磁体合金粉末与其磁体的制造方法

    公开(公告)号:CN103831435B

    公开(公告)日:2018-05-18

    申请号:CN201410044652.5

    申请日:2014-01-27

    Inventor: 永田浩

    Abstract: 本发明公开了一种磁体合金粉末与其磁体的制造方法。磁体合金粉末的制造方法依次包括铸造合金、氢破粉碎和气流粉碎,其中,对氢破粉碎之后、气流粉碎之前的合金粉末进行筛分,筛分的目数为1目以上、100目以下。磁体的制造方法是将气流粉碎后制得的粉末进行取向成型,然后烧结成磁体。本发明的制造方法有效去除合金粉末中存在的大颗粒粉末,降低烧结磁体中晶粒异常长大(AGG)发生的情况,提高磁体的性能,特别是方形度和耐热性获得飞跃性的提高。

    一种稀土烧结磁铁的表面处理方法

    公开(公告)号:CN106935390A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201511025722.3

    申请日:2015-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种稀土烧结磁铁的表面处理方法,包括以下步骤:1)稀土烧结磁铁工件进行前处理;2)将经过前处理的所述工件用混合有纳米金属氧化物的有机封闭材料封闭处理,成膜;3)对成膜的所述工件在真空环境或惰性气氛环境中进行热处理;4)降温,取出工件获得。该方法可方便地在稀土烧结磁铁的表面形成固化薄膜,保证工艺稳定性,其操作简单,可同时处理大批量的磁铁,适用工业化生产。

    对R-T-B系磁体进行Dy扩散的方法、磁体和扩散源

    公开(公告)号:CN103985534B

    公开(公告)日:2016-08-24

    申请号:CN201410238574.2

    申请日:2014-05-30

    Inventor: 永田浩 张建洪

    Abstract: 本发明公开了对R?T?B系磁体进行Dy扩散的方法、磁体和扩散源,为包括在处理室内配置R?T?B系烧结磁体的准备工程、在同一处理室内的Dy扩散源的准备工程和使Dy扩散源蒸发到烧结磁体的Dy扩散工程的方法,其特征在于:所述Dy扩散源为排列在高熔点金属网中的Dy颗粒或Dy合金颗粒,所述Dy颗粒或Dy合金颗粒的粒径在0.5~2mm。本发明通过将充填在高熔点金属网中的粒径在0.5~2mm的Dy颗粒或Dy合金颗粒替代Dy板或Dy合金板使用,以节省Dy材料的使用量。

    以钕铁硼磁片制造复合磁体的方法

    公开(公告)号:CN103839669B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201410077547.1

    申请日:2014-02-28

    Inventor: 张炜 永田浩

    Abstract: 本发明提供了一种以钕铁硼磁片制造复合磁体的方法,包括下列步骤:将复数个表面粗糙度Ra小于10.0μm磁片组合;并依靠自重和/或加压的方式使磁片互相接触,其中,磁片之间接触面的压强达到0.002kg/cm2~100.0kg/cm2;以600℃~1100℃的温度对组合的磁片进行1.0h~24.0h的热处理。本发明的方法以磁片作为基本单元,经热压粘结过程将复数个磁片组合成复合磁体。本发明的方法可实现:1)将基于晶界扩散工艺制造的钕铁硼磁片制成任意厚度的复合磁体;2)生产过程具有很高的生产效率;3)减少重稀土元素的使用量,有效降低成本;4)所制造的复合磁体具有高磁性能或特殊磁性能且满足工业使用的力学性能要求。

    一种复合含有Gd和Mn的稀土磁铁

    公开(公告)号:CN105118595A

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201510540034.4

    申请日:2015-08-28

    Inventor: 永田浩 张建洪

    Abstract: 本发明公开了一种复合含有Gd和Mn的稀土磁铁,所述稀土磁铁含有R2Fe14B型主相,其包括如下的原料成分:R:28wt%~33wt%,R为至少包括Nd和Gd的稀土元素,其中,Gd含量为0.3wt%~5wt%,B:0.8wt%~1.3wt%,Mn:0.02wt%~0.4wt%,以及余量为T和不可避免的杂质,所述T为主要包括Fe和18wt%以下Co的元素。该种稀土磁铁通过添加德热纳因子(De Gennes)高的Gd,克服由于Mn进入主相,导致居里温度和磁各向异性降低的缺陷,对于低氧含量、微小结晶的磁铁而言,可更好的发挥添加Mn所带来的技术效果。

    一种控制气流磨装置气流的方法和气流磨装置

    公开(公告)号:CN103990539B

    公开(公告)日:2015-11-11

    申请号:CN201310756664.6

    申请日:2013-12-31

    Abstract: 本发明公开了一种控制气流磨装置气流的方法和气流磨装置,包括恒压供气装置和带有侧喷口和底喷口的粉碎室,所述侧喷口和所述底喷口具有一共同进气口,所述共同进气口经由至少两条分别设置管道阀的管道连接所述恒压装置,每一管道分别具有不同的直径,且上一级较大管道的直径均为下一级较小管道的直径1.5~4倍,通过所述最大管道流入的气体流量或通过所述全部管道流入的气体流量之和为所述气流磨装置的设定流量。本发明的气流磨装置通过逐步提高高速气体的流速,避免将大颗粒粉末吹到分选轮处。

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