公开(公告)号：CN101630623B

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN200910164111.5

申请日：2004-04-26

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 野路伸治 ,  佐竹彻 ,  曾布川拓司 ,  金马利文 ,  田山雅规 ,  吉川省二 ,  村上武司 ,  渡边贤治 ,  狩俣努 ,  末松健一 ,  田部丰 ,  田岛凉 ,  远山敬一

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01L21/66 ,  G01N23/225

Abstract: 本发明提供一种用于进一步提高SEM方式的检查装置的检查速度、即提高生产率的方式。检查基板的表面的检查装置在电子源(25·1)产生的电子形成交叉后，向试样W的方向以期望的倍率成像来形成交叉。在使该交叉通过时用开口从该交叉中去除作为噪声的电子，将该交叉设为期望的倍率，将该交叉调整为平行的电子束并以期望的断面形状来照射基板。形成电子束，使得此时的电子束的照度不匀在10％以下。从试样W放出的电子由检测器(25·11)来检测。

公开(公告)号：CN101689495A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880024126.5

申请日：2008-06-24

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 金马利文 ,  草宏明 ,  藤井将喜

IPC: H01L21/304 ,  B24B9/00

CPC classification number: B24B49/12 ,  B24B9/065 ,  B24B37/005

Abstract: 本发明具备：载置台(20)，用于保持衬底W；载置台旋转机构(40)，用于使载置台旋转；研磨头(42)，用于研磨保持在载置台上的衬底的周缘部；控制部(70)，控制载置台(20)、载置台旋转机构(40)及研磨头(42)的动作；图像取得部(61)，通过与衬底的周缘部相对配置的至少1个末端摄像部(60)取得该衬底的周缘部的图像；图像处理部(62)，处理来自图像取得部的图像；及液体喷射部(51)，向衬底的周缘部喷射具有透光性的液体，在衬底的周缘部和末端摄像部之间充满液体。

公开(公告)号：CN303134218S

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：CN201430116366.6

申请日：2014-04-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 木下将毅 ,  金马利文

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为研磨垫。2.本外观设计产品安装在化学机械抛光装置的研磨台上，用于研磨半导体晶圆等。3.本外观设计为针对同一产品的2项相似外观设计，其中指定设计1为基本设计。4.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。5.指定设计1俯视图为最能表明设计要点的视图。6.设计1和设计2中的各后视图因与各自的主视图相同而被省略，各左视图因与各自的右视图相同而被省略。

公开(公告)号：CN305270233S

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201930081272.2

申请日：2019-02-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 木下将毅 ,  金马利文

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：研磨垫。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于研磨基板。
3．本外观设计产品的设计要点：整体形状和结构。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：俯视图。
5.本外观设计产品的后视图与主视图相同，左视图与右视图相同，故省略本外观设计产品的后视图、左视图。

公开(公告)号：CN305270232S

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201930081264.8

申请日：2019-02-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 木下将毅 ,  金马利文

Abstract: 1．本外观设计产品的名称：研磨垫。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于研磨基板。
3．本外观设计产品的设计要点：整体形状和结构。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1俯视图。
5.本外观设计产品中，各设计的后视图与主视图相同，左视图与右视图相同，故省略本外观设计产品中各设计的后视图、左视图。
6.本外观设计产品为相似外观设计，设计1是基本设计。