公开(公告)号：CN1444105A

公开(公告)日：2003-09-24

申请号：CN03119572.5

申请日：2003-03-11

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 关秀也 ,  米洼政敏

IPC: G03G15/04 ,  H05B33/12 ,  G03G15/01 ,  G02B3/00

CPC classification number: B41J2/451

Abstract: 本发明涉及一种小型、工作距离长、串扰少的有机EL阵列曝光头等光印写头、其制作方法及使用其的图像形成装置，该光印写头将来自有机EL阵列等发光元件阵列的发光部2的调制光束或透过光闸元件阵列的光闸部2的调制光束投射到载像体11上，在载像体11上形成规定的图案，该光印写头是在与发光元件阵列的各个发光部2或光闸元件阵列的各个光闸部2对应的对齐位置上配置球形透镜10而成。

公开(公告)号：CN2697694Y

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：CN03240436.0

申请日：2003-03-11

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 关秀也 ,  米洼政敏

IPC: G03G15/04 ,  H05B33/12 ,  G03G15/01 ,  G02B3/00

CPC classification number: B41J2/451

Abstract: 本实用新型涉及一种小型、工作距离长、串扰少的有机EL阵列曝光头等光印写头及使用该光印写头的图像形成装置，该光印写头具有透明层和载像体，在透明层的表面或其中按预定周期配置有发光部或光闸部从而构成发光元件阵列或光闸元件阵列，该光印写头将来自有机EL阵列等发光元件阵列的发光部2的调制光束或透过光闸元件阵列的光闸部2的调制光束投射到载像体11上，在载像体11上形成规定的图案，该光印写头是在与发光元件阵列的各个发光部2或光闸元件阵列的各个光闸部2对应的对齐位置上配置球形透镜10而成。