电桥、处理器单元、信息处理装置以及存取控制方法

    公开(公告)号:CN101326501B

    公开(公告)日:2010-12-15

    申请号:CN200780000633.0

    申请日:2007-01-11

    CPC classification number: G06F12/1475 G06F12/1081

    Abstract: 提供一种存取技术,在从周边设备对处理器的存储器进行存取中,可以追求高效率并实现安全性。地址变换单元(14)包括地址变换表,该地址变换表用于将有效地址变换为物理地址。地址变换表在处理器单元(10)的存储器中将分配给各个周边设备(30)的区域的有效地址、和被提供了对该有效地址的存取许可的存取源识别信息相关联地存储。在从周边设备(30)被存取时,地址变换单元(14)以存取请求分组中所包含的、可唯一地识别该周边设备(30)的设备识别信息,和地址变换表中的、与由该地址请求分组所指定的有效地址对应的存取源识别信息一致作为条件,决定对于该有效地址的存取许可。

    共有存储器装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1941159A

    公开(公告)日:2007-04-04

    申请号:CN200610143173.4

    申请日:2006-09-04

    CPC classification number: G11C5/025 G11C7/10 G11C7/1006

    Abstract: 本发明提供一种能够简化到达存储器的布线、能够防止面积增加和长距离布线所引起的性能下降并能够实现存储器的高速存取的共有存储器装置。处理模块(21)的输入输出端口(211)、各存储器接口(222、232)、各存储体(221-1~221-n、231-1~231-n)通过在Y方向(第1方向)及X方向(第2方向)上以矩阵状(栅格状)方式布线的连接布线连接到多个存储器宏(221、231)的配置区域(的上层)。对连接布线,多层布线指令信息布线(指令地址布线)和数据布线(写数据线和读数据线,或共用布线)。

    光盘
    24.
    发明授权
    光盘 失效

    公开(公告)号:CN1284161C

    公开(公告)日:2006-11-08

    申请号:CN03801274.X

    申请日:2003-08-05

    CPC classification number: G11B7/24056 G11B7/24038

    Abstract: 本发明提供了一种光盘,其由一基底、一记录层以及一保护层构成。激光束被施加到该保护层上。该基底的直径大于50mm。记录层形成在该基底上。保护层形成在该记录层之上,厚度小于该基底。记录/再现激光束被施加到该保护层上。该光盘的总厚度大于0.7mm。

    光盘
    25.
    发明公开
    光盘 失效

    公开(公告)号:CN1610941A

    公开(公告)日:2005-04-27

    申请号:CN03801387.8

    申请日:2003-08-26

    CPC classification number: G11B7/24094 G11B7/24067 G11B23/40

    Abstract: 本发明涉及一种用作光盘驱动装置中记录媒质的光盘,其具有在设置于盘基板(110)一个面上的记录层上形成的透明保护膜(120)和在盘基板另一个面上形成的、具有与透明保护膜(120)的膜质量和膜结构相同的印刷标记膜(130)。印刷标记膜(130)是主要由聚碳酸酯制成的合成树脂膜,这与透明保护膜相类似,并通过丝网印刷等形成在盘基板上。由于光盘的相对面具有相同的膜质量和膜结构,这样可防止因光盘厚度方向上的结构不对称性所致的变形造成发生偏斜。通过在盘基板的另一个面上设置印刷标记膜,光盘具有显现其中记录的信息内容的功能。

    光学记录媒体
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1274151A

    公开(公告)日:2000-11-22

    申请号:CN00108349.X

    申请日:2000-05-12

    CPC classification number: G11B7/2542 G11B7/2534 G11B7/2548

    Abstract: 一种光学记录媒体,防止在其光透射层上产生擦伤或变形,以保证最佳记录和/或复制。该光学记录媒体包括一个0.3mm至1.2mm厚度的基片、和一个3μm至177μm厚度、粘结到记录层上的光透射层。通过从光透射层侧照射光可以记录和/或复制信息。表面处理的光透射层按照维氏硬度具有不小于3HMV的硬度。另外,表面处理的光透射层当用毫微压痕法测量时具有不小于0.5GPa的硬度和不小于4GPa的杨氏模量。

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