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公开(公告)号：CN104634285A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201510090258.X
申请日：2015-02-28
Applicant: 河南科技大学
IPC: G01B11/30
Abstract: 一种对比度值可调控的散斑产生装置及其产生方法，包括一连续波激光器，在该连续波激光器的光束前进方向上依次设有光束缩放器、起偏器、光阑、空间光调制器、检偏器、傅里叶透镜、CCD相机，经空间光调制器后产生的散斑场信息经CCD相机成像后，存储进计算机；所述的空间光调制器和CCD相机分别与计算机相连，所述的空间光调制器上的图像由计算机写入；所述的光束缩放器用于控制照射在空间光调制器上的激光束束腰尺寸；所述的空间光调制器位于傅里叶透镜的前焦平面上，所述的CCD相机位于傅里叶透镜的后焦平面上。并且具有原理简洁、装置简单、可在线调控的优点；本发明可广泛应用于激光散斑照明显微技术和散斑对比度值测试技术等领域。
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公开(公告)号：CN103954367A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410159072.0
申请日：2014-04-18
Applicant: 河南科技大学
IPC: G01J9/00
Abstract: 一种测量分数阶光学涡旋拓扑荷值的装置及其测量方法，包括利用计算机全息技术将生成计算全息图写入空间光调制器的步骤；采用迈克尔逊干涉光路和四步相移技术获得涡旋光束的包裹相位图的步骤；利用相位图去包裹算法解析出涡旋光束的真实相位θ的分布，再由拓扑荷的定义m=θ/2π计算得到任意分数阶精度的拓扑荷值m。本发明装置及方法能实现分数阶涡旋光束任意阶(0.1阶)精度的拓扑荷值的测量，将涡旋光束拓扑荷值的测量从目前的半整数阶（0.5阶）精确到任意阶；可广泛应用于玻色-爱因斯坦凝聚、量子通信、信息编码与传输、粒子囚禁、光镊、光扳手等领域的拓扑荷值测量。
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公开(公告)号：CN102632434B
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201210142221.3
申请日：2012-05-10
Applicant: 河南科技大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 柱体工件磁流变抛光系统，主要由数控主轴装置、抛光主体、磁场发生装置和液体循环装置组成，抛光主体的一端顶在顶尖轴上，另一端与数控主轴连接，数控主轴带动抛光主体运动至循环抛光池上方，启动磁场发生装置，保证柱体工件母线处各点所受的磁场力相同；下压携带抛光主体的数控主轴，使得柱体工件与磁流变抛光液接触；启动液体循环装置使液体沿同一方向流动，启动主轴电机，在磁场的作用下使磁流变液体变成半固体状态的柔性抛光磨头对柱体工件进行抛光，该系统在液体循环装置中设置液体回流管调整磁流变抛光液朝同一方向有序流动，磁流变抛光液进入抛光池与工件有相对运动时，工件表面会受到大小一致的磨削力，使得加工后的柱面工件粗糙度更小，表面更加均匀一致。
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公开(公告)号：CN102683179A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210188942.8
申请日：2012-06-11
Applicant: 河南科技大学
IPC: H01L21/02
Abstract: 一种基于SLiM-Cut技术制备超薄硅片的方法，在硅衬底上印上一层厚度为20mm青铜浆层，干燥后放入快速退火炉，加热到720℃之后，保温10秒，然后停火冷却；取出后在硅衬底上青铜层的表面印制厚度为40mm的锌浆层，干燥后放入快速退火炉中，加热到720℃之后，保温10秒，然后停火冷却，使硅衬底表面与青铜层相结合的硅层从硅衬底上剥离；放入化学蚀刻液中，将锌层和青铜层腐蚀溶解，取出剩余的硅层，清洗后晾干，即得到厚度为30-50mm的超薄硅片。本方案退火温度较低，降低了能源消耗；以青铜和锌为丝印层，均为传统的材料，便于进行大规模化生产，利于降低成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102135413A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN201010605603.6
申请日：2010-12-14
Applicant: 河南科技大学
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于相位涡旋的数字散斑相关测量方法。首先，利用数字散斑相关测量光路获得被测物体移动前、后两个状态的散斑光强图像；然后利用拉盖尔-高斯复数滤波器对这两幅图像进行滤波获得光强复数信号；分别提取出它们的实部零值线与虚部零值线的交叉点，得到被测物体移动前、后两个状态的相位涡旋分布；计算出相应的拓扑电荷分布数据矩阵；最后，对这两个数据矩阵进行相关运算，得到被测物体的位移信息。该方法能有效消除背景噪声及高频噪声对相关测量可靠性的影响，测量精度可达到亚像素级；并且具有简单易行、快速准确的特点，可广泛应用于无损检测等领域。
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公开(公告)号：CN118915310A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411250331.0
申请日：2024-09-06
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种Mathieu几何模式的掩模板的设计方法，步骤如下：选用螺旋Mathieu模式作为基底，在m和n的控制下，将一个螺旋Mathieu模式扩展成一组相干模式，根据稳定相干态的表示方法，获取Mathieu几何模式的电场表达式，结合Mathieu几何模式的振幅、相位与一个闪耀光栅，得到Mathieu几何模式的掩模板的透过率函数，即得到Mathieu几何模式的掩模板，本发明所设计的掩模板可以产生一种具有丰富几何形状的Mathieu几何模式，调整椭圆率相关参数e可以通过坐标拉伸实现不同坐标系之间的变换，从而有效打破了旋转对称性的限制，显著提高了几何模式的调控自由度。因而在空间结构光场及复杂微粒操作领域具有非常重要的应用前景。
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公开(公告)号：CN116859586A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310625119.7
申请日：2023-05-30
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种可定制任意形状结构光掩模板的设计方法，步骤如下：基于全息塑形技术和本轮模型，获取可定制任意形状结构光束的电场表达式，结合该光束的振幅、相位与一个闪耀光栅，得到该可定制任意形状结构光束掩模板的复透过率函数，基于该复透过率函数所描述的掩模板即为所述的可定制任意形状结构光掩模板。本发明所设计的掩模板可以产生一种可定制任意形状的结构光。结构光的拓扑荷值可控，并可以根据实际需求产生振幅和相位沿任意预设轨迹分布的结构光，相比之前的光束塑形技术，极大的提升了结构光的可控性。
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公开(公告)号：CN115032789B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202210470422.X
申请日：2022-04-28
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种可控生长的环状叉形光束掩模板的设计方法，结合不同零阶拉盖尔‑高斯光束的相位、振幅与一个闪耀光栅，得到可控生长的环状叉形光束掩模板的复透过率函数，通过计算机将上述掩模板的复透过率函数加载至空间光调制器中即可得到可控生长的环状叉形光束掩模板。本方案所设计的可控生长的环状叉形光束掩模板在远场产生结构长度可控的环状叉形光束。环状叉形结构由叠加的拉盖尔高斯光束决定，包括叠加光束的个数N决定环状叉形结构的长度，相邻叠加光束之间的拓扑荷值m的差值决定环状叉形结构的分叉数目，叠加光束的相位因子决定生长的叉形结构的指向。
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公开(公告)号：CN112180590B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202011055791.X
申请日：2020-09-28
Applicant: 河南科技大学
Abstract: 一种花状光学涡旋阵列掩模板的设计方法，结合花状光学涡旋阵列的振幅、相位与一个闪耀光栅，得到花状光学涡旋阵列掩模板的复透过率函数，通过计算机将上述花状光学涡旋阵列掩模板的复透过率函数加载至空间光调制器中即可得到花状光学涡旋阵列掩模板。本发明利用计算全息原理，通过计算机编码得到花状光学涡旋阵列的振幅调制相位掩膜板，可产生形状和涡旋数量、符号可控的花状光学涡旋阵列，因而在微操纵领域中的多微粒捕获领域具有重要的应用价值。
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