公开(公告)号：CN115327867A

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN202211253404.2

申请日：2022-10-13

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 王洪庆 ,  孙琦 ,  张嘉晨 ,  汤孟博 ,  杨臻垚 ,  詹兰馨 ,  马程鹏 ,  沈小明 ,  曹春 ,  匡翠方 ,  刘旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种高速高精度对准的激光直写光刻方法与装置，使用位移台与转镜同步运动算法，首先基于激光器产生激光束，基于电光/声光调制器实现激光强度高速调制，基于任意波形发生器产生高速调制信号控制；然后启动位移台，按照预设路径移动，经过预设触发位置时产生触发信号；再基于数据采集卡采集触发信号，获得触发后打开转镜触发激光器，基于转镜位置激光器获得转镜扫描起始点信号，用于启动任意波形发生器输出高速调制信号；最后位移台匀速移动到下一个触发位置产生触发信号，直到位移台预设路径移动结束，完成刻写。本发明基于位移台与转镜同步运动算法，有效解决了现有激光直写光刻系统无法实现高速高精度对准的问题。

公开(公告)号：CN114721233A

公开(公告)日：2022-07-08

申请号：CN202210643609.5

申请日：2022-06-09

Applicant: 之江实验室

Inventor： 罗昊 ,  匡翠方 ,  刘旭 ,  李海峰 ,  孙琦 ,  魏震

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种基于光纤器件的光场生成装置及单波长超分辨光刻系统，将单一飞秒光源输出光分为两路，其中一路通过元器件的色散将激光脉冲宽度展宽至皮秒量级，另一路通过引入色散补偿模块使激光脉冲宽度保持在飞秒量级。通过光纤模式选择耦合器的调制，将飞秒脉冲激光调制为高斯型激发光，并将皮秒脉冲激光调制为环形抑制光。通过输出的组合光斑和光刻胶的特性，使光刻的最小特征尺寸缩减到衍射极限以下。由于采用同一波长不同脉冲宽度的激光作为激发光和抑制光，避免了由于系统中元器件色差引起的光斑不重合等问题。本发明通过配合光刻胶特性实现突破衍射极限的高精度刻写，整个系统结构简单，抗外界干扰能力强。

公开(公告)号：CN114019766A

公开(公告)日：2022-02-08

申请号：CN202111266973.6

申请日：2021-10-28

Applicant: 之江实验室 ,  浙江大学

Inventor： 匡翠方 ,  杨顺华 ,  朱大钊 ,  孙秋媛 ,  孙琦 ,  刘锡 ,  刘旭

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置，该装置主要包含激发光和抑制光两路光，激发光路包含核心元件数字微镜阵列DMD、微透镜阵列MLA和连续变形镜DM，抑制光路包括核心元件空间光调制器SLM。本发明利用微透镜阵列MLA产生千束激发光点阵，利用高速连续变形镜DM矫正系统波前像差，实现点阵分布均匀性和光斑质量的优化，利用数字微镜阵列DMD对点阵的开关、强度进行独立调控，抑制光路通过空间光调制器SLM产生四束光，四束光在物镜焦平面干涉产生的点阵暗斑用于涡旋抑制光，与激发光点阵在物镜焦平面重合后形成千束PPI点阵，可实现大面积复杂三维结构的超分辨高通量灵活刻写。