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公开(公告)号：CN103046073B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201210556011.9
申请日：2012-12-20
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料及制备方法，它是利用电镀、电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积氮化物，以形成一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料。本发明采用铁基材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低。在其上面镀一层铜增加导电性，并作为过渡层增加表面氮化物层的膜基结合强度，表面的氮化物层具有耐腐蚀、耐磨、强度硬度高、电阻率较小的优点，能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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公开(公告)号：CN102936724B
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201210479338.0
申请日：2012-11-23
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铝合金表面镍基合金层的强化方法，该方法将一定比例的稀土La和Ce掺入镍基合金粉末中，通过激光表面熔覆技术，使铝合金表面获得呈冶金结合的高硬度和高耐磨耐腐蚀性的镍基合金层，硬度可达1350HV，耐磨性和耐腐蚀性能，较现有技术分别提高一倍。这对拓展铝合金的应用范围，扩大铝合金在尖端领域的应用将有重要作用。
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公开(公告)号：CN104141110A
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201410349439.5
申请日：2014-07-22
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种金属表面沉积铁+钒+钛+氮化钛的多层混合纳米强化层的制备工艺，是利用磁控溅射技术，在铁基材料表面依次沉积纳米级厚度的铁+铁-钒+钒+钒-钛+钛+钛-氮化钛的混合过渡层；最后再复合沉积纳米级的氮化钛强化层，形成结合力良好的多层混合过渡的复合强化层。本发明利用各种金属原子固溶度概念，寻求无限互溶且本身强度较高的合金元素作为过渡层，采用磁控溅射在金属材料基材表面沉积混合纳米过渡层，最后沉积氮化钛形成多层混合纳米强化层，使形成的过渡层成分梯度分布平缓，残余内应力较小，大大增加了膜基结合强度，增强了与基体的的结合力，可以充分发挥表面氮化钛金属陶瓷薄膜的耐腐蚀、耐磨损、高硬度的特点。
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公开(公告)号：CN104120395A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410349445.0
申请日：2014-07-22
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在铁基材料表面沉积铁+铬+钼+钛+氮化钛的混合多层纳米强化层的工艺，是利用磁控溅射技术，在铁基材料表面依次沉积纳米级厚度的混合过渡层，混合层铁和铬、铬和钼、钼和钛之间没有明显的分界线，为混合逐步形成的过渡层，最后再复合沉积纳米级的氮化钛强化层，形成结合力良好的复合强化层。本发明采用磁控溅射在铁基材料表面沉积铁+铬+钼+钛+氮化钛的多层纳米强化层，形成的过渡层成分梯度分布平缓，残余内应力较小，大大增加了膜基结合强度，增强了与基体的结合力，其硬质陶瓷薄膜的特点，具有耐腐蚀、耐磨损、化学稳定性好、韧性好、低应力等优点，能够大幅度提高工件耐磨性，耐腐蚀性等性能。
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公开(公告)号：CN103029370A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201210556119.8
申请日：2012-12-20
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铁基、纯铜过渡层和表面纯金属钼或金属钨涂层的电极材料及制备方法，它是利用电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积金属钼或金属钨，以形成一种铁基、铜过渡层和表面金属钼或金属钨涂层的新型电极材料。本发明采用铁基材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低。在其上面镀一层铜增加导电性，并作为过渡层增加表面纯金属钼（或者金属钨）层的膜基结合强度，表面纯金属钼（或者金属钨）具有耐腐蚀、强度硬度较高、电阻率较小的优点，能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102943189A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN201210479659.0
申请日：2012-11-23
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种新型真空高压铜铬系触头材料的制备方法，它是将冶金熔炼的铜-铬合金，利用激光束快速扫描铜-铬合金表面，进行表面重熔，制备出晶粒细小，均匀弥散的呈颗粒状铬合金的新型触头材料。采用该方法制作的铜铬系触头致密度高，均匀性好，结合强度高，杂质含量低，能有效地提高真空开关的可靠性。
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公开(公告)号：CN104120425B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410350863.1
申请日：2014-07-22
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C23C24/10
Abstract: 本发明公开了一种铝合金表面激光熔覆稀土氧化钇+铝+铁基合金复合熔覆层的工艺，是在铝合金表面首先涂覆一层稀土氧化钇+铝+铁基自熔合金粉末层，然后利用激光束扫描该粉末层，使得该涂覆层发生熔融，并熔覆在铝合金表面，形成一层稀土氧化钇+铝+铁基自熔合金熔覆层。该熔覆层与基体材料之间为冶金结合，具有较强的结合力，较少的金属组织缺陷，并可较大幅度提高材料表面的结合力及硬度、耐磨、耐蚀、耐冲击、抗氧化性等性能。
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公开(公告)号：CN104404508B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201410673502.0
申请日：2014-11-24
Applicant: 桂林电子科技大学
CPC classification number: Y02P10/295
Abstract: 本发明公开了一种铝合金结构件的激光增材制造方法，其特征是：将自制的氩气保护装置放置在工作台上，内部放置铝合金基材，预先充入高纯氩气，使腔内氧含量小于70μＬ∕Ｌ。利用特制送粉装置将一定的质量配比混合均匀的Al、铁基合金、稀土La2O3等超细金属粉末喷射到激光束产生的熔池中，形成与基材冶金结合的激光熔覆层。然后通过每一层的数控加工程序实现逐层激光熔覆，最终得到三维金属零件。从而制造出具有快速凝固组织特征的高性能、全致密、形状复杂的铝合金结构件。该制造方法的制造成本低、制造周期短、材料利用率高、性能稳定，可快速制作复杂零部件并较大幅度提高铝合金结构件的结构强度，减少合金内部气孔、裂纹、残余应力等组织缺陷。
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公开(公告)号：CN103643203B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310572296.X
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在铁基LED引线支架表面沉积铜+钨复合涂层的工艺，它是利用磁控溅射镀或多弧离子镀或射频溅射镀技术，在铁基引线支架表面首先沉积一定厚度的纯铜，之后，再沉积一层纯钨，形成铜+钨复合涂层。该技术可替代原来电镀铜，再电镀银的引线支架，具有导电、散热、防氧化、防潮、可焊性等方面的优良性能，涂层附着力好，制造成本低，彻底解决了电镀存在的环境污染问题。
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公开(公告)号：CN103628055B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310572298.9
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C23C24/10
Abstract: 本发明公开了一种在铝或铝合金表面激光熔覆稀土CeO2-Ni60合金复合涂层的工艺，利用激光表面熔覆技术，在铝合金表面首先涂覆一层稀土CeO2-Ni60自熔合金粉末，然后用激光扫描该粉末层，使该粉末层熔融，并熔覆在铝合金表面，形成一层稀土CeO2-Ni60自熔合金层熔覆层。本发明采用铝及铝合金作为基体材料，利用激光表面熔覆技术制备出高性能的稀土CeO2-Ni60自熔合金熔覆层，使熔覆层与基体材料之间实现良好的冶金结合，提高材料的耐磨、耐蚀、抗氧化性等性能。
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