导电性构件、电子照相设备和处理盒

    公开(公告)号:CN104662482A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201280075943.X

    申请日:2012-10-18

    CPC classification number: G03G15/0233 G03G15/0818 G03G15/1685

    Abstract: 提供具有不由于加工条件而变化的均匀电阻的导电性构件。该导电性构件包括导电性支承体和导电性弹性层。弹性层为包含电子导电剂和粘结剂聚合物的混合物,或该混合物的固化物;并且电子导电剂包含满足以下特性的炭黑。(i)平均一次粒径为20nm-30nm(包括端值)。(ii)DBP吸油量为40ml/100g至70ml/100g(包括端值),以及通过热气产生分析产生的CO和CO2的总量基于炭黑为0.30质量%-0.80质量%(包括端值)。(iii)通过热气产生分析产生的SO2的量基于炭黑为0.05质量%以上。

    充电构件和充电构件的生产方法

    公开(公告)号:CN103097963B

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201180042392.2

    申请日:2011-08-25

    CPC classification number: G03G15/0233 Y10T428/31504 Y10T428/3154

    Abstract: 提供一种充电构件,其在表面自由能保持低水平的情况下显示增强的表面硬度,并且即使当长期使用时其表面也难以划伤以及不易受到调色剂等的粘附的影响。所述充电构件装配有导电性支承体和导电性弹性层二者,并且具有包含由化学式(1)表示的化合物的固化物的表面区域:[其中,n是整数0-6,m是整数0-6,n和m之和是2-6;x和y各自独立地是整数0-4;以及R1和R2各自独立地为氢原子或甲基]。

    充电构件
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103080850B

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201180040356.2

    申请日:2011-07-25

    CPC classification number: G03G15/0233 Y10T428/24413 Y10T428/24421

    Abstract: 提供即使当长期使用充电构件时带电性能也几乎不变化的充电构件。充电构件包括导电性支承体、弹性层和表面层。弹性层以至少部分球状颗粒露出弹性层表面的方式包含球状颗粒,由此使弹性层的表面粗糙化。球状颗粒包含选自由球状二氧化硅颗粒、球状氧化铝颗粒和球状氧化锆颗粒组成的组的至少一种颗粒。弹性层的表面以使所述弹性层的表面形状反映在所述充电构件的表面形状上的方式覆盖有表面层。表面层包含具有特定构成单元的高分子化合物。

    充电构件
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103210353A

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN201180054546.X

    申请日:2011-11-08

    CPC classification number: G03G15/0233 Y10T428/31855

    Abstract: 提供一种充电构件,即使当长期使用时也很少受到源自显影剂的组分的粘着,并且具有抑制压缩永久变形的发生的弹性层。所述充电构件包括导电性支承体和导电性弹性层,其中通过用电子束照射包含含有丙烯腈丁二烯橡胶和苯乙烯丁二烯橡胶的橡胶混合物的交联产物的橡胶层表面来形成所述弹性层,并且苯乙烯丁二烯橡胶具有1,2-乙烯基键以及顺式-1,4键和/或反式-1,4键,且包含相对于1,2-乙烯基键、顺式-1,4键和反式-1,4键的总摩尔数为31至61摩尔%的量的1,4-键。

    充电构件
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103154830A

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201180049815.3

    申请日:2011-09-29

    CPC classification number: G03G15/0233 Y10T428/25 Y10T428/31931

    Abstract: 本发明提供一种充电构件,即使当长期连续施加直流电压时,所述充电构件的电阻也不容易变化,结果,可以展示充电性能随时间很少变化。所述充电构件具有导电性支承体和导电性弹性层。所述弹性层包含硫化橡胶。所述硫化橡胶是下述混合物的硫化产物,所述混合物包括:包含具有丁二烯骨架的聚合物的粘结剂聚合物、和炭黑。所述具有丁二烯骨架的聚合物具有被由式(1)或(2)表示的基团改性的末端。

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