公开(公告)号：CN107908086B

公开(公告)日：2021-01-22

申请号：CN201711122043.7

申请日：2017-11-14

Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 朱鹏飞 ,  浦东林 ,  朱鸣 ,  邵仁锦 ,  吕帅 ,  张瑾 ,  袁晓峰 ,  陈林森

IPC: G03F9/00

Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。

公开(公告)号：CN112132948A

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN201910490271.2

申请日：2019-06-06

Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 朱鸣 ,  朱鹏飞 ,  浦东林 ,  邵仁锦 ,  吕帅 ,  徐顺达

IPC: G06T17/00 ,  G06F30/20 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种图像处理方法，该方法的具体步骤包括：S1：建成灰度模型图；S2：计算灰度模型图X方向的扫描线的集合；S3：计算X轴扫描线集合中每一条扫描线与灰度模型图的所有交点的坐标，并分组；S4：计算扫描线集合中相应区间的每一条扫描线的每一组交点内的所有像素点的物理高度；S5：转换各区间所有像素点的灰度值得到灰度位图。本发明还公开一种图像处理装置，设有上述图像处理方法；本发明还公开本发明还公开一种光刻系统，包括执行上述图像处理方法；本发明还公开一种计算机可读存储介质，包括储存上述图像处理方法。通过计算图像中每个像素点的灰度值，可以实现任一幅面具有立体浮雕效果的结构的图像处理。

公开(公告)号：CN111290217A

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201811489966.0

申请日：2018-12-06

Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 朱鹏飞 ,  李恒 ,  王冠楠 ,  徐顺达 ,  浦东林 ,  王勤兴 ,  吕帅 ,  邵仁锦

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开一种用于光刻基片的承载台，包括基片承载部件，基片承载部件包括至少一个用于放置基片的放置区，放置区一侧设有至少两个标识放置结构，用于放置对位标识元件。本发明还公开一种光刻机，包括上述承载台、用于连接该承载台的工作台，工作台包括固定平台、调节转台，调节转台底部连接固定平台，调节转台顶部连接上述用于光刻基片的承载台，用于调节上述承载台上基片的角度。本发明还公开一种基片光刻方法，通过上述光刻机光刻放置在上述承载台上基片的正方两面。通过标识放置结构，使带有标识的元件可以重复使用，无需在每块待刻的基片上写入对位标识，简化了制作流程，节约了成本。

公开(公告)号：CN211786586U

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN202020503405.8

申请日：2020-04-08

Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 吕帅 ,  徐顺达 ,  王冠楠 ,  朱鹏飞 ,  浦东林

IPC: G03F7/20

Abstract: 本实用新型公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本实用新型还公开了一种光刻设备，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN210348197U

公开(公告)日：2020-04-17

申请号：CN201921717535.5

申请日：2019-10-14

Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 徐顺达 ,  吕帅 ,  王冠楠 ,  朱鹏飞 ,  浦东林

IPC: G03F7/20

Abstract: 本申请涉及一种温度控制装置，安装于激光直写设备上，激光直写设备包括架体、设置在架体内用以进行激光直写的工作区域、位于工作区域上方的密闭区域、位于工作区域下方的温控区域及与工作区域、温度控制装置信号连接的控制器，温度控制装置包括：温度传感器，设置在工作区域内以检测工作区域内的温度；冷水机，与温度传感器信号连接；风道机构，竖向设置在工作区域内且连接温控区域及密闭区域；冷凝翅片，设置在温控区域内且连接冷水机及风道机构；风扇，设置在风道机构上；风机过滤器，设置在密闭区域内且用以将流向至工作区域的气流过滤。本申请的温度控制装置能够集成至激光直写设备上，且控温精度高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN210477815U

公开(公告)日：2020-05-08

申请号：CN201921298333.1

申请日：2019-08-12

Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 朱鸣 ,  徐顺达 ,  吕帅

IPC: B29C64/106 ,  B29C64/20 ,  B29C64/264 ,  B29C64/255 ,  B29C64/386 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  B33Y50/00

Abstract: 本实用新型涉及一种3D打印系统，包括3D打印设备及与3D打印设备信号连接的数据处理装置，数据处理装置向3D打印设备发送图案信息，3D打印设备包括：树脂槽，用以盛放树脂液体；载物台，可伸入至在树脂槽内；移动机构，驱动载物台相对树脂槽移动；光学机构，发出光线以将载物台上方的树脂液体固化成型；其中，光学机构包括光源、DMD光调制器和微缩镜筒，光源发出光线至DMD光调制器，DMD光调制器接收图案信息并调制接收到的光线，微缩镜筒将DMD光调制器调制后的光线缩放并投影至树脂槽内以将载物台上方的树脂液体固化成型。本实用新型通过数据处理装置、DMD光调制器及微缩镜筒三者之间的配合，可实现高精度的小尺寸模型的快速打印，快捷方便。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN212160348U

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN202020803584.7

申请日：2020-05-14

Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 吕帅 ,  徐顺达 ,  王冠楠 ,  朱鹏飞

IPC: G03F7/20 ,  H02H5/00

Abstract: 本实用新型公开了一种具有断电保护装置的光刻设备，包括基座、设置在所述基座上的平台、设置在所述平台上方的光刻机构、用于实现所述光刻机构相对于所述平台运动的驱动机构，以及用于在所述光刻机构超出预设运动行程时实现所述驱动机构断电的断电保护装置。通过上述结构，能够在运动失控时及时实现运动停止，防止光刻机构因脱离而飞出造成的损坏。