通过反应性离子蚀刻使表面结构化的方法、结构化表面和用途

    公开(公告)号:CN102712526A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201080062909.X

    申请日:2010-11-24

    Abstract: 本发明涉及表面结构化方法,即通过用反应性离子蚀刻在材料(1),特别地玻璃表面上形成至少一组图案或不规则性(2),该图案或不规则性具有亚微米高度H和至少一个亚微米或者微米的被称为宽度的横向特征维度W,特征在于该方法包括以下步骤:提供所述具有至少等于100nm的厚度的材料,该材料是固体混合材料并包含单一的Si氧化物或者混合的Si氧化物,在材料中的氧化物摩尔百分比为至少40%,尤其为40-99%;和至少一种与氧化物的Si不同性质的物质,其尤其为金属,其中在该材料中的所述一种或多种物质的摩尔百分比为从1%直至50%,并且低于所述氧化物的百分比,同时所述物质的至少大部分具有小于50nm的最大特征维度,尤其所述混合材料在蚀刻之前是亚稳定的,在蚀刻之前任选地加热所述混合材料,在大于1cm2的表面上使所述混合材料的表面结构化低于一小时,直至形成所述图案的组,该结构化步骤任选地包括加热混合材料。

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