外单晶片镜片清洗装置,包括底座;设置在底座顶部的箱体;设置在箱体正面的箱门;以及设置在底座顶部的清洗机构,所述清洗机构包括水箱、水泵、U型管、网板一和网板二,所述水箱固定安装在底座的顶部,所述水泵固定安装在水箱的顶部,所述U型管设置在箱体的内部,所述网板一和网板二皆设置在U型管的内部;本实用新型通过打开箱门将待清洗的镜片放置到网板一的顶部,启动水泵将水箱内部的水输送进行U型管,从而对镜片的顶部和底部进行冲洗,再启动气缸,气缸带动网板二下移夹住镜片,增加冲洗的力度,从而达到全面清洗的目的,该装置清洗干净,操作便捷,且清洗效率高。

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